一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法技术

本发明专利技术提出一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法，所述方法包括：建立光场3D显示器仿真模型，仿真微透镜阵列在不同旋转角度下的摩尔纹，频域分析得到最优旋转角度。本发明专利技术通过仿真微透镜阵列在不同旋转角度下产生的摩尔纹，利用二维快速傅里叶变换计算这些摩尔纹的高频能量占比，从而精确得到抑制摩尔纹的最优旋转角度，能够为无摩尔纹的高清晰光场3D显示屏研制提供有效解决方法。

【技术实现步骤摘要】

一、本专利技术涉及图像处理技术，特别涉及一种光场3d显示摩尔纹仿真与抑制方法。

技术介绍

0、二、
技术介绍

1、光场3d显示能够显示无观看眩晕的立体图像，具有重构光场分布和全彩色等优点，被认为是最具发展前景的3d显示技术之一。光场3d显示使用微透镜阵列作为控光元件，在显示时，微透镜阵列位于2d显示屏前方焦距处，对微图像阵列进行采样。2d显示屏由红、绿、蓝子像素组成，呈条纹型几何排布，微透镜阵列也具有规则的透镜间距，子像素的几何周期与透镜阵列的周期相互干涉，产生摩尔纹，阻碍观看者观看清晰的3d图像。旋转微透镜阵列可以改变干涉周期，从而抑制由周期叠加产生的摩尔纹。目前，对摩尔纹的测量方法通常采用遍历角度旋转微透镜阵列实测摩尔纹，该方法存在测量误差且测量结果无法量化，很难得到最优旋转角度。因此，迫切需要一种光场3d显示摩尔纹仿真与抑制方法，对摩尔纹进行精准仿真与量化，寻找到最优旋转角度，实现摩尔纹抑制。

技术实现思路

0、三、
技术实现思路

1、本专利技术提出一种光场3d显示摩尔纹仿真与抑制方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法，其特征在于，所述建立光场3D显示器仿真模型步骤，设定微透镜阵列参数设定微透镜阵列参数，设定透镜元间距以及水平和垂直方向包含的透镜元数目；设定2D显示屏参数，设定像素尺寸、子像素水平和垂直尺寸、子像素水平和垂直间隔尺寸以及子像素排布方式；设定统一坐标系参数，设定所述微透镜阵列和2D显示屏的坐标原点、x轴和y轴正方向以及坐标系的手系。

3.根据权利要求1所述的一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法，其特征在于，所述仿真微透镜阵列在不...

【技术特征摘要】

1.一种光场3d显示摩尔纹仿真与抑制方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种光场3d显示摩尔纹仿真与抑制方法，其特征在于，所述建立光场3d显示器仿真模型步骤，设定微透镜阵列参数设定微透镜阵列参数，设定透镜元间距以及水平和垂直方向包含的透镜元数目；设定2d显示屏参数，设定像素尺寸、子像素水平和垂直尺寸、子像素水平和垂直间隔尺寸以及子像素排布方式；设定统一坐标系参数，设定所述微透镜阵列和2d显示屏的坐标原点、x轴和y轴正方向以及坐标系的手系。

3.根据权利要求1所述的一种光场3d显示摩尔纹仿真与抑制方法，其特征在于，所述仿真微透镜阵列在不同旋转角度下的摩尔纹步骤，进行坐标系旋转，计算所述微透镜阵列旋转后每个透镜元中心的位置；确定每个透镜元中心对应的显示区域，获取所述显示区域的颜色值；将对应颜色填充到整个透镜元区域，模拟透镜对所述2d显示屏子像素的采样效果。

4.根据权利要求1或3所述的一种光场3d显示摩尔纹仿真与抑制方法，其特征在于，所述进行坐标系旋转，计算所述微透镜阵列旋转后每个透镜元中心的位置，通过旋转矩阵将透镜元中心坐标变换到旋转后坐标系中；所述确定每个透镜元中心对应的显示区域，对旋转后透镜元...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一健，王琼华，邢妍，李祎航，储繁，何岷阳，
申请(专利权)人：北京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：