背光源框架定位调整治具制造技术

本实用新型专利技术公开一种背光源框架定位调整治具，主要是由导轨、立柱及精密调平机构组成；导轨设置在底座上，四条导轨的设置组成一个矩形，其中一条导轨可沿与其相邻的两条平行导轨水平滑动，矩形内还设有与上述滑动导轨滑动方向相垂直的另一条滑动导轨，导轨上设有用于放置框架棱角的四个立柱，每条导轨上至少设有一个精密调平机构，该治具满足了不同尺寸背光源框架定位调整的需求，立柱及精密调平机构实现了竖直方向和水平方向的精确调整，将柔软易变形的背光源框架调整定位到标准状态，以便利用三坐标测量机激光扫描测头对其进行逆向重构及全尺寸检测。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种背光源框架定位调整治具，特别是涉及一种可以将 不同尺寸的背光源框架精密调整定位使其处于标准状态，以利于逆向检测的 治具。技术背景-背光源框架由于其本身的结构因素，在自然放置时是处于变形状态的。 传统的测量方法是利用二次元投影的原理进行，这种测量方法不仅精度不高， 而且对于背光源框架侧面的尺寸测试不到，不能进行全尺寸检测。三坐标测量机的引进解决了测量精度及全尺寸检测的问题。但如果对背 光源框架只进行简单的定位，利用三坐标测量机逆向重构及全尺寸检测时得 到的结果是不准确的。经对专利文献和专业期刊的检索，尚未发现关于背光 源框架定位调整装置的报道及相关信息的公开
技术实现思路
为了克服背光源框架检测时的变形问题，本技术的目的在于提供一 种可以将变形的背光源框架定位调整至标准状态的治具。为实现上述目的，本技术采取如下技术方案 一种背光源框架定位 调整治具，主要是由底座、导轨、立柱及精密调平机构组成，导轨设置在底 座上，四条导轨的设置组成一个矩形，导轨上设有用于放置框架棱角的四个 立柱，每条导轨上至少设有一个精密调平机构。本技术的优先方案是上述导轨中有一条导轨可沿与其相邻的两条 平行导轨水平滑动，四条导轨所组成的矩形内还设有与上述滑动导轨滑动方 向相垂直的另一条滑动导轨。本技术进一步的技术方案是四个立柱中有一个是作为高度基准的 固定立柱，其余三个立柱均可在导轨内自由移动，立柱的高度调节是采用螺 旋测微结构实现的。本技术更进一步的技术方案是所述的精密调平机构包括竖直方向 调整机构、水平方向调整机构和压紧固定机构；竖直方向调整机构位于精密调平机构的下部，其底部与导轨的T型槽配合，竖直方向的调节采用螺旋测微结构；水平方向调整机构位于精密调平机构的中部，主要包括下拖板、螺杆、 上拖板、螺母和托条，上拖板与下拖板滑动配合，螺杆固定在下拖板中，螺 母与上拖板固定连接，螺杆与螺母配合，上拖板的上表面设有放置框架的托条，托条与上拖板滑动配合，螺杆转动通过螺母传动带动上拖板水平移动； 压紧固定机构位于精密调平机构的上部，主要包括螺杆、滑槽、竖杆和固定 螺母，螺杆穿过滑槽，螺杆可在滑槽内水平方向和竖直方向移动，螺杆通过 位于滑槽上下面的固定螺母固定，滑槽通过竖杆与水平方向调整机构的上拖 板固定连接。两条滑动导轨分别实现横向和纵向的水平移动，适用于不同尺寸背光源 框架的定位和测量；立柱部分实现了竖直方向的精密调整，精密调平机构实 现了竖直方向及水平方向精密调整相结合，压紧机构使得被调整背光源框架 与调平机构同步运动。调整前先将背光源框架棱角放置在四个高度一致的立柱上，其中， 一个 立柱的高度固定，其余三个立柱采用螺旋测微结构进行竖直方向的微调，在 零点时与第一个立柱的高度是一样的，并且这四个立柱的中心点所构成的四 边形为矩形。背光源框架各条边框的调整可利用精密调平机构进行。竖直方向使用与 立柱相同的螺旋测微结构微调，并且零点时与立柱的高度一致；水平方向采 用螺杆转动，螺母移动的原理进行微调；治具中所有微调的精度可达到 0. Olmm;压紧机构使得被调整背光源框架与调平机构同步运动。同时，本技术采用导轨结构，立柱及调平机构的连续移动满足了不 同尺寸背光源框架的定位需要。本技术的有益效果是，可以对各种不同尺寸的背光源框架实现精密 调整，使其达到不变形的标准状态以利于逆向重构及全尺寸检测的进行。附图说明图l为放置有背光源框架的定位调整治具的三维结构图； 图2为精密调平机构的三维结构图3为精密调平机构中水平方向调整机构和压紧固定机构的结构剖面示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步的详细说明如图l所示，本技术主要由底座14、导轨9、导轨IO、导轨ll、滑动导轨12、滑动导轨13、固定立柱l、可调立柱2、可调立柱3、可调立柱4及精 密调平机构5， 6， 7, 8组成。导轨9、导轨IO、导轨11固定在底座14上，滑动 导轨13两端的下部开有U形滑槽卡在导轨10和导轨U上，可以在导轨10和导轨 ll上连续移动，滑动导轨12位于导轨9和滑动导轨13的下方，可沿导轨9和滑 动导轨13的水平方向连续移动，滑动导轨12和滑动导轨13可以在水平的横 向和纵向连续移动以满足不同尺寸背光源框架的定位需求。所有的导轨及滑 动导轨均加工相同的T型槽，即导轨的截面为T型槽结构，与之相配合的立柱 及调平机构可以在T型槽里任意移动。立柱l的位置固定不动，并且高度也是 固定的，可以作为其它立柱及调平机构零位高度的参照；立柱2，3， 4采用螺 旋测微结构进行竖直方向高度的精密调整，调整精度为0.01mm，背光源框架 15的四个棱角放置在四个立柱的平面上。精密调平机构5， 6， 7， 8在竖直方 向采用与立柱2， 3， 4相同的螺旋测微结构进行精密调整，水平方向采用螺 杆转动，螺母移动的原理实现精密调整，精度可达0.01mm，螺旋测微结构 即同于现有的螺旋测微器，属于测量领域公知技术，故该结构在此不再赘述。 结合图2和图3所示，精密调平机构包括竖直方向调整机构、水平方向调 整机构和压紧固定机构；竖直方向调整机构位于精密调平机构的下部，其底 部与导轨的T型槽配合，调节部分采用螺旋测微结构；竖杆26将精密调平机 构的水平方向调整机构与下端的竖直方向调整部分相连接。水平方向调整机 构位于精密调平机构的中部，主要包括下拖板16、螺杆24、上拖板17、螺母 27和拖条18，上拖板17与下拖板16之间采用燕尾槽结构的滑动连接，保证了 上拖板移动时的稳定性；竖杆26与丝杆固定圈25—起将螺杆24固定在下拖板 16中，螺母27与上拖板17铆合固定在一起，螺母27移动时，上拖板17也在水 平方向移动，螺杆24与螺母27配合，螺杆24在下拖板16中只能转动而不能移 动，转动螺杆24时，通过螺母27传动带动上拖板17水平移动，上拖板17的上 表面设有放置框架边框的托条18，托条18与上拖板17之间采用燕尾槽结构的滑动配合，保证了与上拖板移动的同步性，可以根据背光源框架的边框宽度 和长度的不同加工不同宽度和长度的托条，以保证背光源框架边框有更多的 部分放置在同一平面上，提高了定位的精度，降低了调整定位的复杂性。压紧固定机构位于精密调平机构的上部，主要包括螺杆21、滑槽22、竖杆23和 固定螺母19、 20，螺杆21竖直穿过滑槽22，螺杆21可在滑槽内水平方向和竖 直方向移动，螺杆21通过位于滑槽22上下面的固定螺母19和20固定，滑槽22 通过竖杆23与水平方向调整机构的上拖板17固定连接。在调整的过程中，为 了使背光源框架的移动与治具的移动同步，通过压紧竖杆23与上拖板固定在 一起压紧机构进行压紧，压紧螺杆21可根据被压紧工件的高度和宽度在压紧 滑槽22里移动，移到合适位置后，可利用压紧下螺母19和压紧上螺母20将 其固定。这样，在转动螺杆使得上拖板带动工件移动的同时，压紧机构也是 一起移动的。使用本技术进行定位调整时，首先，针对待定位背光源框架的尺寸 将四个立柱在导轨上移动到合适的位置，并将螺旋测微结构调整到零位，以 确保四个立柱的高度一致。将背光源框架四个棱角放置在立柱的四个平面上。其次，根据需要确定精密调平本文档来自技高网...

【技术保护点】
背光源框架定位调整治具，其特征在于：主要是由底座、导轨、立柱及精密调平机构组成，导轨设置在底座上，四条导轨的设置组成一个矩形，导轨上设有用于放置框架棱角的四个立柱，每条导轨上至少设有一个精密调平机构。

【技术特征摘要】
1、背光源框架定位调整治具，其特征在于主要是由底座、导轨、立柱及精密调平机构组成，导轨设置在底座上，四条导轨的设置组成一个矩形，导轨上设有用于放置框架棱角的四个立柱，每条导轨上至少设有一个精密调平机构。2、 根据权利要求l所述的背光源框架定位调整治具，其特征在于所述 导轨中有一条导轨可沿与其相邻的两条平行导轨水平滑动，四条导轨所组成 的矩形内还设有与上述滑动导轨滑动方向相垂直的另一条滑动导轨。3、 根据权利要求l所述的背光源框架定位调整治具，其特征在于四个 立柱中有一个是作为高度基准的固定立柱，其余三个立柱均可在导轨内自由 移动。4、 根据权利要求1或3所述的背光源框架定位调整治具，其特征在于所 述立柱的高度调节是采用螺旋测微结构。5、 根据权利要求l所述的背光源框架定位调整治具，其特征在于所述 导轨的截面为T型槽结构，立柱及精密调平机构的底部与导轨的T型槽配合。6、 根据权利要求l所述的背光源框架定位调整治具，其特征在于所述 的精密...

【专利技术属性】
技术研发人员：李敏，赵长春，
申请(专利权)人：苏州京东方茶谷电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]