一种液晶盒厚测量方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术属电光功能材料制备领域，涉及一种液晶盒厚测量方法及装置。本发明专利技术方法不需要通过透射光谱的极大和极小所对应的波长值来确定液晶盒厚度，从而免去了寻找透射光谱极大和极小值的不确定性。本发明专利技术采用了汇聚光束，有利于提高信噪比。光锥在液晶盒上的截面可以很小，有利于测量盒厚的面分布。本发明专利技术采用测量装置测量液晶盒厚。所述装置包括：光源，聚光透镜，待测液晶盒，光纤耦合头，光谱测量仪。本发明专利技术采用的白光ＬＥＤ在可见光５００－５５０ｎｍ范围内具有较平坦的发光谱，从而有利于简化测量系统，同时计算也很方便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属电光功能材料制备领域，具体涉及一种液晶盒厚测量方法及装置。
技术介绍
通常液晶盒是由两块(导电)玻璃基板粘合而成，其间有间隔物(spacer)用于控 制其间隙大小。液晶盒厚就是指两块基板间隔的厚度，通常为几微米到几十微米。液晶盒 厚是液晶器件的一个重要参数，当两块基板玻璃被粘合在一起后，其间隙的厚度(盒厚)与 所用的间隔(spacer)的直径会有一定差别，有时这一差别还会很大。因此，准确测量盒厚， 对液晶器件(液晶显示器、光调制器)性能的准确掌握有重要意义。现有技术中，测量液晶盒厚的方法有将其等效为一个Fabry-Perot腔，利用多光 束干涉原理，根据透射光谱的相邻的极大(或极小)值所对应的波长，来求出液晶盒厚d，其 原理可表示为透射率是光线入射角θ、波长λ、表面强度反射率及盒厚d的函数权利要求1.一种液晶盒厚测量方法，其特征在于，不需通过透射光谱的极大和极小所对应的波 长值来确定液晶盒厚度，采用聚焦光束作为测量入射光，提高光通量及信噪比，控制透射液 晶盒的光斑大小，采用光锥平均法计算测量液晶盒厚。2.根据权利要求1所述的液晶盒厚测量方法，其特征在于，所述的计算方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶盒厚测量方法，其特征在于，不需通过透射光谱的极大和极小所对应的波长值来确定液晶盒厚度，采用聚焦光束作为测量入射光，提高光通量及信噪比，控制透射液晶盒的光斑大小，采用光锥平均法计算测量液晶盒厚。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘建华，高斌，蒲海辉，尹德金，高洪跃，戴海涛，
申请(专利权)人：复旦大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]