头孢菌素衍生物的制备方法技术

本发明专利技术是关于式Ｉ的酰基衍生物和这些化合物的易水解的酯或盐，以及式Ｉ的化合物或它们的酯或盐的水合物：还包括制备这些化合物及含它们的制剂的方法。产品具抗微生物活性。（*该技术在2007年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于式Ⅰ的酰基衍生物或这些化合物的易水解的酯类或盐类和式Ⅰ化合物或其酯类或盐类的水合物 式Ⅰ中，m为零、1或2，R1为氢或一种酰基;R2为氢，低级烷氧基，氨基，低级烷硫基或低级烷酰氨基;R31为氢，低级烷基，低级链烯基，C3-C7环烷基，卤代-低级烷基或卤代-苯基;Z为R30-C或氮;R30为氢或卤素，或R30与R31一起代表1个C3-C5亚烷基，一个C2-C4亚烷基单氧基或一个C1-C2亚烷基二氧基;R32为氢，卤素，低级烷基或可被取代的含一，二或三个氧、氮和/或硫原子的5或6元杂环;R33为氢或卤素，或R32和R33一起代表一个C1-C4亚烷二氧基基团。本说明书中所用的术语“低级烷基”或“烷基”意指为含1到8，最好为1到4个碳原子的直链和支链的饱和的烃基，例如，甲基、乙基、正-丙基，异丙基，叔丁基等。本文中，术语“低级烷氧基”或“烷氧基”意指直链或支链的烃氧基，其中“烷基”部分为如前所定义的低级烷基。范例为甲氧基、乙氧基，正-丙氧基等。本文中的术语“卤”或“卤素”代表其所有4种卤素，即氯、溴、碘或氟，除非另有注明。而术语“芳基”意指取代的或非取代的芳基部分，例如苯基，甲苯基，二甲苯基， 基，异丙苯基，萘基等等，其中所说的芳基可具有1到3个合适的取代基，例如卤素(如氟、氯、溴)，羟基等等。文中所用术语“低级链烷酰基”或“链烷酰基”意指式R25-CO-代表的基团，其中R25为氢或C1到C6烷基，该基团的例子为乙酰基，甲酰基，丙酰基，正-丁酰基等等。术语“取代的苯基”意指苯基被卤素(如氯、溴、氟)，低级烷基、氨基、硝基或三氟甲基单或双取代。术语“取代的烷基”意即被例如卤素(如氯、氟、溴)，三氟甲基、氨基、氰基等取代的“低级烷基”部分。术语“低级链烯基”或“链烯基”意指含2-6碳原子的并含一个烯属双键的直链或支链烃基，即式为CnH2n的化合物的基团，其中n为2-6，例如，烯丙基，乙烯基等等。术语“芳烷基”意即含芳香和脂肪两种结构的烃基，即烃基中低级烷基的氢原子被单环芳基，例如苯基，甲苯基等所取代。所谓“含1～4个氧、氮和/或硫原子的5、6或7元杂环”是用来代表例如6元的含氮杂环如吡啶基，哌啶基，哌啶子基，N-氧化吡啶基，嘧啶基，哌嗪基，哒嗪基，N-氧化哒嗪基等，而5元含氮的杂环例如为吡咯烷基，吡唑基，咪唑基，噻唑基，1，2，3-噻二唑基，1，2，4-噻二唑基，1，3，4-噻二唑基，1，2，3-噁二唑基，1，2，4-噁二唑基，1，3，4-噁二唑基，1，2，5-噁二唑基，1，2，3-三唑基，1，2，4-三唑基，1H-四唑基，2H-四唑基等及其他。每一个这些杂环可进一步被取代，而作为其取代基可以提及的是，例如为低级烷基，诸如甲基，乙基，正丙基等，低级烷氧基，诸如甲氧基，乙氧基等，卤素如氯，溴等，卤素取代的低级烷基如三氟甲基，三氯乙基等，氨基，巯基，羟基，氨基甲酰基或羧基等。术语“环-低级烷基”或“环烷基”意即3-7元饱和的碳环部分，如环丙基，环丁基，环己基等。R30和R31可一起为“C3-C5亚烷基”，如，-(CH2)3-，-(CH2)4-，-(CH2)5-或-CH(CH3)-(CH2)2-;或为“C2-C4亚烷基单氧基”，如-(CH2)2-O-，-(CH2)3-O-，-(CH2)4-O-或-CH(CH3)-CH2-O-;或者，也可为“C1-C2亚烷基二氧基”，如-O-CH2-O-，-O-(CH2)2-O-或-O-CH(CH3)-O-。最好形成一个5或6元稠环。R32或R33可一起表示“C1-C4亚烷基二氧基”，如-O-CH2-O-，-O-(CH2)2-O-，-O-(CH2)3-O-，-O-(CH2)4-O-，-O-CH(CH3)-O-，-O-CH(CH3)-CH(CH3)-O-等等。最好形成5或6元稠环。本文中使用的与R1有关的术语“酰基”，意为并包括从有机酸(即羧酸)通过除去其羟基后衍生的所有有机基团。虽然基团R1可为许多酰基基团中的任一个，但优选的只是某些酰基基团。作为范例的一些酰基是在过去已被用于酰化包括6-氨基青霉烷酸及其衍生物和7-氨基头孢烷酸及其衍生物的β-内酰胺抗菌素的那些酰基;例如，见由Flynn主编的Cephalosporins andPenicillins，Academic Press(1972);比利时专利866038，1978年10月17日公开;比利时专利867994，1978年12月11日公开;美国专利4152432，1979年5月1日公布;美国专利3971778，1976年7月27日公布;美国专利4173199，1979年10月23日公布。其中部分文献描述了各种酰基，作为参考资料用在本文中。下表所列的酰基是为进一步举例说明术语“酰基”，但不应被看作为限制该术语的范围。示范性的酰基有(a)具有下式的脂肪族基团R5-CO-其中R5为低级烷基，C3-C7环烷基，低级烷氧基，低级链烯基，C3-C7环烯基或环己二烯基;或被一个或多个卤素，氰基，硝基，氨基，巯基，低级烷硫基，或氰基甲硫基取代的低级烷基或低级链烯基。(b)具有下式之一的碳环芳香族基团 其中n为0、1、2或3;R6，R7和R8各自独立的为氢、卤素、羟基、硝基、氨基、氰基，三氟甲基，1至4个碳原子的烷基，1至4个碳原子的烷氧基或氨甲基;而R90为氨基，酰氨基，羟基，羧酸盐，被护的羧基，如苄氧羰基，甲酰氧基或叠氮基;而M为阳离子。优选的碳环芳香酰基包括具有下式的这些基团 (R90最好为氨基，羟基或羧酸盐或磺酸盐)适于本专利技术目的的其他酰基的例子有磺基苯基乙酰基，羟基磺酰氧基苯基乙酰基，氨磺酰苯基乙酰基，(苯氧羰基)苯基乙酰基，(对-甲苯氧羰基)苯基乙酰基，甲酰氧苯基乙酰基，羧苯基乙酰基，甲酰氨基苯基乙酰基，苄氧羰基苯基乙酰基，2-(N，N-二甲基氨磺酰基)-2-苯基乙酰基，2-溴-2-噻吩基乙酰基等等。(c)具有下式之一的杂环芳香基团R101-(CH2)n-CO- R101-O-CH2-CO-R101-S-CH2-CO-R101-CO-CO-其中n为0，1，2或3;R90定义如前;而R101为一个取代的或非取代的5，6或7元杂环，它含有1，2，3或4(最好为1或2)个氮，氧和/或硫原子。杂环的示范性例子为，噻吩基，呋喃基，吡咯基，吡啶基，吡嗪基，噻唑基，嘧啶基和四唑基。示范性的取代基为卤素、羟基、硝基、氨基、氰基，三氟甲基，1至4个碳原子的烷基或1至4个碳原子的烷氧基。优选的杂环芳香酰基包括上式中R101为2-氨基-4-噻唑基，2-氨基-5-卤代-4-噻唑基，4-氨基吡啶-2-基，2-氨基-1，3，4-噻二唑-5-基，2-噻吩基，2-呋喃基，4-吡啶基或2，6-二氯-4-吡啶基的那些基团。(d)具有下式的〔〔(4-取代的-2，3-二氧代-1-哌嗪基)羰基〕氨基〕芳基乙酰基基团 其中R111为低级烷基，羟基-低级烷基或芳香基(包括碳环芳香基)例如下式表示的这些基团 其中R6，R7和R8如前所定义;或如R101定义范围内的杂环;而R120为低级烷基或取代的低级烷基(其中低级烷基被一个或多个卤素，氰基，硝基，氨基和/或巯基所取代)，例如4-低级烷基(最好为乙基或甲基)-2，3-二氧代-1-哌嗪羰基-D-苯本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备式Ⅰ的酰基衍生物和这些化合物的易水解的酯类或盐类以及式Ⅰ化合物或其酯类或盐类的水合物的方法，＊＊＊Ⅰ其中ｍ为零，１或２，Ｒ↑〔１〕为氢或一种酰基；Ｒ↑〔２〕为氢、低级烷氧基、氨基、低级烷硫基或低级烷酰氨基；Ｒ↑〔３１〕为氢、低级 烷基，低级链烯基，Ｃ↓〔３〕－Ｃ↓〔７〕环烷基，卤代低级烷基或卤代苯基；Ｚ为Ｒ↑〔３０〕－Ｃ或氮；Ｒ↑〔３０〕为氢或卤素，或Ｒ↑〔３０〕与Ｒ↑〔３１〕一起代表一个Ｃ↓〔３〕－Ｃ↓〔５〕亚烷基，一个Ｃ↓〔２〕－Ｃ↓〔４〕亚烷基单氧基或一个Ｃ↓〔１〕－Ｃ↓〔２〕亚烷基二氧基；Ｒ↑〔３２〕为氢，卤素，低级烷基或可被取代的含一，二或三个氧、氮和／或硫原子的５－或６－元杂环；Ｒ↑〔３３〕为氢或卤素，或Ｒ↑〔３２〕和Ｒ↑〔３３〕一起代表一个Ｃ↓〔１〕－Ｃ↓〔４〕亚烷基二氧基基团；该方法包括：（ａ）为制备式Ⅰ的羧酸的易水解的酯，将式Ⅱ化合物与式Ⅲ的羧酸的盐反应，＊＊＊Ⅱ其中，ｍ，Ｒ↑〔１〕和Ｒ↑〔２〕定义如前，Ｈａｌ为卤素，而Ｒ↑〔１〕为一种易水解的酯的残基，＊＊＊Ⅲ其中Ｒ↑〔３１〕，Ｒ↑〔３２〕和Ｒ↑〔 ３３〕定义如前；或者（ｂ）为制备式Ⅰ的羧酸，将式Ⅳ的酯转变为式Ⅰ的羧酸，＊＊＊Ⅳ其中ｍ，Ｒ↑〔１〕，Ｒ↑〔２〕，Ｒ↑〔３１〕，Ｒ↑〔３２〕和Ｒ↑〔３３〕定义如前，Ｒ为酯保护基；或者（ｃ）为制备式Ⅰ的化合物（其中ｍ为零），将式 Ⅴ的化合物还原：＊＊＊Ⅴ其中，Ｒ↑〔１〕，Ｒ↑〔２〕，Ｒ↑〔３１〕，Ｒ↑〔３２〕和Ｒ↑〔３３〕的定义如前；或者（ｄ）为制备式Ⅰ的化合物（其中ｍ为１或２）或其酯或盐，将式Ⅵ的化合物或其酯或其盐氧化，＊＊＊Ⅵ其中，Ｒ↑〔１〕 ，Ｒ↑〔２〕，Ｒ↑〔３１〕，Ｒ↑〔３２〕和Ｒ↑〔３３〕定义如前，虚线表示存在△２和△３双键；或者（ｅ）为制备式Ⅰ的化合物或其酯或盐，式中Ｒ↑〔１〕为基团＊＊＊其中，Ｒ↑〔１３０〕的定义如权利要求８的规定，而Ｒ↑〔１０２〕为一种氨 基取代的５－，６－或７－元杂环，它含有１，２，３或４个氮、氧和／或硫原子，则可将式Ⅶ的化合物（或其酯或盐）的Ｒ↑〔１０３〕取代基中的氨基保护基裂解，＊＊＊Ⅶ其中ｍ，Ｒ↑〔２〕，Ｒ↑〔３１〕，Ｒ↑〔３２〕，Ｒ↑〔３３〕定义如前，Ｒ↑〔 １３０〕同权利要求８的规定，而Ｒ↑〔１０３〕与前述Ｒ↑〔１０２〕相同，只是氨基取代基已被保护，或者（ｆ）为制备式Ⅰ化合物的易水...

【技术特征摘要】
US 1986-7-3 881,5551.制备式Ⅰ的酰基衍生物和这些化合物的易水解的酯类或盐类以及式Ⅰ化合物或其酯类或盐类的水合物的方法，其中m为零，1或2，R1为氢或一种酰基；R2为氢、低级烷氧基、氨基、低级烷硫基或低级烷酰氨基；R31为氢、低级烷基，低级链烯基，C3-C7环烷基，卤代低级烷基或卤代苯基；Z为R30-C或氮；R30为氢或卤素，或R30与R31一起代表一个C3-C5亚烷基，一个C2-C4亚烷基单氧基或一个C1-C2亚烷基二氧基；R32为氢，卤素，低级烷基或可被取代的含一，二或三个氧、氮和/或硫原子的5-或6-元杂环；R33为氢或卤素，或R32和R33一起代表一个C1-C4亚烷基二氧基基团；该方法包括(a)为制备式Ⅰ的羧酸的易水解的酯，将式Ⅱ化合物与式Ⅲ的羧酸的盐反应，其中，m，R1和R2定义如前，Hal为卤素，而R1为一种易水解的酯的残基，其中R31，R32和R33定义如前；或者(b)为制备式Ⅰ的羧酸，将式Ⅳ的酯转变为式Ⅰ的羧酸，其中m，R1，R2，R31，R32和R33定义如前，R为酯保护基；或者(c)为制备式Ⅰ的化合物(其中m为零)，将式Ⅴ的化合物还原其中，R1，R2，R31，R32和R33的定义如前；或者(d)为制备式Ⅰ的化合物(其中m为1或2)或其酯或盐，将式Ⅵ的化合物或其酯或其盐氧化，其中，R1，R2，R31，R32和R33定义如前，虚线表示存在△2和△3双键；或者(e)为制备式Ⅰ的化合物或其酯或盐，式中R1为基团其中，R130的定义如权利要求8的规定，而R102为一种氨基取代的5-，6-或7-元杂环，它含有1，2，3或4个氮、氧和/或硫原子，则可将式Ⅶ的化合物(或其酯或盐)的R103取代基中的氨基保护基裂解，其中m，R2，R31，R32，R33定义如前，R130同权利要求8的规定，而R103与前述R102相同，只是氨基取代基已被保护，或者(f)为制备式Ⅰ化合物的易水解的酯，可将式Ⅰ的羧酸进行相应的酯化，或者(g)为制备式Ⅰ化合物的水合物或盐类或该盐类的水合物，将式Ⅰ化合物转变为盐或水合物，或转变为该盐的水合物。2.制备权利要求1中所述的化合物(其中m为零，R2为氢)的方法，其特征在于应用已相应取代了的起始原料。3.制备权利要求1或2中所述的化合物的方法，其中Z为R30-C，而R30为氢或卤素，R31为低级烷基，卤代-低级烷基或C3-C7环烷基，R32为低级烷基，哌嗪基或低级烷基哌嗪基，而R33为氢或卤素;其特征在于应用已相应取代了的起始原料。4.制备权利要求3中所述的化合物的方法，其中R30为氢或氟，R31为乙基，氟乙基或环丙基，R32为哌嗪基或4-甲基哌嗪基，而R33为氢或氟;其特征在于应用已相应取代的起始原料。5.制备权利要求1-4中之一所述的化合物的方法，其中R1为一选自以下基团的酰基(a)具有下式的脂肪族基团其中，R5为低级烷基，C3-C7环烷基，低级烷氧基，低级链烯基，C3-C7环状链烯基或环己二烯基;或被一个或多个卤素、氰基、硝基、氨基、巯基、低级烷硫基，或氰基甲硫基取代的低级烷基或低级链烯基;(b)具有下式之一的碳环芳香族基团其中n为0，1，2或3;R6，R7和R8为氢，卤素，羟基，硝基，氨基，氰基，三氟甲基，1至4个碳原子的烷基，1至4个碳原子的烷氧基或氨甲基;而R90为氨基，酰氨基，羟基，羧酸盐，保护了的羧基，甲酰氧基或叠氮基;而M为阳离子;(c)具有下式之一的杂环芳香基团R101-(CH2)n-CO-R101-O-CH2-CO-R101-S-CH2-CO-R101-CO-CO-其中，n为0，1，2或3;R90定义如前;R101为一个取代的或非取代的含1、2、3或4个氮、氧和/或硫原子的5-，6-或7-元杂环;(d)下式的〔〔(4-取代的-2，3-二氧代-1-哌嗪基)羧基〕氨基〕芳基乙酰基其中，R111为低级烷基，羟基-低级烷基或下式的芳基，其中R6，R7和R8如前定义，或为前面对R101所定义的杂环;而R120为低级烷基或取代的低级烷基(其中低级烷基被一个或多个卤素，氰基，硝基，氨基和/或巯基所取代);(e)下式的(取代的氧亚氨基)-芳基乙酰基团其中R101定义如前，R130为氢，低级烷基，C3-C7环烷基，羧基-C3-C7-环烷基或取代的低级烷基〔其中低级烷基被一个或更多的下述基团所取代卤素，氰基，硝基，氨基，巯基，低级烷硫基，芳基(如前述R111所定义)，羧基(包括其盐)，低级链烷酰氨基，低级烷氧羰基，苯基甲氧羰基，二苯基甲氧羰基，羟基-低级-烷氧基氧膦基，二羟基氧膦基，羟基-(苯基甲氧基)-氧膦基和/或二低级烷氧基氧膦基取代基等〕。(f)下式的(酰氨基)芳基乙酰基其中，R111定义如前，而R140为(其中R6，R7，R8和n的定义如前)，氢，低级烷基，取代的低级烷基，氨基，低级烷氨基，(氰烷基)-氨基或酰氨基;和(g)具有下式的〔〔〔3-取代的-2-氧代-1-咪唑烷基〕羰基〕氨基〕芳基乙酰基;其中R111定义如前，而R15为氢，低级烷基磺酰基，-N＝CHR111(其中R111定义如前)，R16CO-(其中R16为氢，低级烷基或卤素取代的低级烷基)，一种芳香基(如前述R111所定义)，低级烷基或取代的低级烷基(其中低级烷基被一个或多个卤素，氰基，硝基，氨基和/或巯基所取代)，该方法的特征在于应用相应取代了的起始原料。6.制备权利要求1-5中之一的化合物的方法，其中R1为一种酰基，它含有下式的碳环芳香基，其中R90为氨基，酰氨基，羟基，一种羧酸盐，苄氧羰基，甲酰氧基或叠氮基;而R6，R7和R8为氢，卤素，羟基，硝基，氨基，氰基，三氟甲基，C1-C4烷基，C1至C4烷氧基或氨甲基，该方法的特征在于，应用了相应地取代了的起始原料。7.制备权利要求6的化合物的方法，其中R6，R7和R8为氢而R90为氢或羟基;该方法的特征在于应用了相应的取代了的起始原料。8.制备权利要求1-5中之一的化合物的方法，其中R1为下式的一种酰基，其中R101为非取代的或取代的含1，2，3或4个氮，氧和/或硫原子的5-，6-或7-元杂环，其中杂环可被下述基团所取代卤素，羟基，硝基，氨基，氰基，三氟甲基，C1至C4烷基或C1至C4烷氧基;而R130为氢，低级烷基，C3-C7环烷基，羧基-C3-C7-环烷基或取代的低级烷基〔其中低级烷基被一个或多个下述基团所取代卤素，氰基，硝基，氨基，巯基，低级烷硫基，芳香基(如权利要求5中R111所定义)羧基(包括其盐)，低级链烷酰氨基，低级烷氧羰基，苯基甲氧羰基，二苯基甲氧羰基，羟基-低级-烷氧基氧膦基，二羟基氧膦基，羟基(苯甲氧基)氧膦基和/或二低级烷氧基氧膦基取代基〕，该方法的特征是应用了相应取代的起始原料。9.制备权利要求1-5和8中之一的化合物的方法，其中R1为下式的一种酰基，其中R20为氢或一种氨基保护基，R21为氢，低级烷基或下式的基团，其中R22和R23为氢或低级烷基或与它们相连的碳原子一起形成3-7元碳环，该方法的特征在于应用了相应取代的起始原料。10.制备权利要求9的化合物的方法，其中R20为氢，R21为甲基或下式的基团其中R22和R23为氢或甲基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。11.制备下式的权利要求1的化合物的方法，其中R21具有权利要求9中给予的定义，而Z，R31，R32和R33具有权利要求1给予的定义，该方法的特征在于，应用了相应取代了的起始原料。12.制备权利要求1-11中之一的化合物的方法，其中R21为甲基或下式的基团;式中，R22和R23为氢或甲基，Z为R30-C，其中R30为氢或卤素，R31为低级烷基，卤代-低级烷基或C3-C7环烷基，R32为低级烷基，哌嗪基或低级烷基哌嗪基而R33为氢或卤素，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。13.制备权利要求12中的化合物的方法，其中R30为氢或氟，R31为乙基，氟乙基或环丙基，R32为甲基，4-甲基-哌嗪基或哌嗪基，而R33为氢或氟，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。14.制备权利要求1的化合物，即〔6R-〔6α，7β(Z)〕〕-7-〔〔(2-氨基-4-噻唑基)(R21-氧亚氨基)乙酰基〕氨基〕-3-〔〔〔〔6-R33，8-R30，1-R31-1，4-二氢-7-(4-R34-1-哌嗪基)-4-氧代-3-喹啉基〕羰基〕氧〕甲基〕-8-氧代-5-硫杂-1-氮杂双环〔4.2.0〕辛-2-烯-2-羧酸和其盐类、以及这些酸和盐的水合物的方法，其中R33和R30为氢或卤素，R31为氢，低级烷基或2-卤代低级烷基，R34为氢或低级烷基，R21为氢，低级烷基或下式的基团，其中R22和R23为氢或低级烷基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。15.制备权利要求14中的化合物的方法，其中R21为甲基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。16.制备权利要求15中的化合物的方法，其中R33和R30为氢或氟，R31为乙基或2-氟乙基，而R34为甲基，该方法的特征在于应用了相应的取代了的起始原料。17.制备权利要求16中的化合物的方法，其中R33和R30为氟，而R31为2-氟乙基;该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。18.制备权利要求15中的化合物的方法，其中R33为氟，R30为氢，R31为2-氟乙基，而R34为甲基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。19.制备权利要求15中的化合物的方法，其中R33为氟，R30为氢，R31为乙基而R34为甲基;该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。20.制备权利要求15中的化合物的方法，其中R33为氟，R31为2-氟乙基，R30为氢而R34为甲基;该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。21.制备权利要求8-20中之一的化合物的方法，其中基团或处于顺式，或作为以顺-式为主的混合物;该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。22.制备权利要求1中的化合物 即〔6R-〔6α，7β〕〕-3-〔〔〔〔6-R33，8-R30，1-R31-1，4-二氢-7-(4-R34-1-哌嗪基)-4-氧代-3-喹啉基〕羰基〕氧〕甲基〕-8-氧代-7-〔(苯氧乙酰基)氨基〕-5-硫杂-1-氮杂双环〔4.2.0〕辛-2-烯-2-羧酸及其盐 以及这些酸和盐的水合物的方法，其中R33和R30为氢或卤素，R31为氢，低级烷基或2-卤代低级烷基，R34为氢或低级烷基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。23.制备权利要求22中的化合物的方法，其中R33和R30为氢或氟，R31为乙基或2-氟乙基，R34为甲基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。24.制备权利要求23中的化合物的方法，其中R33和R30为氟，R31为2-氟乙基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。25.制备权利要求22中的化合物的方法，其中R33为氟，R30为氢，R31为2-氟乙基，R34为甲基;该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。26.制备权利要求22中的化合物的方法，其中R33为氟，R30为氢，R31为乙基和R34为甲基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。27.制备权利要求22中的化合物的方法，其中R33为氟，R31为2-氟乙基，R30为氢和R34为甲基，该方法的特征在于应用了相应取代了的起始原料。28.制备权利要求1中的化合物即〔6R-〔6α，7β〕〕-7-(甲酰氨基)-3-〔〔〔(6-R33，8-R30，1-R31)-1，4-二氢-7-(4-R34-1-哌嗪基)-4-氧代-3-喹啉基〕羰基〕氧〕甲基〕-8-氧代-5-硫杂-1-氮杂双环〔4.2.0〕辛-2-烯-2-羧酸和它的盐，以及这些酸和盐的水合物的方法，其中R33和R30为氢或卤素，R31为氢，低级烷基或2-卤代低级烷基，R...

【专利技术属性】
技术研发人员：哈里艾伦奥尔布雷克特，陈家刚，丹尼斯多尔顿基思，鲁道夫路德维希特恩，曼弗雷德魏格勒，
申请(专利权)人：霍夫曼拉罗奇有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]