当前位置: 首页 > 专利查询>深圳大学专利>正文

抛光装置制造方法及图纸

技术编号:46489722 阅读:2 留言:0更新日期:2025-09-26 19:09
本申请提供了抛光装置。抛光装置包括抛光盘、偏移调节组件、压力调节组件。偏移调节组件设于抛光盘的一侧,偏移调节组件包括连接抛光盘的第一悬浮磁性部;其中,通过调节第一悬浮磁性部的磁力,从而调节抛光盘的倾斜角,倾斜角为抛光盘与水平面之间的夹角。压力调节组件设于抛光盘的一侧,压力调节组件包括连接抛光盘的第二悬浮磁性部;其中,通过调节第二悬浮磁性部的磁力,从而调节抛光盘对待抛光件的压力。本申请通过采用磁悬浮的偏移调节组件与压力调节装置,以实现对待抛光件的精准抛光,简化了抛光装置的结构,降低了抛光装置的制造成本和维护成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于抛光,具体涉及抛光装置


技术介绍

1、在抛光
,常用的抛光方法包括:基于柔性终端、基于柔性研抛模、基于数控机床控制、基于机器人控制的柔性打磨抛光方法。但是,采用上述抛光方法的抛光装置通常需要具备高度的自适应性、精准度、及复杂的控制算法等,导致抛光装置结构复杂,研发和维护成本较高。


技术实现思路

1、鉴于此,本申请提供了一种抛光装置,所述抛光装置包括:

2、抛光盘,用于对待抛光件进行抛光;

3、偏移调节组件,设于所述抛光盘的一侧,所述偏移调节组件包括连接所述抛光盘的第一悬浮磁性部;其中,通过调节所述第一悬浮磁性部的磁力,从而调节所述抛光盘的倾斜角,所述倾斜角为所述抛光盘与水平面之间的夹角;

4、压力调节组件,设于所述抛光盘的一侧,所述压力调节组件包括连接所述抛光盘的第二悬浮磁性部;其中,通过调节所述第二悬浮磁性部的磁力,从而调节所述抛光盘对所述待抛光件的压力。

5、本申请提供的抛光装置由抛光盘、偏移调节组件、压力调节组件组成。偏移调节组件用于控制本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种抛光装置,其特征在于,所述抛光装置包括:

2.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述偏移调节组件还包括设于所述第一悬浮磁性部背离所述抛光盘一侧的多个第一电磁件,所述多个第一电磁件沿所述抛光盘的周向方向上间隔排布;其中,通过调节至少一个所述第一电磁件与所述第一悬浮磁性部之间的磁力,从而调节所述第一悬浮磁性部与水平面之间的夹角,进而调节所述抛光盘的倾斜角。

3.如权利要求2所述的抛光装置,其特征在于,所述第一悬浮磁性部包括沿所述抛光盘至所述第一电磁件的排布方向上层叠设置的第一磁性子部与第二磁性子部,所述第一磁性子部的径向尺寸大于所述第二磁性子部的径向尺寸...

【技术特征摘要】

1.一种抛光装置,其特征在于,所述抛光装置包括:

2.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述偏移调节组件还包括设于所述第一悬浮磁性部背离所述抛光盘一侧的多个第一电磁件,所述多个第一电磁件沿所述抛光盘的周向方向上间隔排布;其中,通过调节至少一个所述第一电磁件与所述第一悬浮磁性部之间的磁力,从而调节所述第一悬浮磁性部与水平面之间的夹角,进而调节所述抛光盘的倾斜角。

3.如权利要求2所述的抛光装置,其特征在于,所述第一悬浮磁性部包括沿所述抛光盘至所述第一电磁件的排布方向上层叠设置的第一磁性子部与第二磁性子部,所述第一磁性子部的径向尺寸大于所述第二磁性子部的径向尺寸。

4.如权利要求2所述的抛光装置,其特征在于,所述偏移调节组件还包括相电连接的检测件和控制器,所述检测件用于获取所述多个第一电磁件的电压值,所述控制器用于调节所述第一电磁件;

5.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述压力调节组件还包括设于所述第二悬浮磁性部背离所述抛光盘一侧的第二电磁件;其中,通过调节所述第二电磁件与所述第二悬浮磁性部之间的磁力,从而调节所述抛光盘对所述待抛光件的压力。

6.如权利要求5所述的抛光装置,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵泽佳张国庆邓灵杰王静威
申请(专利权)人:深圳大学
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1