辐照剂量控制方法和装置、辐照系统和存储介质制造方法及图纸

技术编号:46592801 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-10 21:26
本公开提供一种辐照剂量控制方法和装置、辐照系统和存储介质。辐照剂量控制方法包括:接收辐照剂量检测器提供的辐照剂量值,其中辐照剂量检测器位于被辐照物品的一侧,辐射源位于被辐照物品的另一侧;在辐照剂量值不在预定范围内的情况下,调整辐射源的工作电参数,以便辐照剂量检测器采集的辐照剂量值在预定范围内。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及辐照领域,特别涉及一种辐照剂量控制方法和装置、辐照系统和存储介质


技术介绍

1、目前,主要利用高能电子束对冷链物品进行消毒灭菌处理,其核心原理是利用辐射源产生的高能电子束破坏微生物的遗传物质(如dna(deoxyribonucleic acid,脱氧核糖核酸)/rna(ribonucleic acid,核糖核酸 ))和蛋白质结构,从而实现对病原体的快速灭活,保证冷链物品的运输安全。


技术实现思路

1、专利技术人注意到,在现有技术中,辐射源提供的电子束辐照能量为固定值,在被辐照物品的厚度较大或密度较高时,无法为被辐照物品进行全面的辐照灭菌。在被辐照物品的厚度较小或密度较低时,辐射源提供的电子束会大量穿透被辐照物品,从而造成能源浪费和环境污染。

2、据此,本公开提供一种辐照剂量控制方法,使得辐射源能够为被辐照物品进行全面的辐照灭菌,有效节省电能且不会对周围环境造成污染。

3、在本公开的第一方面,提供一种辐照剂量控制方法,由辐照剂量控制装置执行,包括:接收辐照剂量检测器提供的辐照本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种辐照剂量控制方法,由辐照剂量控制装置执行,包括:

2.根据权利要求1所述的辐照剂量控制方法,其中,

3.根据权利要求2所述的辐照剂量控制方法,其中,所述在所述辐照剂量值不在预定范围内的情况下,调整所述辐射源的工作电参数包括:

4.根据权利要求3所述的辐照剂量控制方法,其中,

5.根据权利要求3所述的辐照剂量控制方法,其中,所述在所述辐照剂量值不在预定范围内的情况下,调整所述辐射源的工作电参数包括:

6.根据权利要求5所述的辐照剂量控制方法,其中,所述调整当前提供给所述辐射源的工作电参数包括:

<p>7.根据权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种辐照剂量控制方法,由辐照剂量控制装置执行,包括:

2.根据权利要求1所述的辐照剂量控制方法,其中,

3.根据权利要求2所述的辐照剂量控制方法,其中,所述在所述辐照剂量值不在预定范围内的情况下,调整所述辐射源的工作电参数包括:

4.根据权利要求3所述的辐照剂量控制方法,其中,

5.根据权利要求3所述的辐照剂量控制方法,其中,所述在所述辐照剂量值不在预定范围内的情况下,调整所述辐射源的工作电参数包括:

6.根据权利要求5所述的辐照剂量控制方法,其中,所述调整当前提供给所述辐射源的工作电参数包括:

7.根据权利要求3所述的辐照剂量控制方法,其中,所述在所述辐照剂量值不在预定范围内的情况下,调整所述辐射源的工作电参数包括:

8.根据权利要求7所述的辐照剂量控制方法,其中,

9.根据权利要求7所述的辐照剂量...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘耀红陈怀璧张亮李国华裴晓宇
申请(专利权)人:同方威视技术股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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