【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ito废靶回收领域,更具体地讲,涉及一种ito废靶回收方法。
技术介绍
1、氧化铟锡(ito)作为兼具优异导电性与光学透明度的战略功能材料,在平板显示领域占据不可替代地位。然而其全产业链存在显著的资源效率瓶颈:烧结工艺中约产生15-20%的边角废料,而磁控溅射环节更是存在严重损耗——靶材实际利用率普遍低于30%,超过70%的ito以镀膜废渣形式沉积于真空腔室,直接导致贵金属铟的战略性流失。据国际金属统计数据显示,全球铟储量仅1.6万吨且年消耗量增速超8%,供需失衡已引发近十年铟价暴涨,资源可持续性面临严峻挑战。
2、针对ito废弃靶材的资源化再生,现行主要有水热法和溶剂热法。传统水热法和溶剂热法在ito废弃靶材再生中具有金属浸出率较高的优势,且通过调节溶剂体系(水热法以水为介质,溶剂热法采用有机溶剂)可实现铟、锡的选择性溶解;然而,其缺陷在于水热法易产生含重金属废水,溶剂热法则存在有机溶剂回收成本高、潜在毒性残留等问题。
3、开发兼具有经济性与过程清洁化的新型回收技术已成为行业共性需求。
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【技术保护点】
1.一种ITO废靶回收方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的ITO废靶回收方法,其特征在于,第一压强、第二压强和第三压强为8Pa~12Pa。
3.根据权利要求1或2所述的ITO废靶回收方法,其特征在于,中间体加热至1100℃~1200℃后保温1.5h~2.5h至反应结束,得到含硫化铟和硫化锡的混合气体。
4.根据权利要求1或2所述的ITO废靶回收方法,其特征在于,将含硫化铟和硫化锡的混合气体置于800℃~850℃温度下保温1.5h~2.5h至反应结束,分别得到冷凝的硫化铟以及含硫化锡的气体。
5.根据
...【技术特征摘要】
1.一种ito废靶回收方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的ito废靶回收方法,其特征在于,第一压强、第二压强和第三压强为8pa~12pa。
3.根据权利要求1或2所述的ito废靶回收方法,其特征在于,中间体加热至1100℃~1200℃后保温1.5h~2.5h至反应结束,得到含硫化铟和硫化锡的混合气体。
4.根据权利要求1或2所述的ito废靶回收方法,其特征在于,将含硫化铟和硫化锡的混合气体置于800℃~850℃温度下保温1.5h~2.5h至反应结束,分别得到冷凝的硫化铟以及含硫化锡的气体。
5.根据权利要求1或2所述的ito废靶回收方法,其特征在于,将含硫...
【专利技术属性】
技术研发人员:孔令鑫,李桐,杨斌,徐宝强,蒋文龙,邓勇,
申请(专利权)人:昆明理工大学,
类型:发明
国别省市:
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