【技术实现步骤摘要】
用作药物的苯甲酰基胍衍生物
本专利技术涉及可用作药物的新型胍衍生物及其可药用盐。专利技术公开本专利技术涉及新的胍衍生物。本专利技术的一个目的是提供新型且有用的胍衍生物及其可药用盐类,它们对细胞内Na+/H+交换具有强烈的抑制活性。本专利技术的另一个目的是提供胍衍生物及其盐类的制备方法。本专利技术的再一个目的是提供一种包括所述胍衍生物或其药用盐的药物组合物。本专利技术的进一步目的是提供该胍衍生物或其可药用盐作为药物在治疗和/或预防人类和动物中的心血管疾病、脑血管疾病、肾病、动脉硬化和休克等中的应用。本专利技术的目的胍衍生物是新的并且可由下列通式(I)代表:其中R1为氢、羟基(低级)烷基、被保护的羟基(低级)烷基、酰基(低 级)烷氧基、酰基(低级)链烯基或酰基,和R2为芳(低级)烯基;被二个适合的取代基取代的芳基;茚基、2,3 -二氢化茚基、二氢苯并环庚烯基、二(或四或六或八或十)氢 萘基、环戊烯基、二氢噻吩基、二氢呋喃基或杂二环基团,它们 各自可能具有适合的取代基;低级烷基噻吩基;一(或二)卤代 噻吩基;一(或二或三)卤代(低级)烷基噻吩基;酰基噻吩基; 卤代呋喃基;或一(或二或三)卤代(低级)烷基呋喃基。本专利技术目标化合物(I)可通过下列方法制备。-->方法(1)其中R1和R2各自定义同前。-->通过以下方法或后面述及的制备过程,或此外类似手段可制得起始化合物。-->方法(B)-->方法(C)-->方法(D)-->方法(E)-->方法(F)-->方法(G)-->方法(H)-->其中R1和R2各自定义同前,R3、R4、R5和R ...
【技术保护点】
下式的化合物及其可药用盐***其中R↑[1]为氢、羟基(低级)烷基、被保护的羟基(低级)烷基、酰基(低级)烷氧基、酰基(低级)烯基或酰基,并且R↑[2]为芳(低级)烯基;被二个适合的取代基取代的芳基;茚基、2,3-二氢化茚基 、二氢苯并环庚烯基、二(或四或六或八或十)氢化萘基、环戊烯基、二氢噻吩基、二氢呋喃基或杂二环基,它们各自可能具有适合的取代基;低级烷基噻吩基;一(或二)卤代噻吩基;一(或二或三)卤代(低级)烷基噻吩基;酰基噻吩基;卤代呋喃基;或一(或二或三)卤代(低级)烷基呋喃基。
【技术特征摘要】
GB 1994-8-5 9415852.4;GB 1994-11-11 9422830.1;GB 11.下式的化合物及其可药用盐其中R1为氢、羟基(低级)烷基、被保护的羟基(低级)烷基、酰基(低 级)烷氧基、酰基(低级)烯基或酰基,并且R2为芳(低级)烯基;被二个适合的取代基取代的芳基;茚基、2,3 -二氢化茚基、二氢苯并环庚烯基、二(或四或六或八或十)氢 化萘基、环戊烯基、二氢噻吩基、二氢呋喃基或杂二环基,它们 各自可能具有适合的取代基;低级烷基噻吩基;一(或二)卤代 噻吩基;一(或二或三)卤代(低级)烷基噻吩基;酰基噻吩基; 卤代呋喃基;或一(或二或三)卤代(低级)烷基呋喃基。2.按权利要求1的化合物,其中R1为氢;羟基(低级)烷基;酰氧基(低级)烷基;〔二(低级) 烷基氨基(低级)烷基〕氨基甲酰基(低级)烷氧基;〔二(低 级)烷基氨基(低级)烷基〕氨基甲酰基(低级)烯基;可能带 有二氨基(低级)亚烷基、二(低级)烷基氨基(低级)烷基、 杂环(低级)烷基、二羟基(低级)烷基或低级烷基哌嗪基的 氨基甲酰基;或可能带有低级烷基的杂环羰基;并且R2为苯基(低级)烯基;被二个选自卤素、低级烷氧基、羟基、低 级烷基和一(或二或三)卤代(低级)烷基的取代基所取代的苯 基;茚基、2,3-二氢化茚基、二氢苯并环庚烯基、二(或四或 六或八或十)氢化萘基、环戊烯基、二氢噻吩基、二氢呋喃基、 苯并呋喃基、二氢苯并呋喃基、苯并吡喃基、低级亚烷二氧基苯 基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、苯并噁唑基、咪唑并吡啶基、 苯并噻吩基或吲哚基,它们各自可能带有选自氧基、肟基(低级) 烷基、被保护肟基(低级)烷基、羟基(低级)烷基、被保护羟 基(低级)烷基、一(或二或三)卤代(低级)烷基、卤素、低 级亚烷基、低级烷基、低级烷氧基(低级)烷基和氰基的1~3 个取代基;低级烷基噻吩基;一(或二)卤代噻吩基;〔二卤代 (低级)烷基〕噻吩基;低级烷酰基噻吩基;氨磺酰噻吩基,卤 代呋喃基;或〔二卤代(低级)烷基〕呋喃基。3.按权利要求2的化合物,其中R1为氢;羟基(低级)烷基;酰氧基(低级)烷基;〔二(低级) 烷基氨基(低级)烷基〕氨基甲酰基(低级)烷氧基;〔二(低 级)烷基氨基(低级)烷基〕氨基甲酰基(低级)烯基;可能带 有二氨基(低级)亚烷基、二(低级)烷基氨基(低级)烷基、 吗啉基(低级)烷基、吡咯烷基(低级)烷基、哌啶基(低级) 烷基、二羟基(低级)烷基或低级烷基哌嗪基的氨基甲酰基;或 可能带有低级烷基的哌嗪基羰基;并且R2为苯基(低级)烯基;被选自卤素、低级烷氧基、羟基、低级烷 基和一(或二或三)卤代(低级)烷基的二个取代基所取代的苯 基;茚基、2,3-二氢化茚基、二氢苯并环庚烯基、二(或四或 六或八或十)氢化萘基、环戊烯基、二氢噻吩基、二氢呋喃基、 苯并呋喃基、二氢苯并呋喃基、苯并吡喃基、低级亚烷二氧基苯 基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、苯并噁唑基、咪唑并吡啶基、 苯并噻吩基或吲哚基,它们各自可能带有选自氧、肟基(低级) 烷基、酰氧基亚氨基(低级)烷基、羟基(低级)烷基、酰氧基 (低级)烷基、一(或二或三)卤代(低级)烷基、卤素、低级 亚烷基、低级烷基、低级烷氧基(低级)烷基和氰基的一或二个 取代基;低级烷基噻吩基;一(或二)卤代噻吩基;〔二卤代(低 级)烷基〕噻吩基;低级烷酰基噻吩基;氨磺酰噻吩基,卤代呋 喃基;或〔二卤代(低级)烷基〕呋喃基。4.按权利要求3的化合物,其中R1为氢;羟基(低级)烷基;酰氧基(低级)烷基;〔二(低级) 烷基氨基(低级)烷基〕氨基甲酰基(低级)烷氧基;〔二(低 级)烷基氨基(低级)烷基〕氨基甲酰基(低级)烯基;二氨基 (低级)亚烷基氨基甲酰基、〔二(低级)烷基氨基(低级)烷 基〕氨基甲酰基、〔吗啉...
【专利技术属性】
技术研发人员:久野敦司,水野裕章,山崎久实,井上善一,
申请(专利权)人:藤泽药品工业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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