【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
制备下式化合物或其盐的方法：＊＊＊式中Ｒ↑［１］是由卤素，低级烷基，低级烷氧基，卤代（低级）烷基，低级烷基氨基，低级烷硫基，芳氧基，羧基，酯化的羧基，羧（低级）烷基或酯化的羧（低级）烷基所取代的苯基；环（低级）烷基；可由羧基或酯化的 羧基取代的低级烷基，或可由低级烷基取代的杂环基；Ａ是低级亚烷基，ｎ是０或１，Ｒ↑［２］是氢或低级烷基，Ｒ↑［３］是氢；羟基；卤素；卤代（低级）烷基；低级烷基；低级烷氨基；酰氨基；酰基（低级）烷氨基；可由芳基，保护的氨基，杂环 基，氨基羧基，酯化的羧基取代的低级烷氧基；可由氨基（低级）烷基或保护的氨基（低级）烷基取代的环（低级）烷基；或可由羧基或酯化的羧基取代的环（低级）烷氧基，Ｒ↑［４］是氢或卤素，Ｒ↑［５］是氢或卤素，如果Ｒ↑［１］是由低级烷氧基，低级 烷氨基，低级烷硫基，芳氧基，羧基，酯化的羧基，羧（低级）烷基或酯化的羧（低级）烷基所取代的苯基羧基或酯化的羧基取代的低级烷基；或低级烷基取代的杂环基，Ｒ↑［３］为氢或卤素，本方法包括（１）下式化合物或其在氨基上的反应衍生物或其盐 ...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：奥照夫，藤堂荣司郎，笠原千，中村克哉，切浩，桥本真志，
申请(专利权)人：藤药品工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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