【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及计算机技术和光学密度领域，特别涉及一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法。
技术介绍
1、基于x射线底片图像的焊缝检测是无损检测领域中较为重要的检测方法。射线底片是由射线探伤原理形成的底片，可以用于判断焊缝的焊接质量。标准参考底片为gb/t26141.1—2010标准中定义的包含所有参考指标的工业射线底片照相图像。底片光学密度指底片黑度，即变黑的透明度，光学密度值过大或者过小，工业底片质量均被视为不合格，因此光学密度是判断底片质量优劣的基本指标之一，而x射线底片图像的质量又会直接影响无损检测的结果。
2、光学密度是底片质量的一个重要指标，它直接关系底片的射线照相灵敏度和底片记录细小缺陷的能力。在nb/t 47013-2015《承压设备无损检测》中规定了光学密度是评价射线图像的最为重要的指标。jb4730-2005标准对射线底片的光学密度范围进行了规定；a级质量的底片黑的要求：1.5≤d≤4.0；ab级质量的底片光学密度要求：2.0≤d≤4.0；b级质量的底片光学密度要求：2.3≤d≤4.0。为保证底片具有足...
【技术保护点】
1.一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法，其特征在于：包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法，其特征在于：所述步骤一的预处理过程中，引入LOG函数变换，对图像灰度值进行处理，具体计算公式如(1)所示：
3.根据权利要求1所述的一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法，其特征在于：所述步骤一构造的标准底片光学密度测量模型，具体计算公式如(2)所示：
4.根据权利要求1所述的一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法，其特征在于：所述步骤二的曝光时间和光学密度起点映射模型如下：
...【技术特征摘要】
1.一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法，其特征在于：包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法，其特征在于：所述步骤一的预处理过程中，引入log函数变换，对图像灰度值进行处理，具体计算公式如(1)所示：
3.根据权利要求1所述的一种基于标准参考底片的光学密度自动测量方法，其特征在于：所...
【专利技术属性】
技术研发人员：李亮亮，吕志刚，王萌，王鹏，沙宝林，鲍启帆，孙梦宇，李健衡，许韫韬，邸若海，
申请(专利权)人：西安工业大学，
类型：发明
国别省市：
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