光学膜及其制造方法技术

技术编号:4639703 阅读:171 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种平面性高的光学膜及其制造方法,该光学膜即使对于含有5质量%以上除树脂外的添加剂的光学膜材料,也可以以低廉的成本获得充分的辊清扫效果,尤其可作为用于液晶显示装置等的偏振片保护膜、相位差膜等各种功能膜使用。该光学膜的制造方法是将树脂混合物的熔融物由流延模头挤出成膜状的熔融流延制膜法,所述树脂混合物含有树脂和5质量%以上除树脂外的添加剂,上述冷却用第1旋转体(5)的温度为上述树脂熔融物的玻璃化转变温度Tg以下、添加剂的熔点以上。冷却用第1旋转体(5)与冷却用第3旋转体(7)的圆周速度之比S3/S1为1.001~1.05。通过挤压用第2旋转体(6)以0.5~50N/mm的线压力向上述冷却用第1旋转体(5)上挤压膜状熔融混合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学膜、及其制造方法,所述光学膜是通过熔融流延制膜 法制作的具有高平面性的光学膜,特别是,可使用于液晶显示装置等中使 用的偏振片用保护膜、相位差膜、视角扩大膜、等离子体显示器中使用的防反射膜等各种功能膜、以及有机EL显示器等中使用的各种功能膜。
技术介绍
液晶显示装置使用偏光膜、相位差膜等各种光学膜。液晶显示装置中 使用的偏振片的偏光膜是通过下述方法制作的,即在由拉伸聚乙烯醇膜制 成的起偏器一面或两面层压纤维素酯膜作为保护膜。另外,使用相位差膜 来达到增大视角或提高对比度等目的,通过拉伸聚碳酸酯、环状聚烯烃树 脂、纤维素酯等膜的方法等来赋予延迟。也称为光学补偿膜。此外,在等离子显示装置、有机EL显示器等中,使用保护膜等各种功 能膜作为防反射膜。要求这些显示器装置中使用的光学膜无光学缺陷,延迟均匀,尤其是 相位轴不存在偏差。特别是随着监视器、TV的大型化和高精细化,对上述 品质的要求越发严格。光学膜的制造方法大致包括熔融流延制膜法和溶液流延制膜法。前者 是使聚合物加热熔融,将熔融物流延在支持体上,冷却固化,再视需要进 行拉伸,从而制作膜的方法;后者是使聚合物溶解在溶剂中,将该溶液(浆 料)流延在支持体上,蒸发溶剂,再视需要进行拉伸,从而制作膜的方法。在任一制膜法中,将聚合物在支持体上固化形成的聚合物膜从支持体 上剥离后均进行下迷处理用多个输送辊传送聚合物膜,同时进行干燥、 拉伸等。溶液流延制膜法使用大量的溶剂,相比之下,由于熔融流延制膜法不 使用溶剂,可期待进一步提高生产性。基于上述观点,优选熔融流延制膜 法,但其存在下述缺点制膜时发生热分解的树脂、添加剂等附着在传送辊上,传送辊被污染,若污染继续恶化,则污染被转印到膜上,形成斑点 状的不均或凹凸,导致膜品质劣化。另外,若辊污染,则必须中断生产来 进行辊清扫,于是重要的问题是开发用于连续生产的辊清扫方法。尤其就 大量含有除树脂外的添加剂的材料而言,这些问题尤为显著。关于辊清扫方法,公开了下述专利文献1 3中记载的方法。 在专利文献l中,公开了树脂包覆(叠层体)纸的制造方法及装置,尤其 公开了在层压装置中除去附着在冷却辊上的低分子成分的冷却辊清扫方 法,所述层压装置包含包覆熔融树脂的工序,作为清扫方法,该文献中记 载了使用高输出功率的激光光源、或者使用火焰喷枪的火焰在冷却辊表面 施加能量的方法。在专利文献2中,公开了对用于制膜的辊表面照射紫外线来除去辊表 面的附着物的方法。在专利文献3中公开了下述方法为了降低在热塑性树脂膜的制膜工 序中产生的膜表面损伤并且清扫附着在冷却辊上的污物,通过向与运送中 的膜相接触的冷却辊照射等离子体,除去附着在冷却辊上的有机物。专利文献1 :日本特开2002-240125号公报专利文献2 :日本特开2003-89142号公报专利文献3 :日本特开2001-62911号公净艮
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是,上述专利文献1 3所述的技术存在设备费用和运行成本高的问 题,而且制造含有5质量%以上除树脂外的添加剂的光学膜材料时,如不进 一步进行改良,则存在很难获得充分效果的问题。本专利技术的目的在于解决上述现有技术存在的问题,提供一种光学膜的所述光学膜的制造方法即使用于制造含有5质量%以上除树脂外的添加剂 的光学膜材料,也可以以低廉的成本获得辊清扫效果。 解决问题的方法为了达到上述目的,权利要求1的专利技术涉及通过下述熔融流延制膜法 制造光学膜的方法,该熔融流延制膜法包括,将树脂混合物的熔融物由流延模头挤出成膜状,然后,将其在冷却用第l旋转体和挤压用第2旋转体 之间夹压,进行冷却,随后用冷却用第3旋转体传送冷却膜,所述树脂混合物含有树脂和5质量。/。以上除树脂以外的添加剂,其中,上述冷却用第1 旋转体的温度为上述树脂熔融物的玻璃化转变温度(Tg)以下、添加剂的熔 点以上。权利要求2的专利技术涉及权利要求1所述光学膜的制造方法,其中,上 述冷却用第1旋转体的圆周速度(S1)与上述冷却用第3旋转体的圆周速度 (S3)之比(S3/S1)为1.001~1.05。权利要求3的专利技术涉及权利要求1或2所述光学膜的制造方法,其中, 通过上述挤压用第2旋转体以0.5 50N/mm的线压力(線圧)将膜状熔融混合 物挤压于上述冷却用第l旋转体上。权利要求4的专利技术涉及权利要求1 3中任一项所述光学膜的制造方法, 其中,上述树脂混合物中含有5%质量以上且20质量%以下除树脂以外的添 加剂。权利要求5的专利技术涉及权利要求1~4中任一项所述光学膜的制造方法, 其中,上述添加剂为增塑剂和/或紫外线吸收剂。权利要求6的光学膜的专利技术是用权利要求1~5项中任一项所述光学膜 的制造方法制造的光学膜。专利技术的效果通过权利要求1的专利技术,可以实现下述效果即使是含有5质量%以上 除树脂以外的添加剂的光学膜材料,添加剂等也不会对旋转体造成污染, 清扫旋转体的成本非常低廉,可以高效地生产平面性良好、具有优异光学 特性的光学膜。若将冷却用第1旋转体的温度设定成高于树脂混合物的玻 璃化转变温度(Tg),则将树脂混合物从冷却用第1旋转体上剥离时,会产 生剥离不均。反之,若将冷却用第1旋转体的温度设定成低于添加剂的熔 点,则由膜挥发出来的添加剂在旋转体上发生固化,污染旋转体,或者将 污物转印到膜上,因此不优选。更优选冷却用第1旋转体的温度为添加剂 的熔点+5。C以上且树脂混合物的玻璃化转变温度(Tg)-5。C以下。权利要求2的专利技术涉及权利要求1所述光学膜的制造方法,其中,冷 却用第1旋转体的圓周速度(S1)与冷却用第3旋转体的圆周速度(S3)之比 (S3/S1)为1.001 1.05,于是,通过权利要求2的专利技术,可以实现下述效果添加剂等不会对旋转体造成污染,清扫旋转体的效果好,可以高效地生产平面性良好、具有优异光学特性的光学膜。若旋转体的圆周速度之比(S3/S1) 低于1.001,则旋转体和膜的贴合性降低,添加剂等对旋转体产生污染。反 之,若圓周速度比(S3/S1)高于1.05,则有损输送膜的平面性,对旋转体、 膜均造成污染,有时还导致膜断裂,因此不优选。旋转体的圆周速度比(S3/S1) 优选为1.002~1.04,最优选1.005 1.03。权利要求3的专利技术涉及权利要求1或2所述光学膜的制造方法,其中, 通过挤压用第2旋转体以0.5~50N/mm的线压力,将膜状熔融混合物挤压在 冷却用第i旋转体上,于是,通过权利要求3的专利技术可以实现下述效果 膜状熔融混合物能够充分紧密地贴合在冷却用第1旋转体上,可以防止添 加剂等对旋转体造成污染,对旋转体的清扫效果好,可以高效地生产平面 性良好、具有优异光学特性的光学膜。若挤压用第2旋转体的线压力低于 0.5N/mm,则膜不能在冷却用第1旋转体和挤压用第2旋转体之间充分地得 以挤压,产生部分未挤压的部位,结果该部位成为污染源,因此不优选。 若挤压用第2旋转体的线压力高于50N/mm,则膜产生变形,导致添加剂浮 出在表面上,附着在旋转体上,成为污染源,因此不优选。在本专利技术中, 挤压用第2旋转体的线压力优选为0.7~40N/mm,更优选为l 30N/mm。权利要求4的专利技术涉及权利要求1 3中任一项所述光学膜的制造方法, 其中,树脂混合物中含有5%质量 本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种制造光学膜的方法,该方法采用下述熔融流延制膜法进行,所述熔融流延制膜法包括,将树脂混合物的熔融物从流延模头挤出成膜状,然后,将其在冷却用第1旋转体和挤压用第2旋转体之间夹压,进行冷却,随后通过冷却用第3旋转体传送冷却膜,所述树脂混合物含有树脂和5质量%以上除树脂以外的添加剂,其中, 上述冷却用第1旋转体的温度为上述树脂混合物的玻璃化转变温度Tg以下、添加剂的熔点以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:日置克彦
申请(专利权)人:柯尼卡美能达精密光学株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利