电子源、电子枪以及电子源的应用制造技术

本申请涉及电子源技术领域，提供了一种电子源、电子枪以及电子源的应用，电子源包括：输入光纤，包括至少一个脉冲激光输入光纤和至少一个连续激光输入光纤；输出光纤，脉冲激光输入光纤和连续激光输入光纤均接入输出光纤；电子发射体，包括设置于输出光纤的激光出射端面上的电子激发层，电子激发层位于输出光纤的激光出射路径上，电子激发层包括零维材料、一维材料和二维材料中的至少一种；导电连接层，导电连接层设置于输出光纤上，并与电子激发层连接。本申请电子源的电子发射效率高。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及电子源，特别是涉及一种电子源、电子枪以及电子源的应用。

技术介绍

1、电子源是产生真空电子的装置，传统电子源按照激发方式主要分为热发射电子源、场发射电子源和光发射电子源。热发射电子源主要选取金属材料，在被加热至数千摄氏度时，电子被热激发脱离材料表面形成真空电子。场发射电子源主要选取金属针尖，在外界施加的强电场作用下，产生尖端放电效应。光发射电子源是采用金属材料作为光阴极，利用激光照射激发光阴极材料，从而产生电子。但是，传统技术中光发射电子源多采用单波长的近红外激光侧面照射金属针尖形式，存在发射效率低等缺点。

技术实现思路

1、基于此，本申请一实施例提供了一种电子发射效率高的电子源、电子枪以及电子源的应用。

2、第一方面，本申请提供了一种电子源，所述电子源包括：

3、输入光纤，包括至少一个脉冲激光输入光纤和至少一个连续激光输入光纤；

4、输出光纤，所述脉冲激光输入光纤和所述连续激光输入光纤均接入所述输出光纤；

5、电子发射体，包括设置于所述输出光纤的激光本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子源，其特征在于，所述电子源包括：

2.如权利要求1所述的电子源，其特征在于，所述脉冲激光输入光纤中输入的脉冲激光的波长为700nm~2000nm，功率为1nW~500mW，脉冲频率为1kHz~100MHz。

3.如权利要求1所述的电子源，其特征在于，所述连续激光输入光纤中输入的连续激光的波长为200nm~1000nm，功率为1nW~500mW。

4.如权利要求1所述的电子源，其特征在于，所述电子源还包括光纤合束器，所述光纤合束器上设置有至少两个光纤入射接口，以及一个光纤出射接口，所述输入光纤的出光端分别接入所述光纤入射接口，所述输出光纤的入...

【技术特征摘要】

1.一种电子源，其特征在于，所述电子源包括：

2.如权利要求1所述的电子源，其特征在于，所述脉冲激光输入光纤中输入的脉冲激光的波长为700nm~2000nm，功率为1nw~500mw，脉冲频率为1khz~100mhz。

3.如权利要求1所述的电子源，其特征在于，所述连续激光输入光纤中输入的连续激光的波长为200nm~1000nm，功率为1nw~500mw。

4.如权利要求1所述的电子源，其特征在于，所述电子源还包括光纤合束器，所述光纤合束器上设置有至少两个光纤入射接口，以及一个光纤出射接口，所述输入光纤的出光端分别接入所述光纤入射接口，所述输出光纤的入光端接入所述光纤出射接口。

5.如权利要求1所述的电子源，其特征在于，所述电子激发层的厚度为0.1nm~100...

【专利技术属性】
技术研发人员：周旭，梁志炜，莫民霖，姚光杰，梁晶，俞大鹏，
申请(专利权)人：深圳国际量子研究院，
类型：发明
国别省市：