聚合毛发染料制造技术

技术编号:4893201 阅读:274 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
所公开的为阳离子低聚染料,其包含:包含重复单元(1a)或(1b)的低分子量多胺,其中至少90%多胺分子选自四胺、五胺及六胺;和R为阳离子染料的残基,其共价键结至多胺的氮原子,任选通过连接基;或氢;其中多胺重复单元(1a)及(1b)包含至少一个阳离子染料残基;及n为从3-12的数。该染料特征在于其色调深度及其良好的耐洗坚牢度性质,举例而言,例如耐光、耐洗发剂及耐摩擦坚牢度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚合毛发染料本专利技术涉及新颖聚合染料及含有该化合物的组合物,涉及其制备方法,以及涉及 其用于将有机材料如含角蛋白的纤维、毛、皮革、丝、纤维素或聚酰胺染色的用途。众所皆知的,阳离子化合物对带负电的毛发具有良好的亲合力。这些特征已被用 来使毛发与小分子及聚合物接触。许多阳离子聚合染料已被公开用作人类毛发的着色剂,例如于US4,228,259 ;US 4,182,612或FR 2456764中。这些参考文献教示聚合物结构部分具有阳离子电荷。惊讶地发现以其中阳离子电荷位于染料结构部分中的聚合毛发染料得到非常良 好的染色结果。因此本专利技术涉及阳离子低聚染料,其包含包含下列重复单元的低分子量多胺 至少90%多胺分子选自四胺、五胺及六胺;及R为阳离子染料的残基,其共价键结至多胺的氮原子,任选通过连接基;或氢;其 中多胺重复单元(Ia)及(Ib)包含至少一个阳离子染料残基;及η为从3-12的数。优选式(Ia)及(Ib)中,R为氢;或式*-Χ「(ν+)的基团,其中X1是选自下列的连接基=C1-C3tl亚烷基、C2-C12亚烯基、C5-Cltl亚芳基、C5-Cltl亚环烷 基或C1-Cltl亚烷基(C本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阳离子低聚染料,其包含:包含下列重复单元的低分子量多胺:***,其中至少90%多胺分子选自四胺、五胺及六胺;及R为阳离子染料的残基,其共价键结至多胺的氮原子,任选通过连接基;或氢;其中多胺重复单元(1a)及(1b)包含至少一个阳离子染料残基;及n为从3-12的数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2008-1-17 08150356.7;EP 2008-1-29 08150773.3一种阳离子低聚染料,其包含包含下列重复单元的低分子量多胺其中至少90%多胺分子选自四胺、五胺及六胺;及R为阳离子染料的残基,其共价键结至多胺的氮原子,任选通过连接基;或氢;其中多胺重复单元(1a)及(1b)包含至少一个阳离子染料残基;及n为从3 12的数。FPA00001184088800011.tif2.根据权利要求1所述的染料,其中 R为氢;或式(V+)的基团,其中X1是选自下列的连接基=C1-C3tl亚烷基、C2-C12亚烯基、C5-Cltl亚芳基、C5-Cltl亚环烷基 或C1-Cltl亚烷基(C5-Cltl亚芳基),其可被一个或多于一个下列基团插入和/或在一端或两 端终止-0-、-S-、-N =、-N (R1) -、S (0) -、-SO2-, - (CH2CH2-O)卜厂、-(CH2CH2CH2-O)卜厂、-C (0) 取代的饱和或不饱和的稠合或非稠合芳族或非芳族(杂)环二价基团,其任选含有至少一 个杂原子;-0- ;-S ;-N (R1)-;-S(O) ;-SO2- ;-(CH2CH2-O) H- ;-C(O)- ;-C (0)0-, -OC(O)-; 稠合或非稠合芳族或非芳族二价基团,其任选含有至少一个杂原子,其任选经C1-C3tl烷基、 C1-C30烷氧基、C2-C12链烯基、C5-Cltl芳基、C5-Cltl环烷基、C1-Cltl烷基(C5-Cltl亚芳基)、卤素、 羟基、E或Ε’取代;或为直接键;R1及R2互相独立地为氢;未经取代或经取代的直链或支化链的、单环或多环的被插 入或未被插入的C1-C14烷基K1-C14羟基烷基K1-C14氨基烷基;C2-C14链烯基、C6-Cltl芳基、 C6-C10 Tf^ C1-C10C5-C10 ^^ (C5_C10 Tf^ );Y1为氢;卤素K1-C6烷基K1-C6烷氧基K1-C6烷基氨基;c6-c1(l芳氧基;c6-c1(l芳基氨 基;SO2R1 ;或有机染料的残基;其中Y1与Y2中的至少一个定义为有机染料的残基;和 a为从1至3的数。3.根据权利要求1或2所述的染料,其对应于下式 互相独立地为选自下列的连接基团=C1-C3tl亚烷基、C2-C12亚烯基、C5-Cltl亚芳 基、C5-Cltl亚环烷基或C1-Cltl亚烷基(C5-Cltl亚芳基),其可被一个或多于一个下列基团插入 和 / 或在一端或两端终止-0-、-S-、-N =A-N(R1)-AS(O)-A-SO2-A-(CH2CH2-O) ^-,-(CH2CH2 R1-或任选经取代的饱和或不饱和的稠合或非稠合芳族或非芳族(杂)环二价基团,其任 选含有至少一个杂原子;-0- ;-S- ;-N(R1)- ;-S(O)-;SO2- 和或不饱和的稠合或非稠合的芳族或非芳族二价基团,其任选含有至少一个杂原子,其任 选经C1- _C30 焼基、C「C30 烷氧基、C2-C12链烯基、C5-C10芳基、C5-C10环烷基、C1-C10烷基(C5-C10 亚芳基)、卤素、羟基、E或E’取代;或为直接键;R1及R2互相独立地为氢;或未经取代或经取代的直链或支化链的、单环或多环的被插 入或未被插入的C1-C14烷基K1-C14羟基烷基K1-C14氨基烷基;C2-C14链烯基、C6-Cltl芳基、 C6-C10 Tf^ C1-C10C5-C10 ^^ (C5_C10 Tf^ );Y1及Y2互相独立地为氢;卤素A1-C6烷基K1-C6-烷氧基K1-C6烷基氨基;c6-c1(l芳氧 基;...

【专利技术属性】
技术研发人员:C克雷梅尔S马夸伊斯比奈瓦尔得O瓦尔奎斯特
申请(专利权)人:巴斯夫欧洲公司
类型:发明
国别省市:DE

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