一种聚醚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用技术

技术编号:46629243 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-14 21:27
本发明专利技术属于聚合物领域,具体公开一种聚醚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用。本发明专利技术采用包括纳迪克酸酐的封端剂,对聚醚酰亚胺进行分子链封端改性,加强了聚醚酰亚胺分子链的刚性,从而提高了薄膜的热稳定性,增加了聚醚酰亚胺聚合物分子量分布宽度,促进了分子链堆积,减小了分子链间距,并且在不影响分子量的情况下引入深陷阱能级,使其在室温和高温下均具有较高的击穿强度;且原料以及生产成本相对低廉,适合应用于大规模制备需面临极端高温的条件下的薄膜电容器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于聚合物领域,具体涉及一种聚醚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用


技术介绍

1、耐高温电容器在航天航空、油气勘探、高能脉冲系统、电动汽车等领域有着广泛的应用。现有的耐高温电容器常采用聚醚酰亚胺(polyetherimide,pei)薄膜作为其储能电介质膜,其具有较高的玻璃化转变温度,使其能耐高温。但在高温高场的条件下,其击穿场强会出现显著降低的现象,这会导致电容器的储能效率和储能密度的急剧降低。随着电力设备、电子器件的小型化发展,但器件尺寸小,会进一步降低器件所承受的击穿场强,特别是如何有效提升聚合物的击穿场强,已成为开发新型耐高温储能电介质的关键问题。因此,需要对聚合物介电薄膜进行改性,以提高其高温下的击穿性能。


技术实现思路

1、针对上述现有技术涉及的聚合物介电薄膜击穿场强较低的问题,本专利技术将提供一种聚醚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用。

2、为实现上述目的,具体包括以下技术方案:

3、第一方面,本专利技术提供一种聚醚酰亚胺薄膜,包括如下化学结构式的化合物:

4本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,包括如下化学结构式的化合物:

2.如权利要求1所述的聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,包括如下化学结构的化合物:

3.如权利要求1所述的聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,所述聚醚酰亚胺薄膜的数均分子量为18000-19000g/mol。

4.如权利要求1所述的聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,所述聚醚酰亚胺薄膜的厚度为10-20μm。

5.一种权利要求1-4任意一项所述的聚醚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

6.如权利要求5所述的聚醚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下Ⅰ-Ⅲ中的至少一项:...

【技术特征摘要】

1.一种聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,包括如下化学结构式的化合物:

2.如权利要求1所述的聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,包括如下化学结构的化合物:

3.如权利要求1所述的聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,所述聚醚酰亚胺薄膜的数均分子量为18000-19000g/mol。

4.如权利要求1所述的聚醚酰亚胺薄膜,其特征在于,所述聚醚酰亚胺薄膜的厚度为10-20μm。

5.一种权利要求1-4任意一项所述的聚醚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

6.如权利要求5所述的聚醚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下ⅰ-ⅲ中的至少一项:

7.如权利要求5所述的聚醚酰亚胺薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员:于是乎彭向阳饶章权李银格吴吉赵东生冯阳方院生李盛涛
申请(专利权)人:广东电网有限责任公司电力科学研究院
类型:发明
国别省市:

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