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记忆穴位剌激帽制造技术

技术编号:4862842 阅读:221 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种记忆穴位剌激帽,其特征是:包括头架、穴位剌激装置、旋转磁盘,旋转磁盘包括外壳、转盘、马达,转盘四周嵌有至少二个磁铁,转盘中心与马达转轴相连,所述旋转磁盘设于头架靠近头部左侧颞区处。本实用新型专利技术记忆穴位剌激帽对左侧颞区产生磁干扰而帮助开发右脑图像记忆功能。顶调节钮、左调节钮、右调节钮结构简单,调节方便。安全阀门结构简单,泄压安全。该种记忆穴位剌激帽既能同时或分别刺激头部记忆相关穴位,又能对左侧颞区产生磁干扰而帮助开发右脑图像记忆功能。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
记忆穴位剌激帽,其特征是:包括头架、穴位剌激装置、旋转磁盘,旋转磁盘包括外壳、转盘、马达,转盘四周嵌有至少二个磁铁,转盘中心与马达转轴相连,所述旋转磁盘设于头架靠近头部左侧颞区处。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘东光
申请(专利权)人:刘东光
类型:实用新型
国别省市:81[中国|广州]

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