制造沉积掩模的方法技术

一种制造沉积掩模的方法包括：在第一基底的前表面上沉积无机层并且图案化沉积的所述无机层以形成掩模隔膜，所述掩模隔膜设置为对应于所述第一基底的多个单元区域；通过对所述第一基底的后表面执行指定工艺来抛光所述第一基底以使所述第一基底的厚度变薄；通过从所述第一基底的所述后表面蚀刻所述第一基底的对应于所述多个单元区域中的每一个的部分来形成从所述第一基底的所述后表面暴露所述掩模隔膜的多个第一开口；制备第二基底并且图案化所述第二基底的一部分以形成多个第二开口；以及将所述第二基底接合到所述第一基底的所述后表面。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种制造沉积掩模的方法。

技术介绍

1、正在以眼镜或头盔的形式开发在距用户的眼睛短距离处形成焦点的可穿戴装置。例如，可穿戴装置可以是头戴式显示器(“hmd”)或增强现实(“ar”)眼镜。这种可穿戴装置为用户提供ar画面或虚拟现实(“vr”)画面。

2、诸如hmd装置或ar眼镜的可穿戴装置期望具有约3000每英寸像素(“ppi”)或更高的显示规格，以使得用户可以长时间使用它而不头晕。为此，正在提出作为小型高分辨率有机发光显示装置的硅上有机发光二极管(“oledos”)技术。oledos是一种用于在其上设置有互补金属氧化物半导体(“cmos”)的半导体晶圆基底上放置有机发光二极管(“oled”)的技术。

3、为了制造约3000每英寸像素(ppi)或更高的高分辨率的显示面板，需要高分辨率沉积掩模。作为用于制造oledos显示面板的沉积掩模，正在研究其中将无机膜沉积在硅基底上并且图案化沉积的无机膜以形成掩模隔膜的掩模。然而，由于由无机膜形成的掩模隔膜的薄的厚度，掩模具有高的破损的风险。

<b>技术实现思路...

【技术保护点】

1.一种制造沉积掩模的方法，其中，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述第一基底的所述抛光中执行的所述指定工艺包括化学机械抛光工艺。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述无机层包括第一无机层。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述无机层包括第一无机层和设置在所述第一无机层上的第二无机层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第一无机层包含氧化硅，并且

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一基底包含硅，并且

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二基底的所述制备包括在所述第一基...

【技术特征摘要】

1.一种制造沉积掩模的方法，其中，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述第一基底的所述抛光中执行的所述指定工艺包括化学机械抛光工艺。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述无机层包括第一无机层。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述无机层包括第一无机层和设置在所述第一无机层上的第二无机层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第一无机层包含氧化硅，并且

6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：金成云，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：