用于电致发光器件的氧芴聚合物制造技术

公开了包含基于式（Ｉ）重复结构单元的均聚物的电致发光材料，其中Ｒ９、Ｒ９’、Ｒ９”、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１１’、Ｒ１３’、Ｒ１４’独立地为Ｈ或有机取代基，其中Ｒ９、Ｒ９’、Ｒ９”、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１１’、Ｒ１３’、Ｒ１４’中至少一个包含式－（Ｓｐ）ｘ１０－［ＰＧ’］＜的基团Ｒ１０，其中Ｓｐ为二价有机间隔基，ＰＧ’为源于可聚合基团的基团，并且ｘ１０为０或１，其中取代基和间隔基如权利要求１所述。另外公开了一些该类新聚合物以及用于其制备的单体。该均聚物有利地在另外包含通常选自磷光金属配合物和荧光掺杂剂的发光组分的器件中作为基质材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于电致发光器件的氧芴聚合物本专利技术涉及一些新型电致发光材料、一些用于其制备的新型材料(尤其是聚合 物)、一种制备新型电致发光材料的方法以及含新型电致发光材料或聚合物的电致发光器 件及相应用途。在GB-601568、US-3294763, FR-1441442 和 GB-1077085 中已提出 了尤其是作为光 导材料的一些氧芴均聚物。WO 08/029652公开了一些尤其是组合咔唑和氧芴单元的低聚物 和聚合物。现在已发现某些侧链氧芴聚合物可替代在尤其是用于铱基三线态发射体(TE)的 OLED中常用作基质材料的聚乙烯咔唑(PVK)，并且获得高量子收率和效率。本专利技术因此涉及一种包含基于式I重复结构单元的均聚物的电致发光材料权利要求1.电致发光材料，其包含基于式I重复结构单元的均聚物2.根据权利要求1的电致发光材料，其包含含有至少3个，优选至少5个，尤其是至少 10个式I重复结构单元的均聚物。3.根据权利要求1或2的电致发光材料，其包含式III聚合物4.根据权利要求1-3任一项的电致发光材料，其包含式III聚合物， 其中η为5-5000，尤其是10-1000 ； xlO 为 0 ；R本文档来自技高网...

【技术保护点】
电致发光材料，其包含基于式Ⅰ重复结构单元的均聚物：　　＊＊＊　（Ⅰ）　　其中　　Ｒ↑［９］、Ｒ↑［９’］、Ｒ↑［１１］、Ｒ↑［１３］、Ｒ↑［１４］、Ｒ↑［１１’］、Ｒ↑［１３’］、Ｒ↑［１４’］独立地为Ｈ或选自如下基团的有机取代基：卤素、ＯＨ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２４］烷氧基、被Ｅ取代和／或被Ｄ间隔的Ｃ↓［２］－Ｃ↓［２４］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２４］烷基、被Ｅ取代和／或被Ｄ间隔的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２４］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２４］卤代烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［２４］链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［２４］炔基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２４］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２４］酰基、Ｃ↓［５］－Ｃ↓［２４］芳...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：N舍博塔莱瓦，R普雷托特，PA范德沙夫，A沃勒布，H沃勒布，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]