异氧杂头孢烯衍生物制造技术

技术编号:485029 阅读:203 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
*** (Ⅰ) 本发明专利技术涉及通式Ⅰ的异氧杂头孢烯衍生物,其易水解酯,所述化合物的可药用盐以及式Ⅰ化合物和它们的酯和盐的水合物,其中R↑[1]为氢或羧酸衍生的酰基;R↑[2]为氢,羟基,低级烷基,环烷基,低级烷氧基,低级链烯基,环烯基,低级炔基,芳基-低级烷基,芳基,芳氧基,芳基-低级烷氧基或杂环;未取代或被至少一个选自羧基,氨基,硝基,氰基,低级烷基,低级烷氧基,羟基,卤素,-CONR↑[21]R↑[22],-N(R↑[22])COOR↑[23],R↑[22]CO-,R↑[22]OCO-或R↑[22]COO-的基团取代的低级烷基,环烷基,低级烷氧基,低级链烯基,环烯基,低级炔基,芳基-低级烷基,芳基,芳氧基,芳基-低级烷氧基和杂环,其中R↑[21]为氢,低级烷基或环烷基;R↑[22]为氢或低级烷基;R↑[23]为低级烷基,低级链烯基或羧酸保护基。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及通式I的异氧杂头孢烯(isooxacephem)衍生物,其易水解酯,所述化合物的可药用盐以及式I化合物和它们的酯和盐的水合物 其中R1为氢或羧酸衍生的酰基;R2为氢,羟基,低级烷基,环烷基,低级烷氧基,低级链烯基,环烯基,低级炔基,芳基-低级烷基,芳基,芳氧基,芳基-低级烷氧基或杂环;未取代或被至少一个选自羧基,氨基,硝基,氰基,低级烷基,低级烷氧基,羟基,卤素,-CONR21R22,-N(R22)COOR23,R22CO-,R22OCO-或R22COO-的基团取代的低级烷基,环烷基,低级烷氧基,低级链烯基,环烯基,低级炔基,芳基-低级烷基,芳基,芳氧基,芳基-低级烷氧基和杂环,其中R21为氢,低级烷基或环烷基;R22为氢或低级烷基;R23为低级烷基,低级链烯基或羧酸保护基。本专利技术也涉及药物组合物和上述化合物的应用方法。在上述式I化合物中,3-位取代基可呈现式Ia的E形 或Ib的Z形 这里与R1共同使用的术语“由羧酸衍生的酰基”是指因除去羟基从有机羧酸衍生的所有有机基团。虽然R1基可为许多酰基中的任何一种,但下述某些酰基是优选的。举例的酰基为可用于酰化包括6-本文档来自技高网...

【技术保护点】
通式Ⅰ的异氧杂头孢烯衍生物,其易水解酯,所述化合物的可药用盐以及式Ⅰ化合物和它们的酯和盐的水合物*** Ⅰ其中R↑[1]为氢或羧酸衍生的酰基;R↑[2]为氢,羟基,低级烷基,环烷基,低级烷氧基,低级链烯基,环烯基,低级炔基, 芳基-低级烷基,芳基,芳氧基,芳基-低级烷氧基或杂环;未取代或被至少一个选自羧基,氨基,硝基,氰基,低级烷基,低级烷氧基,羟基,卤素,-CONR↑[21]R↑[22],-N(R↑[22])COOR↑[23],R↑[22]CO-,R↑[22]OCO-或R↑[22]COO-的基团取代的低级烷基,环烷基,低级烷氧基,低级链烯基,环烯基,低级炔基,...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:C胡伯施维仁JL斯派克林
申请(专利权)人:弗哈夫曼拉罗切有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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