【技术实现步骤摘要】
本技术涉及掩膜版夹具设备，具体涉及一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置。
技术介绍
1、掩膜版(photo mask)，又称光罩掩膜版、光罩等，是一种用于微电子芯片制备的掩膜工具，它是由光刻技术制备的。在制备过程中，首先需要将待制备的芯片设计图案制作成透明的掩膜。将掩膜与半导体硅片结合，通过光刻机进行曝光、显影等一系列工艺过程，最终制备出微电子芯片。
2、光刻机是现代光学工业之花，是半导体、平板显示等行业中的核心技术。它主要通过光学成像技术将光掩膜版上的芯片设计图案转移到硅片表面，从而制备出具有所需功能的微电子器件；翻转机、制程机、清洗机、贴膜机等是掩膜版制造过程中重要环节之一，而在该类设备在与agv对接时，需要将掩膜版于75度角放置，便于agv抓取产品。但现有技术中，由于掩膜版周向均被夹持固定，导致掩膜版的两侧夹持间隙较小，或两侧夹持间隙分布不均匀，导致掩膜版在被agv抓取过程中，与承载物左右产生接触和刮蹭，进一步导致agv抓取掩膜版时产生移位、刮伤、摔版等风险。
技术实现思路
<...【技术保护点】
1.一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，在每个所述承载块(2)上均设有一个第一驱动件，所述第一驱动件为第一旋转电机(4)，所述第一旋转电机(4)的旋转轴线垂直于所述掩膜版；所述第一旋转电机(4)的输出端侧壁通过连接杆(6)和所述夹持块(3)连接。
3.根据权利要求2所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，所述连接杆(6)和所述夹持块(3)可拆卸连接。
4.根据权利要求1所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于...
【技术特征摘要】
1.一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，在每个所述承载块(2)上均设有一个第一驱动件，所述第一驱动件为第一旋转电机(4)，所述第一旋转电机(4)的旋转轴线垂直于所述掩膜版；所述第一旋转电机(4)的输出端侧壁通过连接杆(6)和所述夹持块(3)连接。
3.根据权利要求2所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，所述连接杆(6)和所述夹持块(3)可拆卸连接。
4.根据权利要求1所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，所述夹持块(3)呈l型，所述夹持块(3)用于适配所述掩膜版的边角。
5.根据权利要求1所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，所述承载块(2)和所述支撑杆(1)滑动连接，并能沿所述支撑杆(1)长度方向滑动。
6.根据权利要求1所述的一种便于夹取掩膜版的左右居中调节装置，其特征在于，所述承载块(2)的承载面上带有l型段，所述l型段用于适配所述掩膜版的边角。
7.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈超，李禄建，刘单，
申请(专利权)人：成都路维光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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