固体硅石制剂制造技术

技术编号:5012466 阅读:192 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及由下述组分组成的固体硅石制剂:(A)基于制剂总重量为20-80重量%的硅石;(B)基于制剂总重量为20-50重量%的至少一种添加剂,所述添加剂选自基于聚醚的水溶性非离子表面活性添加剂、含有羧酸酯基团的水溶性表面活性添加剂、聚氨酯、基于酸性磷酸酯、膦酸酯、硫酸酯或磺酸酯的阴离子表面活性添加剂;(C)任选其他组分,其中所述其他组分不包括颜料,且所有组分(A)、(B)和(C)的总和为100重量%。此外,本发明专利技术还涉及其制备方法以及染色高分子量有机或无机材料的方法,特别是染色塑料的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】固体硅石制剂本专利技术涉及固体硅石制剂、其制备方法以及将其引入高分子量有机或无机材料如 清漆、油漆和塑料中的方法。对于液体体系如涂料、清漆、乳胶漆和印刷油墨的着色,通常使用包括水、有机溶 剂或其混合物的颜料配制剂。在本文中,通常还使用其他组分。除了阴离子、阳离子、非离 子或两性分散剂,该类配制剂通常含有其他用于设定流动性能和干燥性能的助剂,用于增 强耐寒性的试剂、增稠剂、防结皮剂和生物杀伤剂。此外,消光剂也是这类助剂的代表。基于沉淀硅石的消光剂在现有技术中是已知 的,并且具有下述缺点高孔隙率导致高度需要粘合剂和溶剂。即使在50重量%的水含量 下,这类硅石仍然是自由流动的粉末,此外,在例如涂料的使用前润湿是必须的,因而水被 从硅石的毛细管中置换出来。再者,这类沉淀硅石具有低的总体积,因此是高度撒粉的。因 为这些原因,液体分散体中的硅石通常具有很低的浓度,通常得不到> 20重量%的浓度。 消光效果也高度取决于消光剂的分散。基于热解法硅石的助剂也具有与基于沉淀硅石的消光剂相当的性能,该基于热解 法硅石的助剂用于控制流变、沉降、粘附和抗刮痕性和用于颜料稳定。通常通过合适的分散 组件如球磨机和砂磨机将其加入清漆和油漆中。因此,需要助剂,如例如基于硅石的消光剂,其不具有至少一些上述的缺点,且尤 其特征在于低撒粉、计量及调入性的高度容易和/或能够例如通过搅拌(无预先润湿)将 其直接加入清漆和油漆中。通过由下述组分组成的固体硅石制剂达成该目标(A)基于制剂总重量为20-80重量%的硅石;(B)基于制剂总重量为20-50重量%的至少一种添加剂,所述添加剂选自基于聚 醚的水溶性非离子表面活性添加剂、含有羧酸酯基团的水溶性表面活性添加剂、聚氨酯、基 于酸性磷酸酯、膦酸酯、硫酸酯或磺酸酯的阴离子表面活性添加剂;(C)如果合适,其他组分,该其他组分不包括颜料,且所有组分(A)、⑶和(C)的 总和为100重量%。实际上发现本专利技术的固体硅石制剂不具有至少一些上述的缺点。特别是借助本发 明的固体硅石制剂可能能够无尘称量和直接加入至清漆和油漆中。此外,可达到大于200g/ 1的总体积。此外,对于固体处理(颗粒),计量容易地通过计量装置完成。也可得到高的 硅石含量。本专利技术的硅石制剂无需预先润湿,且制剂不明显从水性清漆和油漆吸水,结果粘 合剂絮凝。本专利技术的固体硅石制剂特征还在于在多种成膜介质和粘合剂中高度相容,且在不 同折光指数下不明显表现出由于空气和水在孔中不可约残留引发的问题。本专利技术的固体硅石制剂包括基于制剂总重量为20-80重量%的硅石作为组分(A)。组分(A)的含量基于制剂总重量优选为30-60重量%。原则上,任意沉淀和干燥的硅石可用作组分(A)的成分。也可使用热解法硅石。如 果合适,这些硅石可在干燥后研磨,或可对其进行后处理,如蜡或硅酸盐。当然,来源不同的不同硅石也可以混合物的形式用作本说明书所述的固体硅石制剂的组分(A)。对本专利技术而言,术语“硅石”也指二氧化硅。沉淀硅石通常通过水玻璃与硫酸反应得到。热解法硅石通常借助火焰水解法通过四氯化硅与水反应,利用氯化氢气体的沉积 得到。硅石制造商的实例包括Evonik(Sipernat. ,Ultrasil 和 Sident. ,Aerosil , Aerodisp , Aeroxide , Aeroperl Acematt ), ffacker ChemieAG (HDK ), Dupont (LoVel, HiSil),Grace (Syloid )。本专利技术的固体硅石制剂还包括基于制剂总重量为20-50重量%的至少一种添加 剂,所述添加剂选自基于聚醚的水溶性非离子表面活性添加剂(B1)、含有羧酸酯基团的水 溶性表面活性添加剂(B2)、聚氨酯(B3)、基于酸性磷酸酯、膦酸酯、硫酸酯或磺酸酯的阴离 子表面活性添加剂(B4)。上述形成组分(B)的表面活性添加剂的优选含量基于制剂总重量为30-50重量%。一种添加剂或两种或更多种添加剂的混合物可形成本专利技术的固体硅石制剂的组 分⑶。作为组分B1,除了未混合的聚氧化烯,优选C2_C4氧化烯和苯基取代的C2_C4氧化 烯,更特别是聚氧化乙烯、聚氧化丙烯和聚(氧化苯乙烯),在本文中合适的主要为嵌段共 聚物,更特别是含有聚氧化丙烯和聚氧化乙烯嵌段或聚(氧化苯乙烯)和聚氧化乙烯嵌段 的聚合物,也为这些氧化烯的无规共聚物。这些聚氧化烯可通过氧化烯与起始分子的聚加成反应制备,所述起始分子如饱和 或不饱和的脂族和芳族醇、饱和或不饱和的脂族和芳族胺、饱和或不饱和的脂族羧酸和羧 酰胺、以及芳族羧酰胺和磺酰胺。这些芳族起始分子可被Ci-Cm烷基或c7-c3(l芳烷基取代。 通常每摩尔起始分子使用1-300摩尔,优选3-150摩尔的氧化烯;对于芳族起始分子,氧化 烯的量大体上为2-100摩尔,优选5-50摩尔,更特别是10-30摩尔。该聚加成反应产物可 具有0H端基或可被端基封端,例如以Ci-C;烷基醚的形式。在本文中合适的脂族醇通常包括6-26个碳原子,优选8-18个碳原子,并且可为非 支化的、支化的或环状结构。实例包括辛醇、壬醇、癸醇、异癸醇、十一烷醇、十二烷醇、2-丁 基辛醇、十三烷醇、异十三烷醇、十四烷醇、十五烷醇、十六烷醇(鲸蜡醇)、2_己基癸醇、 十七烷醇、十八烷醇(硬脂醇)、2_庚基十一烷醇、2-辛基癸醇、2-壬基十三烷醇、2-癸基 十四烷醇、油醇和9-十八碳烯醇以及这些醇的混合物,如C8/C1(l,C13/C15和C16/C18醇,以及 环戊醇和环己醇。引起特别注意的是饱和与不饱和的脂肪醇,其通过脂肪裂解和从天然原 料还原得到,以及源自羰基合成的合成脂肪醇。这些醇的氧化烯加合物的平均分子量^通 常为 200-5000。上述芳族醇的实例,除了未取代的苯酚以及a-和萘酚,也包括烷基取代的产 物,更特别是被(^-(12烷基,优选。-(^或^-仏烷基取代的产物,以及芳烷基取代的产物,更 特别是c7-c3(l芳烷基取代的酚,如己基酚、庚基酚、辛基酚、壬基酚、异壬基酚、十一烷基酚、 十二烷基酚、二丁基酚和三丁基酚以及二壬基酚,以及双酚A及其与苯乙烯反应的产物,大 体上双酚A在与两个0H基团相邻的位置上被总数为4个的1-苯基乙基取代。除了单官能胺和醇的氧化烯加合物之外,还引起特别注意的为至少2官能的胺和 醇的氧化烯加合物。优选的至少2官能的胺为2官能至5官能胺,其特别是符合式HJ-O^-NROn-H C2-C6亚烷基;R1 氢或CfQ烷基;n 1-5)。具体的实例包括下述乙二胺、二亚乙基三胺、 三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、亚丙基-1,3-二胺、二亚丙基三胺、3-氨基-1-亚乙基氨基丙 烷、六亚甲基二胺、二-六亚甲基三胺、1,6_双(3-氨基丙基氨基)己烷和N-甲基二亚丙基 三胺,特别优选六亚甲基二胺和二亚乙基三胺,很特别优选乙二胺。优选这些胺首先与氧化丙烯反应,然后与氧化乙烯反应。嵌段共聚物的氧化乙烯 含量通常为约10-90重量%。基于多官能胺的嵌段共聚物通常具有1000-40 000,优选1500-30 000的平均分子量Mn。优选的至少2官能的醇为二元至五元醇。实例包括C2_C6亚烷基二醇以及对应的 二-和多亚烷基二醇,如乙二醇,亚丙基1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种由下述组分组成的固体硅石制剂:(A)基于制剂总重量为20-80重量%的硅石;(B)基于制剂总重量为20-50重量%的至少一种添加剂,所述添加剂选自基于聚醚的水溶性非离子表面活性添加剂、含有羧酸酯基团的水溶性表面活性添加剂、聚氨酯、基于酸性磷酸酯、膦酸酯、硫酸酯或磺酸酯的阴离子表面活性添加剂;(C)如果合适,其他组分,所述其他组分不包括颜料,且所有组分(A)、(B)和(C)的总和为100重量%。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:HU雷萨切尔U莫特
申请(专利权)人:巴斯夫欧洲公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利