装置管理系统以及装置管理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对拍摄晶圆并输出图案的测长值的装置进行管理的系统，该系统具备指标值预测模型生成部，该指标值预测模型生成部使用包含第一学习数据组及第二学习数据组的训练数据，生成用于输出所输入的画像数据的预测指标值的模型。将针对同一晶圆的测长值差为预定的基准值以下的第一装置群的各装置分别拍摄第一晶圆而得的多个第一画像数据与同一第一指标值对应起来生成第一学习数据组，以指标值从第一指标值仅变化预定值的方式调整第一装置群的各装置后，将调整后的各装置拍摄第一晶圆而得的多个第二画像数据与从第一指标值仅变化预定值后的值即第二指标值对应起来生成第二学习数据组。由此，可不受多个装置间的个体差的影响地管理装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及装置管理系统以及装置管理方法。

技术介绍

1、随着形成于半导体晶圆上的图案(pattern)的微细化，在半导体制造工序中，要求测量精度更高的尺寸测量。对于测量精度的要求是不仅在测量装置单体的测量精度的提高，还做到减少生产线上的多台装置间的测量尺寸差、减少装置的历时变化所导致测量尺寸的变动。

2、为了测量纳米级(nanometer order)的微细图案的宽度，以往使用可将其图案的画像扩大拍摄的图案宽度测量用的扫描电子显微镜即测长sem。在这样的扫描电子显微镜装置中，为了降低安置于生产线的多台的装置间的测量尺寸差，而尝试一种从测量时所拍摄的数据解析其机差原因并调整的方式。

3、在专利文献1中公开了一种以使多台扫描电子显微镜装置间的机差或历时变化所造成的机差降低为目的，用于管理多台装置间的测量尺寸差即机差的系统。具体而言，在专利文献1记载了如下内容：一种管理在扫描电子显微镜装置中管理装置间的机差、历时变化所造成的机差的系统及其方法，具备：测量单元10、301a、301b；18、301a，其以对标准晶圆进行拍摄而得的二次电子本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种装置管理系统，其对拍摄晶圆并输出图案的测长值的装置进行管理，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的装置管理系统，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的装置管理系统，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的装置管理系统，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的装置管理系统，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的装置管理系统，其特征在于，

7.根据权利要求4所述的装置管理系统，其特征在于，

8.根据权利要求4所述的装置管理系统，其特征在于，

9.一种装置管理方法，对拍摄晶圆并输出图案的测长值的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种装置管理系统，其对拍摄晶圆并输出图案的测长值的装置进行管理，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的装置管理系统，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的装置管理系统，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的装置管理系统，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：棚桥直哉，高田晋太郎，笹岛二大，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：