【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及芳基磺酰氨基取代的异羟肟酸衍生物,其制备方法和新的中间体,含有所述衍生物的药物组合物,含有选择性MMP2抑制剂的药物组合物,所述异羟肟酸衍生物作为药物的应用,使用选择性MMP2抑制剂、特别是式I异羟肟酸衍生物,或含有选择性MMP2抑制剂、特别是式I异羟肟酸衍生物的药物组合物来治疗MMP、特别是MMP2依赖性疾病、特别是过度增殖性疾病,或对MMP、特别是MMP2抑制有反应的哺乳动物中的病症的方法。本专利技术特别涉及式Iα-氨基异羟肟酸衍生物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐 其中R1是氢、取代或未取代的芳基、低级烷基、取代或未取代的碳环芳基-低级烷基、取代或未取代的杂环-低级烷基、取代或未取代的C3-C7-环烷基、取代或未取代的C3-C7-环烷基-低级烷基、羟基-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-(硫基、亚磺酰基或磺酰基)-低级烷基、氨基-低级烷基、或一-或二-低级烷基氨基-低级烷基;R2是氢或低级烷基;R3是取代或未取代的C3-C7-环烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、取代或未取代的杂环基;或低级烷基;A是未取代或被低级烷基取代的C1-C3亚烷基;q是1-5;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基、氰基、C3-C5-环烷基、或包含1个或2个选自O、S和N的杂原子的取代或未取代的C3-C6-杂芳基;或者C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基、氰基、C3-C5-环烷基、 ...
【技术保护点】
式Ⅰα-氨基异羟肟酸衍生物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐: *** (Ⅰ) 其中 R↑[1]是氢、取代或未取代的芳基、低级烷基、取代或未取代的碳环芳基-低级烷基、取代或未取代的杂环-低级烷基、取代或未取代的C↓[3]-C↓[7]-环烷基、取代或未取代的C↓[3]-C↓[7]-环烷基-低级烷基、羟基-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-(硫基、亚磺酰基或磺酰基)-低级烷基、氨基-低级烷基、或一-或二-低级烷基氨基-低级烷基; R↑[2]是氢或低级烷基; R↑[3]是取代或未取代的C↓[3]-C↓[7]-环烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、取代或未取代的杂环基;或低级烷基; A是未取代或被低级烷基取代的C↓[1]-C↓[3]亚烷基; q是1-5; R是C↓[2]-C↓[7]-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代:卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基、氰基、C↓[3]-C↓[5]-环烷基、或包含1个或2个选自O、S和N的杂原子的取代或未取代的C↓[3]-C↓[6]-杂芳基;或者 C↓[3]-C↓[ ...
【技术特征摘要】
GB 1999-8-9 9918684.31.式Iα-氨基异羟肟酸衍生物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐 其中R1是氢、取代或未取代的芳基、低级烷基、取代或未取代的碳环芳基-低级烷基、取代或未取代的杂环-低级烷基、取代或未取代的C3-C7-环烷基、取代或未取代的C3-C7-环烷基-低级烷基、羟基-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-(硫基、亚磺酰基或磺酰基)-低级烷基、氨基-低级烷基、或一-或二-低级烷基氨基-低级烷基;R2是氢或低级烷基;R3是取代或未取代的C3-C7-环烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、取代或未取代的杂环基;或低级烷基;A是未取代或被低级烷基取代的C1-C3亚烷基;q是1-5;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基、氰基、C3-C5-环烷基、或包含1个或2个选自O、S和N的杂原子的取代或未取代的C3-C6-杂芳基;或者C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基、氰基、C3-C5-环烷基、或包含1个或2个选自O、S和N的杂原子的取代或未取代的C3-C6-杂芳基。2.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、低级烷基;单环或二环碳环芳基,所述碳环芳基未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代低级烷基,低级烷氧基,羟基,卤素,氰基,三氟甲基,未取代或被低级烷氧基、低级烷基、卤素、氰基、硝基、三氟甲基或低级亚烷二氧基取代的苯氧基或苯基;单环或二环杂环芳基,所述杂环芳基未取代或者被一个、两个或更多个相同或不同的选自下列的取代基取代游离、醚化和酯化的羟基;巯基,低级烷硫基,取代和未取代的苯硫基,卤素,呈甲酰基和酮基以及相应的缩醛或缩酮形式的氧代基,叠氮基,硝基,伯、仲和叔氨基,酰基氨基,二酰基氨基,和未修饰或用官能团修饰的磺基;游离和用官能团修饰的羧基,氨基甲酰基,脲基,胍基和氰基;碳环芳基-低级烷基,所述基团未取代或在碳环部分中被下述基团单取代、二取代或三取代低级烷基,低级烷氧基,羟基,卤素,氰基,三氟甲基,未取代或被低级烷氧基、低级烷基、卤素、氰基、硝基、三氟甲基或低级亚烷二氧基取代的苯氧基或苯基;取代或未取代的杂环基-低级烷基,所述基团未取代或在杂环部分中被一个、两个或更多个相同或不同的选自下列的取代基取代游离、醚化和酯化的羟基;巯基,低级烷硫基,取代和未取代的苯硫基,卤素,呈甲酰基和酮基以及相应的缩醛或缩酮形式的氧代基,叠氮基,硝基,伯、仲和叔氨基,酰基氨基,二酰基氨基,和未修饰或用官能团修饰的磺基;游离和用官能团修饰的羧基,氨基甲酰基,脲基,胍基和氰基;未取代或被低级烷基取代的C3-C7-环烷基;未取代或被低级烷基取代的C3-C7-环烷基-低级烷基;羟基-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-(硫基、亚磺酰基或磺酰基)-低级烷基、氨基-低级烷基或一-或二-低级烷基氨基-低级烷基;R2是氢或低级烷基;R3是未取代或被低级烷基取代的C3-C7-环烷基;碳环芳基,所述碳环芳基未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代低级烷基,低级烷氧基,羟基,卤素,氰基,三氟甲基,未取代或被低级烷氧基、低级烷基、卤素、氰基、硝基、三氟甲基或低级亚烷二氧基取代的苯氧基或苯基;杂环芳基,所述杂环芳基未取代或者被一个、两个或更多个相同或不同的选自下列的取代基取代游离、醚化和酯化的羟基;巯基,低级烷硫基,取代和未取代的苯硫基,卤素,呈甲酰基和酮基以及相应的缩醛或缩酮形式的氧代基,叠氮基,硝基,伯、仲和叔氨基,酰基氨基,二酰基氨基,和未修饰或用官能团修饰的磺基;游离和用官能团修饰的羧基,氨基甲酰基,脲基,胍基和氰基;杂环基,所述杂环基未取代或者被一个、两个或更多个相同或不同的选自下列的取代基取代游离、醚化和酯化的羟基;巯基,低级烷硫基,取代和未取代的苯硫基,卤素,呈甲酰基和酮基以及相应的缩醛或缩酮形式的氧代基,叠氮基,硝基,伯、仲和叔氨基,酰基氨基,二酰基氨基,和未修饰或用官能团修饰的磺基;游离和用官能团修饰的羧基,氨基甲酰基,脲基,胍基和氰基;或低级烷基;A是未取代或被低级烷基取代的C1-C3亚烷基;q是1-5;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素,硝基,低级酰氧基,三氟甲氧基,氰基,C3-C5-环烷基,或包含一个或两个选自O、S和N的杂原子、未取代或被低级烷基取代的C3-C6-杂芳基;或C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素,硝基,低级酰氧基,三氟甲氧基,氰基,C3-C5-环烷基,或包含一个或两个选自O、S和N的杂原子、未取代或被低级烷基取代的C3-C6-杂芳基。3.权利要求1或2的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、取代或未取代的芳基、低级烷基、取代或未取代的碳环芳基-低级烷基、取代或未取代的杂环-低级烷基、取代或未取代的C3-C7-环烷基、取代或未取代的C3-C7-环烷基-低级烷基、羟基-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-(硫基、亚磺酰基或磺酰基)-低级烷基、氨基-低级烷基或一-或二-低级烷基氨基-低级烷基;R2是氢或低级烷基;R3是取代或未取代的C3-C7-环烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、或低级烷基;A是未取代或被低级烷基取代的C1-C3亚烷基;q是1-5;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基或氰基;C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基或氰基。4.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、低级烷基,或碳环芳基-低级烷基,所述基团未取代或在碳环部分中被下述基团单取代、二取代或三取代低级烷基,低级烷氧基,羟基,卤素,氰基,三氟甲基,未取代或被低级烷氧基、低级烷基、卤素、氰基、硝基、三氟甲基或低级亚烷二氧基取代的苯氧基或苯基;R2是氢或低级烷基;R3是未取代或被低级烷基取代的C3-C7-环烷基,碳环芳基,所述碳环芳基未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代低级烷基,低级烷氧基,羟基,二-低级烷基氨基,卤素,氰基,三氟甲基,苯氧基三唑基,咪唑基,吗啉基,吡咯烷基,哌啶基,四唑基,吡咯基,呋喃基,噻吩基,吗啉基低级烷基,喹啉基低级烷基,咪唑基低级烷基,和三唑基低级烷基,或未取代或被低级烷氧基、低级烷基、卤素、氰基、硝基、三氟甲基或低级亚烷二氧基取代的苯基;杂环芳基,所述杂环芳基未取代或者被一个、两个或更多个相同或不同的选自下列的取代基取代游离、醚化和酯化的羟基;巯基,低级烷硫基,取代和未取代的苯硫基,卤素,呈甲酰基和酮基以及相应的缩醛或缩酮形式的氧代基,叠氮基,硝基,伯、仲和叔氨基,酰基氨基,二酰基氨基,和未修饰或用官能团修饰的磺基;游离和用官能团修饰的羧基,氨基甲酰基,脲基,胍基和氰基;杂环基,所述杂环基未取代或者被一个、两个或更多个相同或不同的选自下列的取代基取代游离、醚化和酯化的羟基;巯基,低级烷硫基,取代和未取代的苯硫基,卤素,呈甲酰基和酮基以及相应的缩醛或缩酮形式的氧代基,叠氮基,硝基,伯、仲和叔氨基,酰基氨基,二酰基氨基,和未修饰或用官能团修饰的磺基;游离和用官能团修饰的羧基,氨基甲酰基,脲基,胍基和氰基;或低级烷基;A是未取代或被低级烷基取代的C1-C3亚烷基;q是1或2;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素,硝基,低级酰氧基,三氟甲氧基,氰基,C3-C5-环烷基,或包含一个或两个选自O、S和N的杂原子、未取代或被低级烷基取代的C3-C6-杂芳基;或C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素,硝基,低级酰氧基,三氟甲氧基,氰基,C3-C5-环烷基,或包含一个或两个选自O、S和N的杂原子、未取代或被低级烷基取代的C3-C6-杂芳基。5.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、低级烷基、或取代或未取代的碳环芳基-低级烷基;R2是氢或低级烷基;R3是取代或未取代的C3-C7环烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、或低级烷基;A是未取代或被低级烷基取代的C1-C3亚烷基;q是1或2;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基或氰基;C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基或氰基。6.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、低级烷基、或取代或未取代的碳环芳基-低级烷基;R2是氢或低级烷基;R3是取代或未取代的C3-C7环烷基;未取代或被下述基团单取代或二取代的苯基低级烷基、低级烷氧基、羟基、硝基、氨基、低级烷基氨基、氨基甲酰基、三氟甲基、三氟甲氧基、低级烷硫基、低级酰氧基或卤素;吡啶基、嘧啶基、吡咯基、咪唑基、吲哚基、噻吩基、苯并噻吩基、呋喃基、苯并呋喃基、噁唑基、噻唑基;或低级烷基;A是未取代或被低级烷基取代的C1-C3亚烷基;q是1或2;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基或氰基;C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基或氰基。7.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、低级烷基、或苯基-低级烷基;R2是氢;R3是被低级烷氧基或卤素单取代的苯基;或低级烷基;A是C1-C3亚烷基;q是1;R是被卤素单取代或三取代的C2-C7-烷基;未取代的C3-C7-链烯基或未取代的C3-C7-炔基。8.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢;R2是氢;R3是被低级烷氧基或卤素单取代的苯基;A是C1-C3亚烷基;q是1;R是其中双键位于末端的未取代的C3-C5-链烯基;或其中三键位于末端的未取代的C3-C5-炔基。9.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢;R2是氢;R3是被低级烷氧基或卤素单取代的苯基;A是亚甲基或亚乙基;q是1;且R是被卤素在末端单取代的直链C3-C5-烷基。10.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、低级烷基、或苯基-低级烷基;R2是氢;R3是未取代或被低级烷基取代的C3-C7-环烷基;未取代或被下述基团单取代或二取代的苯基低级烷基、低级烷氧基、羟基、硝基、氨基、低级烷基氨基、二低级烷基氨基、氨基甲酰基、三氟甲基、三氟甲氧基、低级烷硫基、低级酰氧基、卤素、三唑基、咪唑基、吗啉基、吡咯烷基、哌啶基、四唑基、吡咯基、呋喃基、噻吩基、吗啉基低级烷基、喹啉基低级烷基、咪唑基低级烷基、三唑基低级烷基;吡啶基、嘧啶基、吡咯基、咪唑基、吲哚基、噻吩基、苯并噻吩基、呋喃基、苯并呋喃基、噁唑基、噻唑基,所述基团分别未取代或被低级烷基或卤素取代;杂环基,所述杂环基未取代或被低级烷基取代,并选自哌啶基、吗啉基、吡咯烷基、吡咯啉基、哌嗪基和四氢吡喃基;A是亚甲基或亚乙基;q是1;R是C2-C7-烷基,所述烷基被下述基团单取代、二取代或三取代卤素,硝基,低级酰氧基,三氟甲氧基,氰基,C3-C5-环烷基,或包含一个或两个选自O、S和N的杂原子、未取代或被低级烷基取代的C3-C6-杂芳基;C3-C7-链烯基或C3-C7-炔基,所述链烯基或炔基分别未取代或被下述基团单取代、二取代或三取代卤素、硝基、低级酰氧基、三氟甲氧基、氰基;C3-C5-环烷基,或包含一个或两个选自O、S和N的杂原子、未取代或被低级烷基取代的C3-C6-杂芳基。11.权利要求1的式I化合物、其可药用前药衍生物、以及其可药用盐,其中R1是氢、低级烷基、或苯基低级烷基;R2是氢;R3是未取代或被下述基团单取代或二取代的苯基低级烷基、低级烷氧基、二低级烷基氨基、卤素、三唑基、咪唑基、吗啉基、吡咯烷基、哌啶基、四唑基、吡咯基、呋喃基、噻吩基、吗啉基低级烷基、喹啉基低级烷基、咪唑基低级烷基、三唑基低级烷基;未取代或被卤素取代的吡啶基;杂环基,所述杂环基未取代,并选自哌啶基、吗啉基、吡咯烷基、吡咯啉基、哌嗪基和四氢吡喃基;A是亚甲基;q是1;R是其中双键位于末端的未取代的C3-C5-链烯基;其中三键位于末端的未取代的C3-C5-炔基;或直链C3-C5-烷基,所述烷基被卤素在末端单取代或三取代,或被呋喃基或环丙基在末端单取代。12.权利要求1的式I化合物,其中所述化合物选自(R)-2-[(4-氯-苄基)-(4-丙氧基-苯磺酰基)-氨基]-N-羟基-3-苯基-丙酰胺,(R)-2-{[4-(3-氯-丙氧基)-苯磺酰基]-(4-氟-苄基)-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{[4-(3-氯-丙氧基)-苯磺酰基]-(3-甲氧基-苄基)-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{[4-(3-氯-丙氧基)-苯磺酰基]-(4-甲氧基-苄基)-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{(4-氯-苄基)-[4-(3-氟-丙氧基)-苯磺酰基]-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{(4-氟-苄基)-[4-(3-氟-丙氧基)-苯磺酰基]-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{(4-氟-苄基)-[4-(3-氟-丙氧基)-苯磺酰基]-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{(4-氯-苄基)-[4-(4-氟-丁氧基)-苯磺酰基]-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{(4-氟-苄基)-[4-(4-氟-丁氧基)-苯磺酰基]-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{[4-(4-氟-丁氧基)-苯磺酰基]-(3-甲氧基-苄基)-氨基}-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-[(4-丁-3-烯基氧基-苯磺酰基)-(4-氯-苄基)-氨基]-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-[(4-丁-3-烯基氧基-苯磺酰基)-(4-氟-苄基)-氨基]-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-[(4-丁-3-烯基氧基-苯磺酰基)-(3-甲氧基-苄基)-氨基]-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-[(4-丁-3-烯基氧基-苯磺酰基)-(4-甲氧基-苄基)-氨基]-N-羟基-3-甲基-丁酰胺,(R)-2-{[4-(3-氯-丙氧基)-苯磺酰基]-(3-甲氧基-苄基)-氨基}-N-羟基-丙酰胺,(R)-2-{[4-(3-氯-丙氧基)-苯磺酰基]-(4-甲氧基-苄基)-氨基}-N-羟基-丙酰胺,(R)-2-{(4-氯-苄基)-[4-(3-氟-丙氧基)-苯磺酰基]-氨基}-N...
【专利技术属性】
技术研发人员:W布雷坦斯坦,早川谦二,岩崎源司,金泽孝记,笠冈达彦,小泉信一,松永伸一郎,中岛元夫,榊润一,
申请(专利权)人:诺瓦提斯公司,
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]
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