一种气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置与方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置与方法，利用氢气与水蒸气密度差异及其分压控制，通过炉体内设置升化仓和倒圆台状还原器，将气相MoO3与氩气的混合物及氢气共同沿倒圆台状还原器底部切向进入倒圆台状还原器内部进行还原反应，在微流控技术的基础上，既保证超细钼粉的粒度分布，又实现水蒸气的有效分离，实现以工业三氧化钼或高纯三氧化钼为原料直接制备到粒度均匀且氧含量低的超细钼粉，大幅缩减设备投入及运行成本，实现超细钼粉低氧化和粒度窄分布化‑高效率‑低成本‑绿色化制备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于超细粉末制备，涉及超细钼粉的方法与装置，具体涉及一种气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置与方法。

技术介绍

1、粒径小于1.5μm的超细钼粉具有更加优越的机械、电学、磁学、热学、光学和化学(包括触媒)性能。超细粉末通常用于粉末冶金和金属陶瓷压制件、合金、特殊陶瓷和电气元件的生产。它们是很好的填料、磨料、颜料、触媒，同时还可用于耐蚀、耐磨和耐热涂层。在通常粒度的钼粉中加入3-5％的超细钼粉进行压型、烧结，可使烧结温度大为下降，并能得到致密度高的钼和钼合金制品。钼粉粒度和氧含量对钼粉的化学性质影响很大，研究表明不同粒度和氧含量的钼粉具有不同的烧结活性和催化活性。因此，获得低氧与窄分布特征是超细钼粉最为重要的指标之一。

2、现有超细钼粉的制备方法主要分为热分解法和还原法。热分解法是首先用氯气与辉钼矿反应制得mocl6，然后经高温加热分解mocl6制备超细钼粉；还原法又分为c还原法和h2还原法。碳还原法是将c和moo3进行高能球磨，经过低温段先制得moo2，再在高温段继续还原得到超细钼粉；h2还原法是以h2为还原剂，在密闭、高温环境下还本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置，其特征在于，包括竖向设置的中空的圆柱状的炉体(1)，所述的炉体(1)内部靠近顶部设置有升华仓(2)，所述的升华仓(2)顶部中央设置有进料管(3)，所述的进料管(3)延伸至炉体(1)顶部，进料管(3)位于炉体(1)外部部分的一侧设置有进料口(4)，所述的进料口(4)设置有密封板(5)；

2.如权利要求1所述的气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置，其特征在于，所述的循环系统包括循环水收集箱(15)，所述的循环水收集箱(15)的一侧设置有循环水冷却箱(16)，所述的循环水收集箱(15)和循环水冷却箱(16)的顶部和底部分别通过管路连...

【技术特征摘要】

1.一种气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置，其特征在于，包括竖向设置的中空的圆柱状的炉体(1)，所述的炉体(1)内部靠近顶部设置有升华仓(2)，所述的升华仓(2)顶部中央设置有进料管(3)，所述的进料管(3)延伸至炉体(1)顶部，进料管(3)位于炉体(1)外部部分的一侧设置有进料口(4)，所述的进料口(4)设置有密封板(5)；

2.如权利要求1所述的气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置，其特征在于，所述的循环系统包括循环水收集箱(15)，所述的循环水收集箱(15)的一侧设置有循环水冷却箱(16)，所述的循环水收集箱(15)和循环水冷却箱(16)的顶部和底部分别通过管路连接；

3.如权利要求2所述的气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置，其特征在于，所述的氩气/氢气分离器(21)与氩气缓冲罐(10)之间的管路上、氩气/氢气分离器(21)与氢气缓冲罐(13)之间的管路上分别设置有第一气体压缩机(22)和第二气体压缩机(28)。

4.如权利要求1所述的气相还原制备低氧及窄分布超细钼粉的装置，其特征在于，所述的分离干燥系统包括与还原器出料管(14)连接的螺旋分离器(23)，所述的螺旋分离器(23)...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙院军，孙紫昂，孙军，丁向东，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：