【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶圆加工,特别涉及一种晶圆镀膜设备。
技术介绍
1、晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅,高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆,镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜,目的是希望减少光的反射,增加透光率,抗紫外线并抑低耀光、鬼影,不同颜色的镀膜,也使的成像色彩平衡的不同,此外,镀膜尚可延迟镜片老化、变色的时间,对晶圆进行镀膜时就需要一种晶圆镀膜设备。
2、为此,中国申请专利号为cn209210916u,公开了一种晶圆镀膜设备。晶圆镀膜设备包括:第一容器,用于盛放第一液体;第二容器,用于盛放第二液体;第一滴注单元,用于滴注第一液体;第二滴注单元,用于滴注第二液体;基座,用于固定晶圆,晶圆具有图案;匀胶机,用于将液体均匀涂覆在晶圆的图案表面;控制器,耦接于第一滴注单元、第二滴注单元以及匀胶机,设置为控制第一滴注单元从第一容器中获取第一用量的第一液体,并将第一液体滴注在晶圆上;控制匀胶机使第一液体均匀涂覆在晶圆的图案表面;
...【技术保护点】
1.一种晶圆镀膜设备,包括支脚(5);
2.根据权利要求1所述的一种晶圆镀膜设备,其特征在于:所述水箱(2)的内部镶嵌有蒸发器(3),所述蒸发器(3)的形状呈蛇形。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆镀膜设备,其特征在于:所述搅拌机构(4)包括伺服电机(401)、搅拌轴(402)和搅拌叶(403),所述伺服电机(401)安装在水箱(2)的底端,所述伺服电机(401)的顶端安装有搅拌轴(402),所述搅拌轴(402)的两侧均安装有搅拌叶(403)。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆镀膜设备,其特征在于:所述伸缩机构(8)包括第一伸缩杆(
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆镀膜设备,包括支脚(5);
2.根据权利要求1所述的一种晶圆镀膜设备,其特征在于:所述水箱(2)的内部镶嵌有蒸发器(3),所述蒸发器(3)的形状呈蛇形。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆镀膜设备,其特征在于:所述搅拌机构(4)包括伺服电机(401)、搅拌轴(402)和搅拌叶(403),所述伺服电机(401)安装在水箱(2)的底端,所述伺服电机(401)的顶端安装有搅拌轴(402),所述搅拌轴(402)的两侧均安装有搅拌叶(403)。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆镀膜设备,其特征在于:所述伸缩机构(8)包括第一伸缩杆(801)、第二伸缩杆(802)、液压杆(803)和液压缸(804),所述第二伸缩杆(802)安装在外壳(1)内部的底端,所述第二伸缩杆(802)内部的底端安装有液压缸(8...
【专利技术属性】
技术研发人员:张敏,
申请(专利权)人:苏州赛宏精密模具有限公司,
类型:新型
国别省市:
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