用于优化导电膜中由H+质子和/或OH-离子的位移提供的电导率的方法技术

技术编号:4656825 阅读:185 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及用于优化导电膜中由H↑[+]质子和/或OH↑[-]离子的位移提供的电导率的方法,该导电膜由允许蒸汽插入所述膜的材料制成,其中所述方法包括下述步骤:在压力下将包含蒸汽的气体流插入所述膜,以在特定分压下迫使所述蒸汽进入所述膜,从而在给定温度下获得期望电导率,所述分压高于或等于1巴,工作温度的下降通过增大所述分压来补偿,从而获得相同的期望电导率。本发明专利技术可以在以下领域中尤为令人感兴趣地被使用:用于生产氢的高温水电解、使用氢燃料的燃料电池的制造以及氢的分离和纯化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
用于优化导电膜中由H↑[+]质子和/或OH↑[-]离子的位移提供的电导率的方法,该导电膜由允许蒸汽插入所述膜的材料制成,其中所述方法包括下述步骤:在压力下将包含蒸汽的气体流插入所述膜,以在特定分压下迫使所述蒸汽进入所述膜,从而在给定温度下获得期望电导率,所述分压高于或等于1巴,工作温度的下降通过增大所述分压来补偿,从而获得相同的期望电导率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:B萨拉O拉克罗克斯S维勒曼K拉莫尼竹之内久A范德利P科隆邦P格里奥B邦热里乌赛德热拉里
申请(专利权)人:阿海珐核能公司陶瓷技术公司阿美尼斯国家科学研究中心
类型:发明
国别省市:FR[法国]

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