【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及lele(光刻-蚀刻-光刻-蚀刻)技术，更具体地说，它涉及一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法。
技术介绍
1、标准单元版图设计是数字集成电路设计流程中的关键环节，直接影响整个芯片的性能、功耗和面积(performance，power，area，简称ppa)。在当前的集成电路设计实践中，标准单元库中的版图设计主要依赖于人工操作。随着工艺技术的不断进步，设计规则变得日益复杂，同时下游应用对定制化标准单元的需求也在不断增加，导致标准单元库中的单元数量接近千个级别，这使得完全依赖人工完成所有标准单元的版图设计变得极为困难，同时对标准单元ppa的要求也在提高。
2、随着深度强化学习的快速发展，应用于集成电路设计领域的先进技术层出不穷。近年来，自动化标准单元生成工具，例如bonn大学的j.schneider[1]设计的基于强化学习的bonncell和nvidia公司的h.ren[2]等人设计的nvcell，能够在特定工艺库下生成一批标准单元版图并没有drc违例。然而，一个显著的挑战依然存在：对于工艺库下的所有...
【技术保护点】
1.一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，该方法为：
2.根据权利要求1所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，所述源漏共用操作为：
3.根据权利要求1所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，所述源漏共用操作为：
4.根据权利要求3所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，通过模拟退火算法对组合顺序进行优化的步骤为：
5.根据权利要求4所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，所述目标函数X...
【技术特征摘要】
1.一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，该方法为：
2.根据权利要求1所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，所述源漏共用操作为：
3.根据权利要求1所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，所述源漏共用操作为：
4.根据权利要求3所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，通过模拟退火算法对组合顺序进行优化的步骤为：
5.根据权利要求4所述的一种面向功耗面积可切换的标准单元版图自动生成方法，其特征在于，所述目标函数x的得分的计算公式为：
6.根据权利要求5所述的一种面向功耗面积可切换...
【专利技术属性】
技术研发人员：李斌，雷宗翰，吴朝晖，黄文礼，秦朝政，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：
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