光扫描型传感器制造技术

本发明专利技术提供一种光扫描型传感器，能够抑制扫描光与反射光之间的相互干涉，能够进行高精度的物体检测。为了该目的，具有：投光元件（２），其对光进行投射；光扫描用促动器（３），其经由对光进行反射的反射镜（３３）将投光元件（２）所投射的光射出，并通过使反射镜（３３）摇动对该射出的光进行扫描；受光元件（４），其经由反射镜（３３），对光扫描用促动器（３）射出的扫描光被外部物体反射而得到的发射光进行接收；反射镜（３３），具有：第１表面（３３ａ），其对投光元件（２）投射的光进行反射，并将该反射后的光作为扫描光射出到外部；第２表面（３３ｂ），其平行于第１表面（３３ａ）并且在反射区域不连续，对被外部物体反射而得到的反射光进行反射从而向受光元件（４）照射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【0001】本专利技术涉及一种通过对所射出的光进行扫描，并且对所扫描的光的被外部物体反射而得到的反射光进行受光而进行物体的检测的光扫描型传感器。
技术介绍
【0002】以往，对激光等的光进行扫描的光扫描装置，在雷达、扫描仪、打印机、打标机(Marker)等各种领域中使用。作为实现这种光扫描装置的技术，周知存在如下的技术，即：通过电动机的驱动使1枚可动反射镜进行摆动或者旋转运动，将来自规定光源的光向可动反射镜照射，对该照射的光通过可动反射镜进行反射来对光进行扫描(例如，参照专利文献1)。将该技术应用于物体的检测的情况下，可动反射镜具有对扫描光的被外部物体反射而得到的反射光进行反射，并向规定的受光机构照射的功能。【0003】[专利文献1]国际公开第02/008818号公报【0004】但是，在上述的以往技术中，由于通过使用同一个可动反射镜，进行向扫描光的外部的射出与向反射光的受光机构的照射，因此存在扫描光与反射光之间产生相互干涉的可能性。其结构，有可能对物体的检测精度造成影响。
技术实现思路
【0005】本专利技术是鉴于上述问题而进行的，其目的是提供一种能够对扫描光与-->发射光之间的相互干涉进行抑制，并能够进行高精度的物体检测的光扫描型传感器。【0006】为了解决上述问题，并达成目的，本专利技术中的光扫描型传感器，其特征在于，一种光扫描型传感器，其特征在于，具有：投光机构，其投射光；光扫描用促动器，其经由对光进行反射的反射镜将所述投光机构所投射的光射出，并通过所述反射镜摆动而对该射出的光进行扫描；受光机构，其经由所述反射镜，对所述光扫描用促动器射出的扫描光被外部物体引起的反射光，进行受光；所述反射镜，具有：第1表面，其对所述投光机构投射的光进行反射并将该反射后的光作为所述扫描光而射出到外部；第2表面，其平行于所述第1平面且在反射区域不连续，对所述反射光进行反射从而向受光机构照射。【0007】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述第1表面以及第2表面，沿着与所述反射镜摆动的方向相垂直的方向排列。【0008】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述投光机构与所述第1表面相面对，另一方面，所述受光机构与所述第2表面相面对。【0009】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，还具有：相互干涉控制机构，其介于所述投光机构与所述受光机构之间，并所述扫描光与所述反射光的相互干涉进行抑制。【0010】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述第1表面与所述第2表面之间齐平，两者之间没有高低差。【0011】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述投光机构与所述第1表面的距离，比所述受光机构与所述第2表面之间-->的距离更小。【0012】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述光扫描用促动器，具有：可动部，其支撑所述反射镜，并能够与所述反射镜一起移动；多个板簧，其形成薄板状，长度方向的一端部被固定并且长边方向的另一端部安装于所述可动部；电磁驱动机构，其含有：磁体，其产生磁场；磁轭，其一部层叠于所述磁体，与所述磁体一起形成封闭的磁路；线圈，其保持于所述可动部，并位于所述磁体与所述磁轭之间的间隙内，开口面大致与所述磁体和所述磁轭的层叠方向相垂直，所述电磁驱动机构通过施加于所述线圈的电磁力来驱动所述可动部。【0013】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述线圈呈如下形状：即与所述开口面垂直的方向的高度比与所述开口面平行的方向的任意的宽度小的扁平的形状。【0014】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述磁轭，具有2个弧状部，该2个弧状部具有2个呈半圆环形状的表面，该表面彼此平行地相面对；所述反射镜，在所述弧状部的外缘近旁沿着该外周移动。【0015】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述磁体，具有与所述磁轭所具有的所述弧状部的表面呈大致相同形状的半圆环形状；并且，所述磁体被层叠且粘着于所述2个弧状部中的一个的弧状部的表面、即与另一个的弧状部相面对的表面。【0016】再有，本专利技术中的光扫描型传感器的特征在于，在上述的专利技术中，所述多个板簧配并列配置，各板簧在不弯曲的状态下，相互对应的表面彼此通过相同平面，并且各自的长边方向彼此大致平行；所述磁体、所述磁轭以及所述线圈，位于所述多个板簧中相邻的任意2个的板簧之间。【0017】-->根据本专利技术，对光进行扫描的光扫描用促动器所具备的反射镜具有：第1表面，其将投光机构所投射的光作为扫描光向外部射出；第2表面，其与该第1表面平行并且在反射区域不连续，并将第1表面所射出的光的反射光向受光机构反射。从而能够抑制扫描光与反射光之间的相互干涉，可以提供能够进行高精度的物体检测的光扫描型传感器。附图说明【0018】图1是表示本专利技术的一实施方式所涉及的光扫描型传感器的主要部分的结构的立体图。图2是从图1的向视A方向观测到的光扫描型传感器的平面图。图3是示意地表示含有本专利技术的一实施方式所涉及的光扫描型传感器的物体检测装置的功能结构的图。图4是说明光扫描用促动器的动作的图。【0019】图中：1-光扫描型传感器，2-投光元件，3-光扫描用促动器，4-受光元件，5-投光透镜，6-聚光透镜，7-保持构件，8-遮光板，9-振荡电路，10-受光电路，11-控制电路，31a、31b-板簧，32-固定构件，33-反射镜，33a-第1表面，33b-第2表面，33c-开口部，34-磁轭，34a、34b-弧状部，34c-连结部，35-磁体，36-线圈，37-螺钉构件，38-基底构件，39-构架构件，39a-板簧安装部，39b-反射镜支撑部，39c-线圈载置部，40-移动量检测部，100-物体检测装置，311a、311b-电极端子部，312a、312b-切口部。具体实施方式【0020】下面，结合附图对用于实施本专利技术的最佳方式(下面，称为“实施方式”)进行说明。图1是表示本专利技术一实施方式所涉及的光扫描型传感器的主要部分的结构的图。另外，图2是从图1的向视A方向观测的平面图。再有，图3是示意地表示含有本专利技术的实施方式所涉及的光扫描型传感器-->的、对规定的范围内的物体进行检测的物体检测装置的功能结构的图。【0021】光扫描型传感器1，具有：投光元件2，其对光进行投光；光扫描用促动器3，其将投光元件2所投射的光射出，并在规定的范围进行扫描；受光元件4，其对扫描光经由光扫描用促动器3被外部的物体反射从而返回的反射光进行受光。投光元件2例如是激光二极管，受光元件4例如是光敏二极管。【0022】另外，光扫描型传感器1，具有：投光透镜5，其将投光元件2所投射的光作为光束照射至光扫描用促动器3；聚光透镜6，其对经由光扫描用促动器3传播进来的来自外部的反射光进行聚光；保持构件7，其对投光元件2以及受光元件4进行收容保持。投光透镜5以及聚光透镜6以沿着保持部7的上下方向(图1的上下方向)排列的状态从保持构件7的表面分别露出。投光元件2以及投光透镜5构成投光机构，受光元件4以及聚光透镜6构成受光机构。【0023】如图1所示，在保持构件7的表面中露出投光透镜5以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光扫描型传感器，其特征在于，　具有：　投光机构，其投射光；　光扫描用促动器，其经由对光进行反射的反射镜将所述投光机构所投射的光射出，并通过所述反射镜摆动而对该射出的光进行扫描；　受光机构，其经由所述反射镜，对所述 光扫描用促动器射出的扫描光被外部物体引起的反射光，进行受光；　所述反射镜，具有：　第１表面，其对所述投光机构投射的光进行反射并将该反射后的光作为所述扫描光而射出到外部；　第２表面，其平行于所述第１平面且在反射区域不连续，对 所述反射光进行反射从而向受光机构照射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-6-12 155436/20071、一种光扫描型传感器，其特征在于，具有：投光机构，其投射光；光扫描用促动器，其经由对光进行反射的反射镜将所述投光机构所投射的光射出，并通过所述反射镜摆动而对该射出的光进行扫描；受光机构，其经由所述反射镜，对所述光扫描用促动器射出的扫描光被外部物体引起的反射光，进行受光；所述反射镜，具有：第1表面，其对所述投光机构投射的光进行反射并将该反射后的光作为所述扫描光而射出到外部；第2表面，其平行于所述第1平面且在反射区域不连续，对所述反射光进行反射从而向受光机构照射。2、根据权利要求1所述的光扫描型传感器，其特征在于，所述第1表面以及第2表面，沿着与所述反射镜摆动的方向相垂直的方向排列。3、根据权利要求2所述的光扫描型传感器，其特征在于，所述投光机构与所述第1表面相面对，另一方面，所述受光机构与所述第2表面相面对。4、根据权利要求1～3中任意一项所述的光扫描型传感器，其特征在于，还具有：相互干涉控制机构，其介于所述投光机构与所述受光机构之间，并所述扫描光与所述反射光的相互干涉进行抑制。5、根据权利要求1～4中任意一项所述的光扫描型传感器，其特征在于，所述第1表面与所述第2表面之间齐平，两者之间没有高低差。6、根据权利要求1～5中任意一项所述的光扫描型传感器，其特征在于，所述投光机构与所述第1表面的距离，比所述受光机构与所述第2表面之间的距离更小。7、根据权利要求1～6中任意一项所述的光扫...

【专利技术属性】
技术研发人员：重松良平，今村州，平田贵史，
申请(专利权)人：日本发条株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]