数控整流子下刻机走刀机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种数控整流子下刻机走刀机构，包括驱动气缸，该气缸为阻尼气缸。本实用新型专利技术提供的这种数控整流子下刻机走刀机构，将现有技术中的用于驱动的普通气缸设计为阻尼汽缸，由于阻尼汽缸自身的阻尼缓冲作用，使得汽缸起动停止时都能平稳地进行，从而带动装夹在工装上的被加工电枢均匀的来回运动，致使电枢的云母槽得到均匀下刻，从而保证了产品质量。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种数控整流子下刻机走刀机构。
技术介绍
下刻机对直流电机换向器云母槽进行下刻的重点工序是由传感器发射出可见光，其接收头接收到根据云母与铜排表面对光的反射程度不同的强弱信号，驱动电机带动工件缓慢旋转运动，当确认到云母信号时，也就是下刻刀对准了云母槽时，微电脑指令下刻刀及走刀机构工作，从而完成刻槽工序。对刻出的槽形要求均匀，等宽，等深，而这些要求往往取决于刀具与工件的相对运行情况。现有下刻机走刀机的拖动构采用的是普通气缸，由于普通气缸在起动和停止时本身平稳性差加之现场工作过程中气压不稳定，造成整个工件走刀过程不平稳，导致刻出的槽形均匀一致性差，导致加工产品不达标。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种能有效提高产品质量的数控整流子下刻机走刀机构。 本技术提供的这种数控整流子下刻机走刀机构，包括驱动气缸，该气缸为阻尼气缸。 本技术提供的这种数控整流子下刻机走刀机构，将现有技术中的用于驱动的普通气缸设计为阻尼汽缸，由于阻尼汽缸自身的阻尼缓冲作用，使得汽缸起动停止时都能平稳地进行，从而带动装夹在工装上的被加工电枢均匀的来回运动，致使电枢的云母槽得到均匀下刻，从而保证了产品质量。附图说明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种数控整流子下刻机走刀机构，包括驱动气缸（１），其特征在于该气缸为阻尼气缸。

【技术特征摘要】
一种数控整流子下刻机走刀机构，包括驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨建国，胡茂春，
申请(专利权)人：长沙力捷自动化设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：43[中国|湖南]