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一种温度传感器及其制备方法技术

技术编号:46609530 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-14 21:08
本申请公开了一种温度传感器及其制备方法,涉及温度传感器技术领域。温度传感器包括衬底、温度敏感膜和电极,所述温度敏感膜设置于所述衬底的一侧,所述电极设置于所述温度敏感膜背离所述衬底的一侧;所述温度敏感膜包括氮化铬薄膜。本申请提供的温度传感器可以提升温度传感器的检测灵敏度。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及温度传感器,尤其涉及一种温度传感器及其制备方法


技术介绍

1、对温度的精确测量,尤其在宽温区和极端条件下,对工业生产和基础研究具有重要意义。目前,常用的温度传感器通常是基于材料的电阻变温曲线,如zrn、ruo2等材料制成的温度传感器。

2、然而,相关技术中的温度传感器电阻受磁场影响较大,且温度测试精度较低。


技术实现思路

1、本申请提供了一种温度传感器及其制备方法,以提升温度传感器的检测灵敏度。

2、本申请提供了一种温度传感器,包括衬底、温度敏感膜和电极,所述温度敏感膜设置于所述衬底的一侧,所述电极设置于所述温度敏感膜背离所述衬底的一侧;

3、所述温度敏感膜包括氮化铬薄膜。

4、在一些可能的实施方式中,所述氮化铬薄膜的厚度h为,1nm≤h≤1mm;

5、和/或,所述氮化铬薄膜中氮的摩尔百分比n为,0≤n≤50%。

6、在一些可能的实施方式中,所述电极配置有第一侧边和第二侧边,所述第一侧边的长度m大于所述第二侧边的长度n。...

【技术保护点】

1.一种温度传感器,其特征在于,包括衬底(100)、温度敏感膜和电极(310),所述温度敏感膜设置于所述衬底(100)的一侧,所述电极(310)设置于所述温度敏感膜背离所述衬底(100)的一侧;

2.根据权利要求1所述的温度传感器,其特征在于,所述氮化铬薄膜(210)的厚度H为,1nm≤H≤1mm;

3.根据权利要求1所述的温度传感器,其特征在于,所述电极(310)配置有第一侧边(311)和第二侧边(312),所述第一侧边(311)的长度M大于所述第二侧边(312)的长度N。

4.根据权利要求3所述的温度传感器,其特征在于,所述第一侧边(311)的长度...

【技术特征摘要】

1.一种温度传感器,其特征在于,包括衬底(100)、温度敏感膜和电极(310),所述温度敏感膜设置于所述衬底(100)的一侧,所述电极(310)设置于所述温度敏感膜背离所述衬底(100)的一侧;

2.根据权利要求1所述的温度传感器,其特征在于,所述氮化铬薄膜(210)的厚度h为,1nm≤h≤1mm;

3.根据权利要求1所述的温度传感器,其特征在于,所述电极(310)配置有第一侧边(311)和第二侧边(312),所述第一侧边(311)的长度m大于所述第二侧边(312)的长度n。

4.根据权利要求3所述的温度传感器,其特征在于,所述第一侧边(311)的长度m设置为,10nm≤m≤10mm;

5.一种温度传感器制备方法,其特征在于,用于制备如权利要求1至4任一项所述的温度传感器,所述温度...

【专利技术属性】
技术研发人员:洪德顺孙阳
申请(专利权)人:重庆大学
类型:发明
国别省市:

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