洗涤剂化妆组合物及其应用制造技术

本发明专利技术涉及新的洗涤剂组合物，其特征在于在化妆用介质中包括（Ａ）洗涤基质物，其中包括至少一种硫酸烷基醚型阴离子表面活性剂和至少一种Ｃ↓［８］－Ｃ↓［２０］烷基甜菜碱型两性表面活性剂的和（Ｂ）调理系统，其中包括至少一种二甲基二丙烯基铵阳离子聚合物和至少一种胺化硅氧烷。本发明专利技术组合物适用于清洁和保养角蛋白物质如皮肤和毛发。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新的具有改进性质的化妆组合物，这些组合物用于清洁和调理角蛋白物质，并在一种化妆上可接受的载体中含有一种由具有去垢本领的表面活性剂构成的洗涤基质物，在该洗涤基质物中阳离子聚合物与胺化硅氧烷一起都以调节剂的形式出现。本专利技术还涉及所述组合物在上述化妆应用中的使用。通常优选地使用主要以阴离子、非离子和/或两性类型的，更优选地是阴离子型的表面活性剂为主要成分的洗涤剂组合物，来清洁和/或洗涤皮肤和毛发。这些组合物涂在湿发或皮肤上，通过手的按摩或磨擦产生的泡沫，在用水漂洗后，除去皮肤和毛发上原来存在的各种不同的污物。诚然，这些基质组合物具有很好的洗涤本领，但与它们相关的固有化妆特性仍然一直很差，特别是由于这一事实，即从长远看，这样一种清洁处理的相当侵蚀的特性能够对毛发纤维导致或多或少的明显伤害，这一伤害特别与该纤维表面中或纤维表面上所含的类脂物或蛋白质的逐渐消除有关。因此，为了改进以上洗涤剂组合物，特别是应用到敏感性毛发(即已受伤或变脆的毛发，特别是在大气因素和/或像烫发、染发或脱色之类的毛发处理的化学作用下而受伤或变脆的毛发)的组合物的化妆特性，现在通常向这些组合物中加入称之为调节剂的补充化妆剂，这些调节剂主要用于修复或限制由毛发纤维或多或少重复地受到各种处理或侵蚀所引起的有害的或不希望有的作用。当然，这些调节剂还可以改进天然毛发的化妆性能。目前在洗发剂中最通常使用的调节剂是阳离子聚合物、(聚)硅氧烷和/或(聚)硅氧烷衍生物，事实上它们可使洗过、干燥或湿润的毛发易于梳理、柔软和光滑，而用不含它们的相应洗涤组合物则是不能达到的。对于敏感性毛发，为了使整个毛发纤维都获得硅氧烷的化妆效果，优选地将硅氧烷和阳离子聚合物结合使用。但是，尽管最近在以硅氧烷和阳离子聚合物为主要成分的洗发剂领域取得了进展，但是这些洗发剂并不真正令人完全满意，并且目前还强烈需要提供一些具有上面提到的一种或多种更好化妆特性的新产品。本专利技术就是为了满足这样一个需求。因此，在这一问题上进行了大量研究后，申请人现在完全令人吃惊和出乎意料地发现，通过使用如下定义的(A)一种特定的洗涤基质物和(B)一种包括至少一种特定阳离子聚合物和至少一种胺化硅氧烷的调节系统，有可能获得具有优良的化妆特性，特别是使处理毛发易梳理、柔软、柔顺和膨松，同时保留其良好的固有洗涤能力的洗涤剂组合物。因此，根据本专利技术，现在提出新的洗涤剂组合物，它在一种化妆可接受的介质中包括(A)一种包括至少一种硫酸烷基醚型的阴离子表面活性剂和至少一种C8-C20烷基甜菜碱型的两性表面活性剂的洗涤基质物，和(B)一种包括至少一种胺化硅氧烷和至少一种阳离子聚合物的调节系统，该阳离子聚合物选自于由相应于化学式(I)和/或(I’)的结构单元作为链的主要构成的均聚物 式中k和t等于0或1，k+t的和等于1；R3表示一个氢原子或一个甲基；R1和R2各自分别代表一个有1-22碳原子的烷基基团、一个其中的烷基基团优选地具有1-5个碳原子的羟基烷基基团、一个低级(1-5个碳原子)酰胺基烷基基团，或R1和R2能够与其连接的氮原子一起代表像哌啶基或吗啉基之类的杂环基团；Y-是一个像氢溴酸根、氢氯酸根、乙酸根、硼酸根、柠檬酸根、酒石酸根、硫酸氢根、亚硫酸氢根、硫酸根或磷酸根的阴离子。本专利技术另一个目的是上述组合物用于清洁和调理像毛发和皮肤之类的角蛋白物质的化妆用途。例如，这些组合物能够用于像皮肤(例如脸、颈或嘴唇)、眉毛、睫毛之类的角蛋白物质的卸妆。但是，通过阅读下面的说明书以及具体的而非限制性的用于说明的实施例可更清楚地看出本专利技术的其他特征、另外的各方面和优点。如上面所指出的，本专利技术的毛发产品组合物中基本成分是(A)一种洗涤基质物，(B)一种包括(i)至少一种胺化硅氧烷和(ii)至少一种特定的阳离子聚合物的调节系统。A-洗涤基质物本专利技术这些组合物必须包括一种通常是含水的洗涤基质物，该洗涤基质物包括一种或多种硫酸烷基醚型的阴离子表面活性剂和一种或多种C8-C20烷基甜菜碱两性表面活性剂。洗涤基质物的最少量是其量仅够使最终组合物得到令人满意的起泡能力和/或清洁本领，而洗涤基质物过量并不真正地带来另外的优点。因此，根据本专利技术，洗涤基质物可以是以最终组合物的总重量计为2-50％(重量)，优选地是10-35％(重量)，更优选地是12-25％(重量)。(i)一种或多种硫酸烷基醚型阴离子表面活性剂在本专利技术范围内，能够单独使用或混合使用的硫酸烷基醚型阴离子表面活性剂是硫酸烷基醚、硫酸烷基酰胺基醚、硫酸烷基芳基醚的盐(具体是碱金属盐，特别是钠盐、铵盐、胺盐、氨基醇盐或镁盐)；烷基醚磺基琥珀酸盐，所有这些各种不同的化合物的烷基或酰基优选地含有8-24个碳原子，芳基优选地代表一个苯基或苄基。环氧乙烷或环氧丙烷基团的平均数具体可以是2-50，更具体是2-10。在这些阴离子表面活性剂中，优选地使用C8-C14硫酸烷基醚的盐，并且更优选地使用C12-C14硫酸烷基醚的盐。这些盐特别含有2-5个环氧乙烷基团。相对于该组合物的总重量，阴离子表面活性剂通常是1-50％(重量)，优选地是1-20％(重量)的比例。(ii)一种或多种两性表面活性剂本专利技术所用两性表面活性剂必须选自于以下化学式的(C8-C20)烷基甜菜碱 式中R代表一个直链或支链C8-C20，优选地是C10-C14，更优选地是C12-C14，烷基。特别优选使用由Henkel公司以商品名DEHYTON AB 30销售的可可甜菜碱。相对于组合物总重量，两性表面活性剂用量为1-50％(重量)，优选5-20％(重量)。B-调节系统(i)-胺化硅氧烷本专利技术的洗涤剂组合物的基本特征是其中还含有至少一种胺化硅氧烷。在此以前和以后，与通常接受的定义相一致，术语硅氧烷或聚硅氧烷被理解为代表可变分子量的任何具有直链或环状的、支链或交联结构的有机硅聚合物或低聚物，它是由适当官能化的硅烷聚合和/或缩聚得到的，并基本上由重复的基本结构单元构成，在这些结构单元中，这些硅原子由一些氧原子将其连在一起(硅氧烷键≡Si-O-Si≡)，任选地以代的烃基通过碳原子直接连接在所述硅原子上。这些最通常的烃基是烷基，特别是C1-C10烷基，具体是甲基、氟代烷基、芳基，具体是苯基，和链烯基，具体是乙烯基；可以直接或通过烃基连接到硅氧烷链的其他类型的基，具体地是氢、卤素，具体是氯、溴或氟，硫醇类、烷氧基、聚氧化亚烷基(或聚醚)、并且具体是聚氧乙烯和/或聚氧化亚丙基，羟基或羟烷基、酰胺基团、酰氧基或酰氧基烷基、两性或甜菜碱基团、如羧化物、硫甘醇酸酯、磺基琥珀酸酯、硫代硫酸盐、磷酸盐和硫酸盐之类的阴离子基团，以上所列当然不是限制性的(所谓的“有机改性的”硅氧烷)。根据本专利技术，术语胺化硅氧烷代表任何含有至少一个伯胺、仲胺、叔胺或一个季铵基团的硅氧烷。因此可以提及(a)CTFA字典中称之为“amodimethicone”的下式聚硅氧烷 式中x’和y’是取决于分子量的整数，通常使所述重均分子量大约在5000-500,000之间；(b)符合下述化学式的胺化硅氧烷，R’aG3-a-Si(OSiG2)n-(OSiGbR’2-b)m-O-SiG3-n-R’a(III)式中G是一个氢原子或一个苯基、OH或C1-C8烷基基团，例如甲本文档来自技高网...

【技术保护点】
洗涤剂组合物，其特征在于在化妆用介质中包括（Ａ）洗涤基质物，其中包括至少一种硫酸烷基醚型阴离子表面活性剂和至少一种Ｃ↓［８］－Ｃ↓［２０］烷基甜菜碱型两性表面活性剂的和（Ｂ）调节系统，其中包括至少一种胺化硅氧烷和至少一种选自主要构成如式（Ⅰ）和／或（Ⅰ’）单元的均聚物的阳离子聚合物：＊＊＊式中ｋ和ｔ等于０或１，ｋ＋ｔ之和等于１；Ｒ↓［３］代表氢或甲基；Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］相互独立地代表１－２２碳烷基，优选含１－５碳的羟烷基，１－５碳低级胺基烷基，或Ｒ↓［１］和Ｒ↓［ ２］与其连接的氮原子一起代表杂环基如哌啶基或吗啉基；Ｙ↑［－］是阴离子如氢溴酸根，氢氯酸根，乙酸根，硼酸根，柠檬酸根，酒石酸根，硫酸氢根，亚硫酸氢根，硫酸根或磷酸根。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：S德科斯特，B贝奥奎，
申请(专利权)人：莱雅公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]