投射方法和投射装置制造方法及图纸

技术编号:46515496 阅读:6 留言:0更新日期:2025-09-30 18:44
投射方法和投射装置。明确投射装置将哪个物体识别为了障碍物,从而用户能够判断是否进行了适当的控制。投射方法包含:检测投射对象;根据检测所述投射对象的结果,确定所述投射对象中不存在障碍物的第1区域、和所述投射对象中存在所述障碍物的第2区域;向所述第1区域的一部分或全部投射第1投射图像;以及投射与所述第1投射图像不同、且表示在所述投射对象存在所述障碍物的第2投射图像。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及投射方法和投射装置


技术介绍

1、以往,公知有在投影仪向投射面投射出投射图像时,在该投射面存在障碍物的情况下,变更投射位置的技术。

2、例如,专利文献1公开了如下技术:在投射面存在障碍物的情况下,根据感测投射对象区域而得到的感测信息,决定不存在该障碍物的可投射区域,从可投射区域中选择作为实际被投射的区域的投射区域。

3、专利文献1:日本特开2004-48694号公报

4、但是,在专利文献1的技术中,在不清楚投影仪将哪个物体识别为了障碍物的情况下,用户不清楚可投射区域的决定依据,难以判断是否进行了适当的控制。


技术实现思路

1、本专利技术一个方式的投射方法包含:检测投射对象;根据检测所述投射对象的结果,确定所述投射对象中不存在障碍物的第1区域、和所述投射对象中存在所述障碍物的第2区域;向所述第1区域的一部分或全部投射第1投射图像;以及投射与所述第1投射图像不同、且表示在所述投射对象存在所述障碍物的第2投射图像。

2、此外,本专利技术一个方式的投射装本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种投射方法,其特征在于,该投射方法包含:

2.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的投射方法,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

7.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

8.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

9.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

10.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,...

【技术特征摘要】

1.一种投射方法,其特征在于,该投射方法包含:

2.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的投射方法,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的投射方法,其特征在于,

7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:竹内广太
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:

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