含氟吡唑啉酮化合物及其制造方法技术

提供在4位具有三氟甲基、在5位具有特有取代基的新型的含氟1,2‑二取代‑3‑吡唑啉酮化合物、以及能够不副产O‑取代体而简易制造该含氟吡唑啉酮化合物的制造方法。一种下述通式(1)所示的含氟吡唑啉酮化合物。下述通式(1)中，X表示卤素原子、‑OA1、‑S(Ol)A1、‑O‑NA1A2、‑NA1A2、‑NA3‑NA1A2或‑N＝A4，其中，l为0～2的整数，Y和Z各自独立地表示碳原子数为1～12的芳香族烃基、烷基、‑COA1、‑COOA1、苄基或氨基甲酰基，或者，Y和Z键合并形成环，A1、A2、A3和A4各自独立地表示碳原子数为1～12的有机基团。#imgabs0#

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及含氟吡唑啉酮化合物及其制造方法。

技术介绍

1、已知具有吡唑啉酮环的化合物具有各种药理作用，其中，在1位和2位具有取代基的3-吡唑啉酮化合物用于医药农药领域。作为具有1,2-二取代-3-吡唑啉酮环的化合物的例子，关于医药品，可以举出作为抗炎症药的尼芬那宗(nifenazone)、异丙安替比林(propyphenazone)、安乃近(dipyrone)、安替比林(antipyrine)、氨基比林(aminopyrine)。另外，关于农药，可以举出作为杀菌剂的胺苯吡菌酮(fenpyrazamine)、作为除草剂的唑啉草酯(pinoxaden)。

2、从这样的背景出发，对向1,2-二取代-3-吡唑啉酮环的4位及5位的取代基的导入感兴趣，其中，对在4位具有三氟甲基、在5位具有含杂原子取代基等的特有取代基的1,2-二取代-3-吡唑啉酮化合物的合成法的开发感兴趣。

3、专利文献1(日本特开昭61-118371号公报)中公开了在1位具有取代基、在4位具有三氟甲基、在5位具有杂原子取代基的3-吡唑啉酮化合物的制法。非专利文献1和2中公本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种下述通式(1)所示的含氟吡唑啉酮化合物，其中，

2.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

3.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

4.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

5.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

6.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

7.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种下述通式(1)所示的含氟吡唑啉酮化合物，其中，

2.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

3.一种含氟吡唑啉酮化合物的制造方法，包括如下工序：

4.一种含氟吡唑啉酮化合物...

【专利技术属性】
技术研发人员：清野淳弥，青津理恵，高桥雄介，
申请(专利权)人：优迈特株式会社，
类型：发明
国别省市：