【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种静态ct的射线源焦点位置校正方法，同时也涉及相应的射线源焦点位置校正系统，属于辐射成像。
技术介绍
1、静态ct的射线源由多个射线源组成，呈圆环状分布。每个射线源的焦点位置需要在xy平面上共面，但由于射线源管芯在制造时存在约±1.5mm的误差，安装后的射线源焦点可能出现较大偏差。这种偏差会影响射线源与限束器、探测器之间的几何关系，从而增加静态ct校准的难度。
2、射线源焦点与探测器在理论中心的重合度直接影响重建图像的质量。在某些情况下，静态ct的射线源数量可能多达24个，因此需要确保每个射线源焦点与探测器在理论中心重合，误差控制在±1个像素范围内。然而，由于静态ct需要同时对多个球管的位置进行测量和调整，并且探测器位置与球管位置存在互相依赖关系，这使得校准过程变得更加复杂。
3、基于以上问题，需要开发一种简便的射线源焦点位置校正方法，以有效解决多球管系统中球管安装调整过程中出现的安装误差。这种方法需要在保证校准精度的同时，提高校准效率，并确保在复杂的光路配置下，所有射线源与探测器的几何关系能够保
【技术保护点】
1.一种静态CT的射线源焦点位置校正方法，其特征在于包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的射线源焦点位置校正方法，其特征在于，所述针对每一个射线源，基于所述射线源对应的一组测试图像，计算所述测试工装在预设的柱坐标系内的旋转角度和z向高度z，具体包括：
3.如权利要求2所述的射线源焦点位置校正方法，其特征在于，所述基于所述测试工装的旋转角度和z向高度z，初步计算所述射线源在所述柱坐标系内的粗算旋转角度，具体包括：
4.如权利要求3所述的射线源焦点位置校正方法，其特征在于，所述基于所述射线源在所述柱坐标系内的粗算旋转角度，精确计算所述射...
【技术特征摘要】
1.一种静态ct的射线源焦点位置校正方法，其特征在于包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的射线源焦点位置校正方法，其特征在于，所述针对每一个射线源，基于所述射线源对应的一组测试图像，计算所述测试工装在预设的柱坐标系内的旋转角度和z向高度z，具体包括：
3.如权利要求2所述的射线源焦点位置校正方法，其特征在于，所述基于所述测试工装的旋转角度和z向高度z，初步计算所述射线源在所述柱坐标系内的粗算旋转角度，具体包括：
4.如权利要求3所述的射线源焦点位置校正方法，其特征在于，所述基于所述射线源在所述柱坐标系内的粗算旋转角度，精确计算所述射线源所述柱坐标系内的精算旋转角度具体包括：
5.如权利要求4所述的射线源焦点位置校正方法，其特征在于，所述基于所述测试工装的旋转角度和z向高度z...
【专利技术属性】
技术研发人员：李剑琛，
申请(专利权)人：北京纳米维景科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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