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5-取代的嘧啶-2-基氧基羧酸衍生物及其制法和作为内皮肽拮抗剂的用途制造技术

技术编号:476118 阅读:337 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
*** 本发明专利技术涉及式(Ⅰ)所示的羧酸衍生物,其中取代基具有下述定义:R↑[1]=四唑或基团(1);R=基团OR↑[7](2)、(3)、经氮原子键合的五元杂芳环诸如吡咯基、吡唑基、咪唑基和三唑基;R↑[2]、R↑[3]=氢、羟基、NH↓[2]、NH(C↓[1]-C↓[4]烷基)、N(C↓[1]-C↓[4]烷基)↓[2]、卤素、C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[2]-C↓[4]链烯基、C↓[2]-C↓[4]炔基、C↓[1]-C↓[4]羟基烷基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷氧基或C↓[1]-C↓[4]烷基硫基、;X=卤素、C↓[1]-C↓[4]卤代烷基、羟基;R↑[4]和R↑[5]=苯基或萘基、C↓[3]-C↓[7]环烷基、苯基或萘基,其在邻位经直接键、亚甲基、亚乙基或亚乙烯基、氧或硫原子或SO↓[2]-NH或N-烷基或五元或六元杂芳环连接;R↑[6]=羟基、苯基或萘基、五元或六元杂芳环、C↓[1]-C↓[8]烷基、C↓[3]-C↓[6]链烯基、C↓[3]-C↓[6]炔基或C↓[3]-C↓[8]环烷基,其中所述基团可被取代一次或多次,条件是Z不为单键时,R↑[6]只能为氢;Z=硫、氧或单键。此外本发明专利技术还涉及其生理上可容性盐,以及其对映纯及非对映纯形式。这种新型化合物适于治疗疾病,特别是作为内皮肽拮抗剂。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及新型的具有5-取代嘧啶环的羧酸衍生物,以及其制备方法和用途。内皮肽是一种由21个氨基酸组成的肽,并由血管内皮合成与释放。内皮肽以三种异构形式存在,即ET-1,ET-2和ET-3。在下文中,“内皮肽”或“ET”是指内皮肽的一种或所有异构体。内皮肽是一种强力的血管收缩剂,并对血管张力具有强有效的作用。已知这种血管收缩作用是由内皮肽与其受体的结合而引起的(Nature,332,411-415,1988;FEBS Letters,231,440-444,1988和Biochem.Biophys.Res.Commun.,154.868-875,1988)。内皮肽的释放增加或非正常释放将引起外周血管、肾血管和脑血管的持续收缩,从而导致疾病的发生。文献中已经报道内皮肽涉及许多疾病,包括高血压、急性心肌梗塞、肺动脉高血压、雷诺氏病、脑血管痉挛、中风、良性前列腺肥大、粥样硬化、哮喘和前列腺癌。(J.Vascular Med.Biology 2.207(1990),J.Am.Med.Association264,2868(1990),Nature 344.114(1990),N.Engl.J.Med.322,205(1989),N.Engl.J.Med.328,1732(1993),Nephron 66,373(1994),Stroke 25,904(1994),Nature 365,759(1993),J.Mol.Cell.Cardiol.27,A234(1995);Cancer Research 56,663(1996),Nature Medicine 1.944(1995))目前文献中描述了至少两种内皮肽受体亚型,ETA和ETB受体(Nature 348,730(1990),Nature 348,732(1990))。结果,抑制内皮肽与一种或两种受体结合的物质能对抗内皮肽的生理作用,因此是有价值的药剂。羧酸衍生物及其作为内皮肽拮抗剂的用途如WO 95/26716,WO96/11914,WO 97/9294,WO 97/12878,WO 97/38980,WO 97/38981所述。这些化合物在杂环的5位上带有一个氮原子或下式所示的基团 与之相反,本专利技术的化合物在该位上有下式所示的基团 其中X为卤素、羟基或C1-C4卤代烷基。与已知内皮肽拮抗剂相比,本专利技术的化合物例如在人体内代谢更为有利。本专利技术涉及式Ⅰ所示的羧酸衍生物 其中R1为四唑或下式所示的基团 其中R为(a)基团OR7,其中R7为氢、碱金属阳离子、碱土金属阳离子、生理可容性有机铵离子诸如叔C1-C4烷基铵或铵离子;C3-C8环烷基、C1-C8烷基、CH2-苯基,其可被一个或多个下列基团取代卤素、硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基、巯基、C1-C4烷基硫基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;C3-C6链烯基或C3-C6炔基,这些基团本身可以带1~5个卤原子;此外R7可以为带有1~5个卤原子和/或1~3个下列基团的苯基硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基、巯基、C1-C4烷基硫基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;(b)经氮原子连接的诸如吡咯基、吡唑基、咪唑基和三唑基的五元杂芳环,且该杂芳环可以带有1~2个卤原子、1~2个C1-C4烷基或1~2个C1-C4烷氧基。(c)下式所示基团 其中k可以为0、1或2,p可以为1、2、3或4,以及R8为C1-C4烷基、C3-C8环烷基、C3-C6链烯基、C3-C6炔基或苯基,其可被一个或多个,例如1~3个下列基团所取代卤素、硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫基、巯基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;d)下式所示基团氧基、C1-C4烷基硫基、巯基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2。其它取代基定义如下R2为氢、羟基、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、卤素、C1-C4烷基、C2-C4链烯基、C2-C4炔基、C1-C4羟基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或C1-C4烷基硫基、吗啉;X为卤素、C1-C4卤代烷基、羟基;R3为氢、羟基、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、卤素、C1-C4烷基、C2-C4链烯基、C2-C4炔基、C1-C4羟基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、-NH-O-C1-C4烷基、C1-C4烷基硫基;R4和R5(可以相同或不同)为可被一个或多个下列基团所取代的苯基或萘基卤素、硝基、氰基、羟基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、苯氧基、巯基、烷基羰基、烷氧基羰基、C1-C4烷基硫基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;或苯基或萘基,其在邻位经直接键、亚甲基、亚乙基或亚乙烯基、氧或硫原子或SO2-、NH-或N-烷基互相连接;或含1~3个氮原子和/或一个硫或氧原子的五元或六元杂芳环,其可带有1~4个卤原子和/或1~2个下列基团C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、苯基、苯氧基或苯基羰基,其中苯基本身可带有1~5个卤原子和/或1~3个下列基团C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基和/或C1-C4烷基硫基;或C3-C7环烷基;R6为氢、C1-C8烷基、C3-C6链烯基、C3-C6炔基或C3-C8环烷基,其中这些基团可被下列基团单取代或多取代羟基、巯基、羧基、卤素、硝基、氰基、C1-C4烷氧基、C3-C6链烯氧基、C3-C6炔氧基、C1-C4烷基硫基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基羰基、C1-C4烷氧基羰基、C3-C8烷基羰基烷基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、苯氧基或苯基,其中上述芳基可被单或多取代,例如被下列基团1~3取代卤素、硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、巯基、羧基、羟基、氨基、R12、C1-C4烷氧基羰基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、二氧代亚甲基、二氧代亚乙基或C1-C4烷基硫基;苯基或萘基,其各自可被一个或多个下列基团所取代卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、苯氧基、C1-C4烷基硫基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2或二氧代亚甲基或二氧代亚乙基;含1~3个氮原子和/或一个硫或氧原子的五元或六元杂芳环,其可带有1~4个卤原子和/或1~2个下列基团C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、苯基、苯氧基或苯基羰基,其中苯基本身可带有1~5个卤原子和/或1~3个下列基团C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基和/或C1-C4烷基硫基;条件是当Z非单键时,R6只能为氢;R本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ所示的羧酸衍生物Ⅰ ***其中:R↑[1]为四唑或下式所示的基团***R为:a)基团OR↑[7],其中R↑[7]为氢、碱金属阳离子、碱土金属阳离子、生理可容性有机铵离子或铵离子;C↓[3]-C↓[8]环烷 基、C↓[1]-C↓[8]烷基、CH↓[2]-苯基,其可被一个或多个下列基团取代:卤素、硝基、氰基、C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷基、羟基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、巯基、C↓[1]-C↓[4]烷基硫基、氨基、NH(C↓[1]-C↓[4]烷基)、N(C↓[1]-C↓[4]烷基)↓[2];C↓[3]-C↓[6]链烯基或C↓[3]-C↓[6]炔基,这些基团本身可带有1~5个卤原子;此外,R↑[7]可以为苯基,其可带有1~5个卤原子和/或1~3 个下列基团:硝基、氰基、C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷基、羟基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、巯基、C↓[1]-C↓[4]烷基硫基、氨基、NH(C↓[1]-C↓[4]烷基)、N(C↓[1]-C↓[4]烷基)↓[2];b)通过氮原子连接的诸如吡咯基、吡唑基、咪唑基和三唑基的五元杂芳环,且该芳环可以带有1~2个卤原子、1~2个C↓[1]-C↓[4]烷基或1~2个C↓[1]-C↓[4]烷氧基;c)下式所示基团-O-(CH↓[2])↓[p]-*- R↑[8]其中k可以为0、1或2,p可以为1、2、3或4,以及R↑[8]为C↓[1]-C↓[4]烷基,C↓[3]-C↓[8]环烷基,C↓[3]-C↓[6]链烯基、C↓[3]-C↓[6]炔基或苯基,其可被一个或多个,例如1~3个下列基 团所取代:卤素、硝基、氰基、C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷基、羟基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、C↓[1]-C↓[4]烷基硫基、巯基、氨基、NH(C↓[1]-C↓[4]烷基)、N(C↓[1]-C↓[4]烷基) ↓[2];d)下式所示基团***其中R↑[9]为:C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[3]-C↓[6]链烯基、C↓[3]-C↓[6]炔基、C↓[3]-C↓[8]环烷基,其中这些基团可以带有一个C↓[1]-C↓[4]烷氧基、C↓ [1]-C↓[4]烷基硫基和/或一个c)中所提及的苯基;可被1~3个下列基团所取代的苯基:卤素、硝基、氰基、C↓[1]-C↓[...

【技术特征摘要】
DE 1998-2-17 19806438.11. 式Ⅰ所示的羧酸衍生物 其中R1为四唑或下式所示的基团 R为a)基团OR7,其中R7为氢、碱金属阳离子、碱土金属阳离子、生理可容性有机铵离子或铵离子;C3-C8环烷基、C1-C8烷基、CH2-苯基,其可被一个或多个下列基团取代卤素、硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基、巯基、C1-C4烷基硫基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;C3-C6链烯基或C3-C6炔基,这些基团本身可带有1~5个卤原子;此外,R7可以为苯基,其可带有1~5个卤原子和/或1~3个下列基团硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基、巯基、C1-C4烷基硫基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;b)通过氮原子连接的诸如吡咯基、吡唑基、咪唑基和三唑基的五元杂芳环,且该芳环可以带有1~2个卤原子、1~2个C1-C4烷基或1~2个C1-C4烷氧基;c)下式所示基团 其中k可以为0、1或2,p可以为1、2、3或4,以及R8为C1-C4烷基,C3-C8环烷基,C3-C6链烯基、C3-C6炔基或苯基,其可被一个或多个,例如1~3个下列基团所取代卤素、硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫基、巯基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;d)下式所示基团 其中R9为C1-C4烷基、C3-C6链烯基、C3-C6炔基、C3-C8环烷基,其中这些基团可以带有一个C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫基和/或一个c)中所提及的苯基;可被1~3个下列基团所取代的苯基卤素、硝基、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫基、巯基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2,R2为氢、羟基、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、卤素、C1-C4烷基、C2-C4链烯基、C2-C4炔基、C1-C4羟基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或C1-C4烷基硫基、吗啉;X为卤素、C1-C4卤代烷基、羟基;R3为氢、羟基、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、卤素、C1-C4烷基、C2-C4链烯基、C2-C4炔基、C1-C4羟基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、-NH-O-C1-C4烷基、C1-C4烷基硫基;R4和R5(可以相同或不同)为可被一个或多个下列基团所取代的苯基或萘基卤素、硝基、氰基、羟基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、苯氧基、巯基、烷基羰基、烷氧基羰基、C1-C4烷基硫基、氨基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2;或苯基或萘基,其在邻位由直接键、亚甲基、亚乙基或亚乙烯基、氧或硫原子或SO2-...

【专利技术属性】
技术研发人员:W安伯格R扬森A克林D克林格H里舍尔斯S赫尔根勒德尔M拉沙克L翁格尔
申请(专利权)人:BASF公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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