【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于碳化硅颗粒加工，具体涉及一种高纯碳化硅颗粒超声清洗设备及方法。
技术介绍
1、这里的陈述仅提供与本专利技术相关的
技术介绍
，而不必然地构成现有技术。
2、碳化硅(sic)是一种应用广泛的第三代半导体材料，其拥有宽禁带、高击穿场强、高电子迁移率等特点，因此广泛应用于新能源汽车、电子电力及航空航天领域。碳化硅单晶生长工艺中，碳化硅合成料一般由硅粒和石墨粉直接合成。在经过加工过程后，颗粒表面会附着大量石墨、细微灰尘等杂质，碳化硅合成料的纯度直接影响碳化硅晶体的质量和性能。因此，需要在超纯水和超声清洗的作用下将附着于碳化硅颗粒表面的杂质清洗干净。
3、目前，常见的清洗方法包括机械搅拌清洗、化学清洗及超声波清洗等，其中超声波清洗应用较为广泛。然而，现有技术仍存在以下问题：
4、1、传统超声清洗设备多采用固定式清洗槽，颗粒堆积导致清洗不均匀，且难以有效分离轻质漂浮杂质（如石墨）和沉降性杂质，导致清洗效率较低。
5、2、现有设备缺乏针对不同杂质的优化清洗模式，超声波频率固定，无法适配石墨（需...
【技术保护点】
1.一种高纯碳化硅颗粒超声清洗设备，其特征在于，包括清洗槽，所述清洗槽内水平设置滚筒，所述清洗槽的底部设置超声波发生器；所述滚筒内放置待清洗碳化硅颗粒，且所述滚筒的侧面和底面均匀开设有网孔，所述网孔的孔径小于碳化硅颗粒的粒径；所述超声波发生器对滚筒内的碳化硅颗粒进行超声清洗，所述滚筒通过滚筒驱动系统驱动旋转，所述滚筒内设置喷淋水路，所述喷淋水路使滚筒内漂浮的杂质随表层流场定向迁移，以将脱离的石墨和灰尘排出滚筒。
2.如权利要求1所述的高纯碳化硅颗粒超声清洗设备，其特征在于，所述滚筒驱动系统包括直角齿轮减速电机、驱动齿轮、齿轮从动辊，所述直角齿轮减速电机的输...
【技术特征摘要】
1.一种高纯碳化硅颗粒超声清洗设备，其特征在于，包括清洗槽，所述清洗槽内水平设置滚筒，所述清洗槽的底部设置超声波发生器；所述滚筒内放置待清洗碳化硅颗粒，且所述滚筒的侧面和底面均匀开设有网孔，所述网孔的孔径小于碳化硅颗粒的粒径；所述超声波发生器对滚筒内的碳化硅颗粒进行超声清洗，所述滚筒通过滚筒驱动系统驱动旋转，所述滚筒内设置喷淋水路，所述喷淋水路使滚筒内漂浮的杂质随表层流场定向迁移，以将脱离的石墨和灰尘排出滚筒。
2.如权利要求1所述的高纯碳化硅颗粒超声清洗设备，其特征在于，所述滚筒驱动系统包括直角齿轮减速电机、驱动齿轮、齿轮从动辊，所述直角齿轮减速电机的输出轴与驱动齿轮固定连接，所述驱动齿轮与齿轮从动辊上的齿轮啮合，所述齿轮从动辊设置有两个，两个齿轮从动辊上下对称设置。
3.如权利要求2所述的高纯碳化硅颗粒超声清洗设备，其特征在于，所述滚筒位于两个齿轮从动辊之间，每个齿轮从动辊上设置有两个o型圈，所述滚筒两侧与四个o型圈相对应的位置设置有两个环形滚道，所述o型圈位于环形滚道内，通过o型圈与环形滚道之间的摩擦力驱动滚筒转动。
4.如权利要求1所述的高纯碳化硅颗粒超声清洗设备，其特征在于，所述喷淋水路通过推拉喷淋系统驱动，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王丽焕，李刚，徐现刚，胡小波，陈秀芳，谢雪健，郁万成，杨祥龙，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：
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