二氢吡啶衍生物及其制备方法技术

技术编号:499961 阅读:207 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
***(1)本发明专利技术提供了式(1)二氢吡啶化合物及其酸加成盐。本发明专利技术还包括制备上述化合物的方法,含有它们的药物组合物,以及作为药物的应用和治疗人或动物高血压的方法。(*该技术在2013年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关新的具有抗高血压特性的二氢吡啶衍生物,更具体讲,是有关新的具有抗高血压特性的二氢吡啶衍生物及其药学上可接受的盐,它们的制备方法,含有它们的药物组合物,它们作为药物的应用以及治疗人或动物高血压病的方法。本专利技术提供了具有下述通式的二氢吡啶及其酸加成盐 其中W或R1之一代表卤代(低级)烷基;W或R1中的另一个代表低级烷基;R2代表低级烷基;R3代表氢原子或低级烷基;Ar2代表任意取代的芳基;A代表环(低级)亚烷基,任意插入有一个或多个选自氧杂,亚氨基,取代亚氨基,杂环基,1,2-亚乙烯基,亚苯基,-O-亚苯基-基团,-亚苯基-O-,-O-亚苯基-O-(各基团中的亚苯基可以含有甲氧基取代基)的低级或高级亚烷基,以及下式基团-Het-Q-(其中Het为二价杂环基团,Q为低级亚烷基);B为直接连键或表示-CH2O-;Ar1代表吡啶基或具有下式结构的苯基 其中X和Y可以相同或不同,各自代表氢原子,卤原子,卤代(低级)烷基;可含有氨基取代基的低级烷氧基,或硝基。更具体地讲,本专利技术提供了下式二氢吡啶化合物或其酸加成盐 其中W代表卤代(低级)烷基;R1代表低级烷基;R2代表本文档来自技高网...

【技术保护点】
下式二氢吡啶化合物及其酸加成盐:***其特征为其中W或R↑[1]之一代表卤代(低级)烷基;W或R↑[1]中的另一个代表低级烷基;R↑[2]代表低级烷基;R↑[3]代表氢原子或低级烷基;Ar↑[2]代表任意取代的芳基;A代表环(低级)亚烷基,任意插入有一个或多个选自氧杂,亚氨基,取代亚氨基,杂环基,1,2-亚乙烯基,亚苯基,-O-亚苯基-基团,-亚苯基-O-,-O-亚苯基-O-(各基团中的亚苯基可以含有甲氧基取代基)的低级或高级亚烷基,以及下式基团:-Het-Q-(其中Het为二价杂环基团,Q为低级亚烷基);B为直接连键或表示-CH↓[2]O-;Ar↑[1]代表吡啶基或具有下式结构的苯基:***...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:伊藤清隆赤松秀和井上庆三尾野村治滨谷武上田阳一郎江角公男
申请(专利权)人:藤泽药品工业株式会社大吕化学工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1