1-碳-(脱硫)-头孢菌素衍生物制造技术

＊＊＊ Ⅰ 本发明专利技术涉及通式Ⅰ的１－碳－（脱硫）－头孢菌素衍生物：式中Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］、ｎ和Ｘ如说明书中所定义，以及其易水解的酯，所述化合物的可药用盐，式Ⅰ化合物的水合物及其酯和盐的水合物。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通式I的1-碳-(脱硫)-头孢菌素衍生物 式中R1为氢、任意性氟取代的低级烷基，芳烷基，环烷基，-COR4或-C(R5R6)CO2R7，-C(R5R6)CONHR7；其中R5和R6各自独立地为氢或低级烷基，或R5和R6一起形成环烷基；R4为氢或低级烷基，R7为氢，低级烷基，低级链烯基或羧酸保护基团；R2为氢，羟基，低级烷基-Qm，环烷基，低级烷氧基，低级链烯基，环烯基，低级炔基，芳烷基-Qm，芳基-Qm，芳氧基，芳烷氧基，杂环或杂环低级烷基，其中低级烷基，环烷基，低级烷氧基，低级链烯基，环烯基，低级炔基，芳烷基，芳基，芳氧基，芳烷氧基和杂环未被取代或被至少一个选自羧基、氨基、硝基、氰基、任意性氟取代的低级烷基，低级烷氧基，羟基，卤素，-COR6，-C(R5R6)CO2R7，-C(R5R6)CONR5R8，-CONR5R6，-N(R6)COOR10，R6OCO-或R6COO-的基团取代，其中R5和R6为氢或低级烷基；R7为氢，低级烷基，低级链烯基或羧酸保护基团；R8为氢，低级烷基或任意性取代的苯基；R10为低级烷基，低级链烯基或羧酸保护基团；Q为-CHR-，-CO-本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通式Ⅰ的１－碳－（脱硫）－头孢菌素衍生物：＊＊＊ Ⅰ式中Ｒ↑［１］为氢、任意性氟取代的低级烷基，芳烷基，环烷基，－ＣＯＲ↑［４］或－Ｃ（Ｒ↑［５］Ｒ↑［６］）ＣＯ↓［２］Ｒ↑［７］，－Ｃ（Ｒ↑［５］Ｒ↑［６］）ＣＯＮＨＲ↑［ ７］；其中Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］各自独立地为氢或低级烷基，或Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］一起形成环烷基；Ｒ↑［４］为氢或低级烷基，Ｒ↑［７］为氢，低级烷基，低级链烯基或羧酸保护基团；Ｒ↑［２］为氢，羟基，低级烷基－Ｑ↓［ｍ］，环烷基，低级烷氧 基，低级链烯基，环烯基，低级炔基，芳烷基－Ｑ↓［ｍ］，芳基－Ｑ↓［ｍ］，芳氧基，芳烷氧基，杂环或杂环低...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：P安格恩，P赫贝森，I海恩兹克劳斯，M柏格，
申请(专利权)人：弗哈夫曼拉罗切有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]