具有抗心律不齐药物活性的1,2-二氢化茚磺酰胺类化合物的制备方法技术

技术编号:504078 阅读:238 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
结构式如下的化合物及其盐,其中各R(相同),是-NHSO-[2](C-[1]-C-[4]烷基),-NH-[2]或-NO-[2];X是O或直接键;R+[1]是氢、C-[1]-C-[4]烷基,C-[1]-C-[4]烷氧基或卤素;n是1或2,但当X是O时,n是2;各R是-NHSO-[2](C-[1]-C-[4]烷基)的结构式(A)的化合物是抗心律不齐药。R是-NH-[2]或-NO-[2]的化合物是合成中间体。(*该技术在2008年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对基体尤其是对玻璃带材进行涂覆的方法和装置。在该方法中,其端部有狭长孔口的分布喷咀向加热基体喷射气体与粉体的混合流,其粉体受高温作用特别是在接触加热基体时分解形成涂层。这种工艺例如可直接应用于平板玻璃的生产线上,在刚生产出来的玻璃带材上涂覆一层金属氧化物,金属化合物热解使玻璃具有特殊的性能,尤其是具有反射和(或)透射光和能量的性能。粉状卤化物,例如欧洲专利0039256中所述的粉状卤化物,可用来涂覆一层锡氟氧化物,反射红外线辐射。对热玻璃带材喷射悬浮状粉体流时,只有一部分粉体在玻璃上,受高温作用而分解形成理想的金属氧化物层。为了避免装置和已形成的涂层弄脏,另一部分粉体通过同喷咀隔一段距离并平行于喷咀狭长孔口的抽吸装置排出。为了提高涂覆在热玻璃带材上粉体的比例,欧洲专利188962中提出在分布喷咀和抽吸装置之间产生和保持有至少一股粉体涡流。由于有这种旋转环流,未涂覆于基体上的粉体微粒就不会由最短的通道直接向抽吸装置传送,而相反,粉体微粒在旋转运动中被传送,在基体涂覆区的平均停留时间加长,需对基体表面多次涂覆,从而大大增加涂覆的可能性。为形成一股(或多股)涡流,涂覆区面积较大,要多次向该涂覆区输入热气体,使基体的整个涂覆区达到足够的温度,以便粉体同其接触时进行热解。但是,对于某些比较特殊的粉体来说,发现形成的涂层出现模糊现象,也就是说,涂覆有涂层的玻璃反射或透射出来的物体影像看起来如同蒙上了一层雾。通过研究可以认为,产生这种现象的原因在于位于分布喷咀喷射的粉体喷流处的粉体微粒在涂覆区的高温作用下在大气中分解并进入已形成的涂层。出现在涂覆区的这些粉体微粒,通常是由于气体粉体混合喷射流的综合效应以及形成粉体微粒迅速分解的滑流效应,通过分布喷咀被排送出基体,但是有些粉体有时并不产生足够的滑流效应,因此就在已形成的涂层上产生模糊现象。本专利技术旨在去除或至少减轻涂层的这种模糊现象,这种现象有时出现在例如玻璃这样的基体涂层上,该涂层由粉体金属化合物例如锡基和/或铟基,尤其是呈粉状的二丁锡含氧基(DBTO)、二丁锡二氟基(DBTF)以及甲酸铟基等的热解而获得。本专利技术提出,将高温下可分散的悬浮在气体中并进入气体粉体混合喷流附近的粉体和至少一股冷气流(通常是未加热的气流)分布到从喷咀狭长孔口开始的在高温下进行涂覆的基体上,并对喷咀喷射流以外的以及未涂覆于基体上的粉体直接抽吸。本专利技术还提出了能利于使未立即涂覆于基体上的和喷咀喷射流之外的粉体微粒进行环流和直接排出的较好方法,在喷咀端部附近配置有导流器以避免形成涡流。本专利技术还提出了比较好的配置是靠近基体有双向抽吸器。本专利技术也涉及涂覆室和抽吸装置,所述的涂覆室包括其端部有狭长孔口的分布喷咀,对基体尤其是玻璃基体喷射气体粉体混合喷流。所述的抽吸装置配备有热气体鼓风装置。所述的涂覆室还包括位于喷咀狭长孔口各侧的冷却气体通道。所述的抽吸装置配置在喷咀和基体附近,以便直接抽吸未涂覆于基体上的粉体。为了避免未涂覆于基体上的粉体形成涡流,涂覆室配有例如导流杆这样的导流器,该导流器靠近喷咀的狭长孔口并完全与之平行。本专利技术参照附图将会进一步的予以说明。附图示出从粉状化合物开始到玻璃带材的涂覆室。显然,只有直接将混合于从喷咀狭长孔口出来的喷流中的粉逋扛灿诨迳喜拍苁雇坎憔哂辛己玫闹柿俊7侵苯永醋耘缇着缌髦械姆厶褰胁嘞蚍稚⒁自谕扛彩业母呶麓笃饔孟路纸猓荼痉⒚鞯墓顾迹遣挥Ω没蚴导噬喜豢赡懿斡胄纬赏坎恪 为了避免这种情况,这部分粉体是不进入喷咀狭长孔口的喷流之中,而相反,则进入我们称之为侧向喷流中,它们不分解也不构成易于进入由粉体喷流所形成涂层的微粒,本专利技术提出了防止它们分解成为产生前述模糊现象的微粒并将它们迅速去除的方法。下面,对本专利技术的方法进行说明。附图示出的涂覆室1主要包括喷射气体粉末混合喷流的喷咀2,该喷咀2底部相对于基体3逐渐变尖,基体3由喷咀2的纵向狭长孔口4进行涂覆。喷咀2不在本说明书叙述,因为它已在欧洲专利125153中已作了较为详细的说明。本专利技术可喷射具有大能量的气体粉体混合喷流,这种大能量有利于获得高质量的涂层,十分完美地涂覆于基体上。基体3是例如由浮动法制造的玻璃带材,它在喷咀2处不断由辊子5传送。当基体3是玻璃时,基体3的温度大约为600℃。众所周知,涂覆室1在喷咀2的上、下方配置有热气体鼓风机6,上、下方的位置取决于涂覆的玻璃带材的进给方向,鼓风机6把热气体吹送到基体表面附近。众所周知,涂覆室1也包括抽吸装置7,该抽吸装置7是用于排出未涂覆于基体上的粉体。本专利技术的涂覆室1还包括喷咀2各侧的通向喷咀狭长孔口附近的气体通道8,所述的该气体一般是指冷空气,也就是说是未加热的空气。通道8最好同周围大气相通,或者同未示出的控制大气室相连通。利用喷咀狭长孔口输出气体粉体混合喷流能量可抽吸附近的大气,尤其有利于由通道8输入的空气或气体的环流。这种输入到喷咀狭长孔口喷流一侧的空气或气体不扰动喷咀狭长孔口的喷流,而直接在附近起冷却作用,从而可避免这样的情况,即分散于喷流侧向流中的粉体不在高温作用下分解,所述的侧向流是位于喷咀2的上、下方。然后,这种侧流中的粉体由涂覆室尽快地直接排出。这样,一方面,这些粉体可避免参与形成涂层,另一方面,还可避免沉积在装置的壁上,避免装置弄脏和涂层上出现缺陷产生剥落的危险。前面述及的抽吸装置7使未涂覆在基体上的粉体迅速而直接地排出。抽吸装置配置在喷咀2的端部附近进行抽吸,就不存在引起粉体沉积和/或形成涡流的空间。为了保证较好地排出未被利用的粉体,在气体粉体混合喷流各侧进行两级抽吸。第一抽吸箱10靠近喷咀2,下伸到基体3边缘,同喷咀端部差不多在同一高度,通过底壁12的孔11同涂覆区域相连通。所述的壁12同基体平面保持较小的倾斜度,由于该壁12的端部靠近喷咀,也就靠近基体。考虑到装置的对称性,喷咀位于对称平面,准确地说,喷咀狭长孔口4通过对称面。两个抽吸箱10同喷咀2平行配置,一个在喷咀上方,另一个在喷咀下方。第二级抽吸由第二抽吸箱13完成,第二抽吸箱13比第一抽吸箱10远离喷咀。此外,导流器14,例如圆柱形导流杆,可以安装在喷咀端部附近,以利于未利用的粉体朝抽吸箱10和13无涡流地进行环流和排出,导流器最好是沿喷咀狭长孔口4整个长度并与狭长孔口4相平行配置。另外,抽吸箱壁的底部特别是抽吸箱10的底部同倾斜壁12的连接呈流线型,以利于未涂覆在基体上的粉体的流动和直接抽吸。这样,未涂覆在基体上的、包括侧向喷流中的粉体,经通道8输送的空气(或气体)加以冷却。这些粉体还在抽吸装置7(抽吸箱10和13)的作用所控制。通过直通道流动。底壁穿孔的抽吸装置和导流器14阻止了涡流的形成。另外,由鼓风机6输送的热气体能使玻璃基体冷却速率降低,玻璃基体冷却速率过大是有碍于基体上粉体的热解,影响涂层的质量和热解的效率。输入同玻璃相接触的热气体,有助于玻璃N拢踔劣谝灿欣谑贡怀槲姆厶辶魍AП砻娣掷搿 热气体的抽吸和吹送流量可以调节到理想值。这样的涂覆室的长度比现有技术中的涂覆室的长度要小,因此,对于喷咀狭长孔口混合喷流之外的和/或未涂敷在基体上同该基体相接触的粉体来说,在基体上沉积和形成雾层的可能性就小。权利要求1.对例如玻璃带材的基体进行涂覆的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备结构式(I)的化合物及其可用作药物的盐的方法:***(I)其中R↑[1]是氢、C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基或卤素;各R↑[2](是相同的)是C↓[1]-C↓[4]烷基;X是O或直接键; n是1或2,但当X是0则n是2,此方法的特点是由结构式如下的化合物***(其中R↑[1],X和n如上所定义),与一个C↓[1]-C↓[4]烷基磺酰氯或酰溴、或一个C↓[1]-C↓[4]烷基磺酸酐反应,然后可以将结构式(I)的产物 转化成可用作药物的盐。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:彼得爱德华克罗斯约翰爱德蒙阿罗史密斯
申请(专利权)人:菲泽有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

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