清洁产品制造技术

技术编号:4908524 阅读:161 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种兼具优良的起泡性和清洁性的清洁产品。一种清洁产品,其含有下述通式(1)或下述通式(3)表示的有机硅氧烷衍生物盐以及选自具有碳原子数10~20的烷基的羧酸盐、硫酸盐、磺酸盐、或磷酸盐中的1种以上阴离子性表面活性剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含有特定结构的有机硅氧烷衍生物的清洁产品,特别是起泡与清洁性 的兼得。
技术介绍
以前,为了有效利用代表硅油的二甲基聚硅氧烷固有的特性,开发了在部分结构 上引入各种有机基团的有机(聚)硅氧烷。由于有机(聚)硅氧烷具有低表面张力、低折 射率,而且还同时具有低摩擦性、耐热性、耐寒性、防静电性、疏水性、脱模性、消泡性、耐药 品性等特性,因此被应用于各种领域。存在根据用途将各种官能团以及引入这些官能团的 结构上的位置改性得到的有机(聚)硅氧烷。例如,作为含有亲水性有机基团羧基的有机(聚)硅氧烷衍生物,一直以来进行了 各种化合物的开发研究,作为代表性的物质,在直链聚硅氧烷结构的侧链引入了羧基的有 机硅氧烷衍生物广为人知。另外,近年来,作为这种化合物的一个实例,还报道了含有羧基 结构的硅氧烷树状大分子(dendrimer,r > F -J -)(参见例如专利文献1 3)。而且, 还报道了将羧基改性硅氧烷用三乙醇胺中和得到的化合物具有乳化能力(参见例如非专 利文献1、2)。另一方面,在以往的皮肤清洁产品或头发清洁产品中,通常配合阴离子表面活性 剂或非离子表面活性剂作为清洁剂的主成分。而几乎所有的化妆制品、发蜡等中,以赋予化 妆持久或耐水性、光滑和垂顺为目的,都配合有硅氧烷化合物,使用通常的表面活性剂作为 清洁剂的情况下,存在不能充分洗掉这些硅氧烷化合物的问题。与此相对,通过配合硅油, 或使用硅氧烷类的表面活性剂,虽然可以提高清洁效果,但由于其消泡作用,存在起泡性非 常差的问题。专利文献1特开2000-072784号公报专利文献2特开2000-239390号公报专利文献3特开2001-213885号公报非专利文献1影岛一己、清水敏之,“羧基改性硅氧烷作为乳化时的表面活性剂 的应用”,FREGRANCE JOURNAL,临时增刊19号,2005年,125 130页非专利文献2影岛一己、坂本晴美、清水敏之,“羧基改性硅氧烷作为化妆品领域 的表面活性剂的应用”,日本化妆品技术者会志,34卷,4号,2003年,309 314页
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述现有技术中的课题做出的,其目的在于提供一种兼具优良的起泡性和清洁性的清洁产品。为了解决上述现有技术中的课题,本专利技术人等进行了悉心研究,结果发现通过在 清洁产品中配合含有羧基的特定结构的有机硅氧烷衍生物盐和脂肪酸皂等阴离子性表面 活性剂,不仅清洁效果优良,而且起泡性也得到显著改善,从而完成了本专利技术。也就是说,本专利技术涉及的清洁产品特征在于含有下述通式(1)或下述通式(3)表 示的有机硅氧烷衍生物盐,以及具有碳原子数10 20的烷基的羧酸盐、硫酸盐、磺酸盐、或 磷酸盐中的任意1种以上。化1权利要求一种清洁产品,其中含有下述通式(1)或下述通式(3)表示的有机硅氧烷衍生物盐,以及选自具有碳原子数10~20的烷基的羧酸盐、硫酸盐、磺酸盐、或磷酸盐的1种以上阴离子性表面活性剂。化1(式中,R1~R3至少1个是 O Si(R4)3表示的官能团(R4是碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个)、或 O Si(R5)2 X1表示的官能团(R5是碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个,X1是i=1时的下述通式(2)表示的官能团),其他的R1~R3是可以相同也可以不同的取代或未取代的1价烃基。M是金属原子或有机阳离子。A是CqH2q表示的直链状或支链状的亚烷基,q是0~20的整数。另外,通式(1)表示的有机硅氧烷衍生物的1分子中含有的硅原子(Si)的平均总数是2~100。)化2(式中,R6是氢原子、碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个,R7和R8是碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个。B是部分可以具有支链的CrH2r表示的直链状或支链状亚烷基,r是2~20的整数。i表示Xi表示的甲硅烷基烷基的层次,层次数为n时是1~n的整数,层次数n是1~10的整数,ai在i为1时是0~2的整数,在i为2以上时是低于3的整数,Xi+1在i低于n时是该甲硅烷基烷基,在i=n时是甲基。)化3(式中,R9~R12是可以相同也可以不同的取代或未取代的1价烃基,M是金属原子或有机阳离子。Q是CqH2q表示的直链状或支链状亚烷基,q是0~20的整数。p是0~100的数。)FPA00001189654000011.tif,FPA00001189654000012.tif,FPA00001189654000021.tif2.如权利要求1所述的清洁产品,其特征在于,有机硅氧烷衍生物盐用上述通式(1)表 示,R1和R2是-O-Si (R4) 3表示的官能团(R4是碳原子数1 6的烷基),R3是碳原子数1 10的1价烃基,q是6 20的整数。3.如权利要求1所述的清洁产品,其特征在于,有机硅氧烷衍生物盐用上述通式(1)表 示,R1 R3中的至少1个以上是下述通式(4)或(5)表示的官能团中的任意一个,其他的 R1 R3是可以相同也可以不同的取代或未取代的1价烃基。化44.如权利要求1所述的清洁产品,其特征在于,有机硅氧烷衍生物盐用上述通式(3) 表示,R9 R12是选自取代或未取代的碳原子数1 20的烷基、芳基和芳烷基的基团,q是 6 20的整数,ρ是1 20的数。5.如权利要求1至4中任一项所述的清洁产品,其特征在于,阴离子性表面活性剂是脂 肪酸皂、酰基甲基牛磺酸盐、和烷基醚羧酸盐中的1种以上。全文摘要本专利技术提供一种兼具优良的起泡性和清洁性的清洁产品。一种清洁产品,其含有下述通式(1)或下述通式(3)表示的有机硅氧烷衍生物盐以及选自具有碳原子数10~20的烷基的羧酸盐、硫酸盐、磺酸盐、或磷酸盐中的1种以上阴离子性表面活性剂。文档编号A61K8/36GK101939406SQ20098010431公开日2011年1月5日 申请日期2009年1月30日 优先权日2008年2月5日专利技术者中间康成, 大川直, 木村友彦, 渡边启, 荒木秀文, 饭村智浩 申请人:株式会社资生堂;道康宁东丽株式会社本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种清洁产品,其中含有下述通式(1)或下述通式(3)表示的有机硅氧烷衍生物盐,以及  选自具有碳原子数10~20的烷基的羧酸盐、硫酸盐、磺酸盐、或磷酸盐的1种以上阴离子性表面活性剂。  【化1】  R↑[1]-*-(CH↓[2])↓[2]-A-COOM (1)  (式中,R↑[1]~R↑[3]至少1个是-O-Si(R↑[4])↓[3]表示的官能团(R↑[4]是碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个)、或-O-Si(R↑[5])↓[2]-X↑[1]表示的官能团(R↑[5]是碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个,X↑[1]是i=1时的下述通式(2)表示的官能团),其他的R↑[1]~R↑[3]是可以相同也可以不同的取代或未取代的1价烃基。M是金属原子或有机阳离子。A是C↓[q]H↓[2q]表示的直链状或支链状的亚烷基,q是0~20的整数。另外,通式(1)表示的有机硅氧烷衍生物的1分子中含有的硅原子(Si)的平均总数是2~100。)  【化2】  X↑[i]=-B-*-(-O-*-X↑[i+1])↓[3-ai] (2)  (式中,R↑[6]是氢原子、碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个,R↑[7]和R↑[8]是碳原子数1~6的烷基或苯基中的任意一个。B是部分可以具有支链的C↓[r]H↓[2r]表示的直链状或支链状亚烷基,r是2~20的整数。i表示X↑[i]表示的甲硅烷基烷基的层次,层次数为n时是1~n的整数,层次数n是1~10的整数,ai在i为1时是0~2的整数,在i为2以上时是低于3的整数,X↑[i+1]在i低于n时是该甲硅烷基烷基,在i=n时是甲基。)  【化3】  MOOC-Q-(CH↓[2])↓[2]-(-*-O-)↓[p]-*-(CH↓[2])↓[2]-Q-COOM (3)  (式中,R↑[9]~R↑[12]是可以相同也可以不同的取代或未取代的1价烃基,M是金属原子或有机阳离子。Q是C↓[q]H↓[2q]表示的直链状或支链状亚烷基,q是0~20的整数。p是0~100的数。)...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:荒木秀文木村友彦中间康成渡边启大川直饭村智浩
申请(专利权)人:株式会社资生堂道康宁东丽株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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