按摩浴足盆制造技术

本实用新型专利技术提供了一种按摩浴足盆，包括盆，盆的底部向上突起，在盆的底部的凸起上套有足疗按摩器，足疗按摩器上设置有对称的两个根据人体足形特点和人体足底穴位特点的设计而成的足形按摩区，每个足形按摩区由若干个顶端呈球冠状的按摩钉组成。本实用新型专利技术的按摩浴足盆内设有足疗按摩器，足疗按摩器上设置有对称的两个根据人体足形特点和人体足底穴位特点的设计而成的足形按摩区，每个足形按摩区由若干个顶端呈球冠状的按摩钉组成。从而给人们提供一种了简便、实用又经济的按摩浴足盆，可以使人们不必再花钱外出就可以享受到足疗保健。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种按摩浴足盆，包括盆（１），其特征在于，所述盆（１）的底部（４）向上突起，在所述盆（１）的底部（４）的凸起上套有足疗按摩器（２），所述足疗按摩器（２）上设置有对称的两个根据人体足形特点和人体足底穴位特点的设计而成的足形按摩区（３），每个所述足形按摩区（３）由若干个顶端呈球冠状的按摩钉（５）组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张吉平，
申请(专利权)人：张吉平，
类型：实用新型
国别省市：15[中国|内蒙]