含有烃类的化妆用制剂制造技术

本发明专利技术涉及化妆用和／或药用制剂，该制剂含有所选的烃类。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含烃类的化妆用和/或药用制剂，以及烃类作为油体(Glk6rper)和/或分散剂的用途。
技术介绍
化妆品产业将感觉清爽的油体，即所谓的"轻质柔润剂"，用于多种 制剂中。特别是在装饰性化妆品或者在护理制剂中，都使用了所谓的"清 爽(leichte)"组分。这些组分可例如为挥发性环状义圭氧烷(例如环戊聚硅氧 烷或者环聚二甲基硅氧烷)或者用石化工艺制得的烃类。所述的后一种物质 因其制造方法所致，主要为直链、环状和支链烃类的混合物，其闪点可以 完全低于50。C(如为异十二烷时)。关于这类制剂的实例和应用技术说明可以 参见纟至典著4乍,侈'H口 "Handbook of Cosmetic Science and Technology", A. Barel, M. Paye， H. Maibach， Marcel Dekker Inc. 2001。然而，由于毒理 学、生态学以及安全技术的原因，今后需要代替这种制剂功用的备选原料。专利技术概述本专利技术的目的在于寻找生态学及毒理学上无害的备选原料。其中特别 令人感兴趣的是提供无需复杂的清洁步骤就可以直接添加至化妆用和/或 药用制剂中的原料。该原料优选应是基于可再生原料的。该原料应能够不 受应用技术的限制而直接添加到普通的化妆用和/或药用制剂中。此外，该 原料应具有比现有技术的烃类混合物更好的感官印象，该原料还有利地具 有更好的皮肤相容性。特别令人感兴趣的是提供这样一种原料其在感官 印象的使用可能性方面与硅油、特别是与低粘度硅油(如二曱聚硅氧烷)是可 比较的。特別有利的是提供适合作为硅油替代品的原料。此外，还令人感 兴趣的是提供C02平衡比现有技术中的原料有改善的原料。另 一个目的在于提供能实现含AP/Deo (=止汗剂/除臭剂)活性物质的稳 定制剂的原料。止汗剂/除臭剂类型的化妆用制剂，尤其是在所谓的"棒状3制剂"("Stick-Formulierungen，，)中总是存在着化妆用基底(Grundlage)稳定 性不足的问题，例如存储时发生气味变化。另一个目的在于提供这样的原 料其实现了稳定的、特别是以棒状制剂形式稳定的止汗和除臭制剂。具 体地，这些制剂在长时间存储中应不形成不利的气味。另一个目的在于提 供产生"清爽"感官印象的原料，尽可能同时具有改善的皮肤相容性，特 别是在与防UV光过滤剂(UV-Lichtschutzfilter)的组合中以及在与自晒黑剂 的结合中。特别令人感兴趣的是提供在装饰用化妆品制剂中产生感官上有 利的印象的原料。装饰用化妆品制剂，如唇膏、眼影、睫毛膏、指曱油等， 由于其应用的部位(主要是脸部和手部)而对感官印象、特别是挥发性提出 了更高的要求，从而不会使这些产品产生"厚重"的印象。此外还有利的 是这些产品中具有好的颜料可分散性。专利技术详述本专利技术的一个方面涉及化妆用和/或药用制剂，其含有0.1-80重量％的 选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类。本专利技术一个优选的方面涉及化妆用和/或药用制剂，其含有0.1-80重量 %的选自Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类。重量％以化妆用和/或药用制剂的总重量计。作为烃类是指仅由碳和氢构成的有机化合物。它不仅包含环状的而且 包含非环状的(=脂肪族的)化合物。它包含饱和的化合物以及单不饱和或多 不饱和化合物。该烃类可以是直链或支链的。根据碳原子在烃类中的数量 可以将烃类分成奇数的烃类(例如壬烷、十一烷、十三烷)或偶数的烃类(例 如辛烷、十二烷、十四烷)。根据分支类型可分成直链(无分支)或者支链的 烃类。饱和的、脂肪族的烃类还可称为石蜡。术语"CX-烃类，，包括C数为X(其中X为整数)的烃类，所以例如术语 Cll烃类包括所有C数为11的烃类。术语"碳数"或"c数"指所有存在于烃 中的碳原子。由此，C数对于十一烷而言为11或对于十三烷而言为13。本专利技术既包括只含有一种上述烃类的化妆用和/或药用制剂，还包括含 有上述烃类的任意混合物的化妆用和/或药用制剂。在本专利技术优选的实施方式中，化妆用和/或药用制剂含有选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的直链烃类。在本专利技术优选的实施方式中，化妆用和/或药用制剂含有选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的饱和烃类。在本专利技术优选的实施方式中，化妆用和/或药用制剂含有选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的饱和直链烃类。在本专利技术优选的实施方式中，化妆用和/或药用制剂含有选自正庚烷、 正壬烷、正十一烷、正十三烷、正十五烷、正十七;^克、正十九烷、正二十 一烷和正二十三烷的烃类。在本专利技术特别优选的实施方式中，化妆用和/或药用制剂含有选自正十 一烷、正十三烷、正十五烷、正十七烷、正十九烷、正二十一烷和正二十 三烷的烃类。下表列出优选使用的烃类的重要物化性质<table>table see original document page 5</column></row><table>化妆用和/或药用制剂还可以含有其它的烃类，如石蜡。优选的是，化妆用和/或药用制剂含有大于50重量％,尤其大于60重量％,尤其大于70 重量％，尤其大于80重量％,尤其大于85重量％，尤其大于卯重量％,尤 其大于95重量％的选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类，以制剂含有的烃类的总和计。参考量"烃类的总和"包括在化妆用和/或药用制剂中含有的所有烃类， 与碳数无关。本专利技术的另 一个方面涉及生产化妆用和/或药用制剂的方法，其中将选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类加入适合化妆 用和/或药用的载体中。本专利技术的另一个方面涉及选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、C21和C23的烃类在化妆用和/或药用制剂中的用途，特别是作为油体和/ 或分散剂的用途。本专利技术的另一个方面涉及选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类在护理皮肤和/或毛发的化妆用制剂中的用途。本专利技术的另一个方面涉及选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类在防晒的化妆用制剂中的用途。本专利技术的另一个方面涉及选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类在装饰用化妆品制剂如唇膏、润唇膏、眼影、睫毛膏 (Wimperntuschen)(睫毛油(Mascara))、眼线笔(Lidstifte)(化妆墨(Kajal))、指 曱油以及在各种化妆制剂(粉、乳霜、粉底、遮瑕霜等)中的用途。本专利技术的另一个方面涉及选自C7、 C9、 Cll、 C13、 C15、 C17、 C19、 C21和C23的烃类在清洁皮肤和/或毛发的制剂如洗发水、沐浴露、沐浴精 华(Badezusatze)、护发素(Conditioner)等中本文档来自技高网...

【技术保护点】
化妆用和／或药用制剂，含有０．１－８０重量％的选自Ｃ７、Ｃ９、Ｃ１１、Ｃ１３、Ｃ１５、Ｃ１７、Ｃ１９、Ｃ２１和Ｃ２３的烃类。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：马库斯迪尔克，乔基姆里克特，
申请(专利权)人：考格尼斯知识产权管理有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]