【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及与用于在干净环境中盛放或传输衬底的衬底容器一起使用的支撑装置，以及使用支撑装置及衬底容器的相关联方法。
技术介绍
1、微电子装置通过一系列精确处理步骤而被制备在半导体衬底上，每一步骤均在极干净状态下被执行。在处理步骤之间，“衬底”(其上形成有微电子装置)可从一个处理位置被移动到不同处理位置。
2、为了在处理步骤或分开的处理位置之间移动衬底，衬底被盛放于经设计以在防止衬底被损坏的同时还使衬底屏蔽污染的专用容器中。实例性衬底容器可被称作“smif盒”(标准机械接口盒)、“foup”(前开式通用盒)或“fosb”(前开式运输盒)。在使用期间，这些容器在可被抽空(即，在降低的压力下)或可装纳不同于空气的气体(例如，惰性气体)的氛围内封围空间以装纳多个半导体晶片或其它衬底。
3、衬底容器可呈界定容器内部的多侧容器主体(例如，“壳体”)的形式。容器主体在一侧上包含使多个衬底能够被插入到内部中或从内部移除的开口。实例性容器还包含适于覆盖开口从而利用气密密封来封围内部的可移除门。容器还包含穿过容器的底部以使气体能够被引...
【技术保护点】
1.一种衬底容器支撑系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其包括气体源、将来自所述气体源的气体传送到所述喷嘴的导管，其中所述加压传感器位于所述导管内以感测在气体流动穿过所述导管及喷嘴时所述导管内的所述气体的流体压力。
3.根据权利要求1或2所述的系统，其中：
4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的系统，其中所述控制系统包括接合所述喷嘴以控制所述喷嘴的垂直位置的加压流体。
5.根据权利要求1所述的系统，其包括两个喷嘴，所述两个喷嘴包含从所述基座表面垂直延伸且能够相对于所述基座表面垂直移动的第一喷嘴，以及从所述基...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种衬底容器支撑系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其包括气体源、将来自所述气体源的气体传送到所述喷嘴的导管，其中所述加压传感器位于所述导管内以感测在气体流动穿过所述导管及喷嘴时所述导管内的所述气体的流体压力。
3.根据权利要求1或2所述的系统，其中：
4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的系统，其中所述控制系统包括接合所述喷嘴以控制所述喷嘴的垂直位置的加压流体。
5.根据权利要求1所述的系统，其包括两个喷嘴，所述两个喷嘴包含从所述基座表面垂直延伸且能够相对于所述基座表面垂直移动的第一喷嘴，以及从所述基座表面垂直延伸且能够相对于所述基座表面垂直移动的第二喷嘴，其中所述喷嘴中的至少一者是适于使气体能够从气体源流动到衬底容器中的输入喷嘴。
6.根据权利要求5所述的系统，其中所述控制系统包括用于使所述第一喷嘴及所述第二喷嘴垂直移动的调整构件，所述调整构件适于使所述喷嘴垂直移动。
7.根据权利要求5所述的系统，其中所述控制系统包括用于使所述第一喷嘴及所述第二喷嘴垂直移动的调整构件，所述调整构件适于使所述第一喷嘴及所述第二喷嘴一起垂直移动。
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【专利技术属性】
技术研发人员：R·马杜·雅各布，M·A·富勒，M·V·史密斯，A·A·雅库巴，C·J·哈尔，
申请(专利权)人：恩特格里斯公司，
类型：发明
国别省市：
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