【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种封装结构。
技术介绍
1、目前扇出型封装分为先芯片(chip first,cf)工艺结构与后芯片(chip last,cl)工艺结构,先芯片工艺相较于后芯片工艺具有成本低、制程程序少以及电性佳(不使用焊料)的优势。
2、图1至图2示出了使用先芯片工艺制作扇出多芯片模块(fan out multi-chipmodule,fomcm)的过程,图1示出了将晶圆1切割得到的复数个管芯(die)2放置在载体晶圆3及胶带(tape)4上,其中管芯2的有源面朝下,图2示出了使用封装层5封装图1所示结构以形成晶圆级封装(wafer level package,wlp)。
3、图3示出了对应于图2所示步骤的俯视图,其中使用虚线示出了由于被封装层5覆盖而不可见的载体晶圆3和胶带4的外轮廓。由于先芯片工艺中,管芯2放置在胶带4上,胶带4较软,在模压形成封装层4时会造成柔软的胶带4变形,在高温高压的模压环境会对管芯2造成辐射状且不规则的形变,当使用黏性低的胶带4时,模流对管芯2的冲击例如会如图2中的箭头方向所示推动管芯2移
...【技术保护点】
1.一种封装结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述底部的侧壁与所述封装层的侧壁齐平。
3.根据权利要求2所述的封装结构,其特征在于,所述上部的侧壁相对于所述底部的侧壁内缩。
4.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述封装层的上表面相对于所述上部的上表面内凹。
5.根据权利要求4所述的封装结构,其特征在于,所述封装层的上表面的内凹处为曲面。
6.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述上部和所述底部之间具有气隙。
7.根据权利要求1所述的封装结构,
...【技术特征摘要】
1.一种封装结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述底部的侧壁与所述封装层的侧壁齐平。
3.根据权利要求2所述的封装结构,其特征在于,所述上部的侧壁相对于所述底部的侧壁内缩。
4.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述封装层的上表面相对于所述上部的上表面内凹。
5.根据权利要求4所述的封装结构,其特征在于,所述封装层的上表面的内凹处为曲面。
6.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴南亿,赖仲航,黄炳源,
申请(专利权)人:日月光半导体制造股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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