具有抗溃疡活性及组胺受体拮抗作用的噻唑衍生物的制备方法技术

本发明专利技术涉及具有抗溃疡活性及Ｈ↓［２］－受体拮抗作用的、新的噻唑衍生物及其药物上可接受的盐，涉及其制备方法、涉及含有该衍生物和盐的药物组合物，也涉及用于人或动物治疗溃疡的方法。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及新化合物及其药物上可接受的盐。更具体地说，它涉及具有抗溃疡活性及H2-受体拮抗作用的、新的噻唑衍生物及其药物上可接受的盐，涉及该化合物的制备，也涉及含有该化合物的药物组合物及其用于人或动物治疗溃疡的方法。因此，本专利技术的目的之一就是提供具有抗溃疡活性及H2-受体拮抗作用的、新的噻唑衍生物及其药物上可接受的盐。本专利技术的另一个目的就是提供所述的噻唑衍生物及其盐的制备方法。本专利技术又一个目的就是提供含有所述的噻唑衍生物或其药物上可接受的盐作为活性组份的药物组合物。本专利技术还一个目的就是提供预防或治疗人或动物溃疡的方法。本专利技术的噻唑衍生物是新的，并可用下面通式(Ⅰ)表示 其中R2是氢或可被合适取代基取代的低级烷基，R3是氢、低级烷基、低级烷氧基或卤素，A是低级亚烷基及Q是下式基团(其中R1是有机基团)，或可具有合适取代基的氨基甲酰基亚氨基，条件是当Q是可具有合适取代基的氨基甲酰基亚氨基时而R3是低级烷氧基。目的化合物(Ⅰ)或其盐可通过以下描述的反应路线制备。方法(1) 方法(3) 方法(4) 方法(5) 方法(6) 方法(7) 方法(8) 其中R1、R2本文档来自技高网...

【技术保护点】
通式化合物及其药物上可接受的盐＊＊＊其中Ｒ↑［２］是氢或被合适取代基取代的低级烷基，Ｒ↑［３］是氢、低级烷基、低级烷氧基或卤素，Ａ是低级亚烷基及Ｑ是具有下面通式的基团：－ＣＯ－Ｒ↑［１］（其中Ｒ↑［１］是有机基团）或可具有合适取代基的氨基甲酰基亚氨基，条件是当Ｑ是可具有合适取代基的氨基甲酰基亚氨基时而Ｒ↑［３］是低级烷氧基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：桂洋介，富士哲男，井上善一，高杉寿，
申请(专利权)人：藤泽药品工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]