具有顶部支撑层的半导体元件及其制备方法技术

技术编号:46624587 阅读:0 留言:0更新日期:2025-10-14 21:20
本公开提供一种半导体元件及其制备方法。该半导体元件包括一基板;一底部电极,位于该基板之上且包括一容器状轮廓;以及一顶部支撑层,悬垂于该基板之上并连接到该底部电极。该顶部支撑层的一厚度和该底部电极的一厚度的厚度比介于大约3.0%至大约8.0%之间。

【技术实现步骤摘要】

本申请案主张美国第18/625,497号专利申请案的优先权(即优先权日为“2024年4月3日”),其内容以全文引用的方式并入本文中。本公开是关于一种半导体元件及其制备方法。特别是关于一种具有顶部支撑层的半导体元件及其制备方法


技术介绍

1、半导体元件已运用在各种电子应用上,像是个人电脑、手机、数码相机、以及其他的电子设备。半导体元件的尺寸不断微缩化,以满足对不断增长的计算能力的需求。然而,在微缩化的制程期间会出现各种问题,且这样的问题不断地增加。因此,在提高品质、产率、性能、和可靠性以及降低复杂度方面仍然存在挑战。

2、上文的“先前技术”说明仅是提供
技术介绍
,并未承认上文的“先前技术”说明揭示本公开的标的,不形成本公开的先前技术,且上文的“先前技术”的任何说明均不应作为本案的任一部分。


技术实现思路

1、本公开的一方面提供一种半导体元件,包括一基板;一底部电极,位于该基板之上且包括一容器状(container-shaped)轮廓;以及一顶部支撑层,悬垂于(overhanged)该基板之上并连接到本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体元件,包括:

2.如权利要求1所述的半导体元件,其中该底部电极包括:

3.如权利要求2所述的半导体元件,其中该顶部支撑层连接到该第二壁部分上。

4.如权利要求3所述的半导体元件,其中该第一壁部分的一顶表面比该第二壁部分的一顶表面低。

5.如权利要求4所述的半导体元件,其中该第一壁部分和该第二壁部分之间的一尺寸朝该底部分渐缩。

6.如权利要求1所述的半导体元件,更包括一底部支撑层,位于该顶部支撑层之下并远离该顶部支撑层,其中该底部支撑层横向围绕该底部电极。

7.如权利要求6所述的半导体元件,更包括一中间支...

【技术特征摘要】

1.一种半导体元件,包括:

2.如权利要求1所述的半导体元件,其中该底部电极包括:

3.如权利要求2所述的半导体元件,其中该顶部支撑层连接到该第二壁部分上。

4.如权利要求3所述的半导体元件,其中该第一壁部分的一顶表面比该第二壁部分的一顶表面低。

5.如权利要求4所述的半导体元件,其中该第一壁部分和该第二壁部分之间的一尺寸朝该底部分渐缩。

6.如权利要求1所述的半导体元件,更包括一底部支撑层,位于该顶部支撑层之下并远离该顶部支撑层,其中该底...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴俊亨
申请(专利权)人:南亚科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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