【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体设备,尤其涉及一种气体质量流量控制器。
技术介绍
1、mfc为气体质量流量控制器,通过测量流经的气体流量,实现自动控制气体流量,并根据用户需求进行流量设定的功能。
2、在现有技术中,常用的mfc为温度式,相比于压力式,其具有不接触气体即可测量气体流量的显著优点,其大部分气体都流经主管,只有一小部分经过副管后进行流量监测,mfc的传感器管分主管和副管,副管具有温度传导快且均匀,因此准确且反应快的优点,但由于其直径偏小,也存在易堵塞的问题;且易受热虹吸影响,气体易回流,对气体流量检测结果产生干扰。
3、因此,有必要提供一种新的气体质量流量控制器,以解决现有技术中存在的上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种气体质量流量控制器,能改善其管道易堵塞的问题,并减小管道内气体易受热虹吸影响而导致回流的可能。
2、为实现上述目的,本技术的技术方案如下:
3、一种气体质量流量控制器,包括:
4、主管,用于通过气体;<
...【技术保护点】
1.一种气体质量流量控制器,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的气体质量流量控制器,其特征在于,所述冷却装置(400)包括多个冷却器(410)和第一传感器(420),多个所述冷却器(410)和所述第一传感器(420)沿所述进气管(210)至所述排气管(220)方向依次固定设置于所述副管(200)的侧壁,所述冷却器(410)用于对所述副管(200)内的气体降温,所述第一传感器(420)用于监测气体经过所述冷却器(410)后的温度。
3.根据权利要求2所述的气体质量流量控制器,其特征在于,所述副管(200)内设置有单向阀(500),所述单向
...【技术特征摘要】
1.一种气体质量流量控制器,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的气体质量流量控制器,其特征在于,所述冷却装置(400)包括多个冷却器(410)和第一传感器(420),多个所述冷却器(410)和所述第一传感器(420)沿所述进气管(210)至所述排气管(220)方向依次固定设置于所述副管(200)的侧壁,所述冷却器(410)用于对所述副管(200)内的气体降温,所述第一传感器(420)用于监测气体经过所述冷却器(410)后的温度。
3.根据权利要求2所述的气体质量流量控制器,其特征在于,所述副管(200)内设置有单向阀(500),所述单向阀(500)设置于所述第一传感器(420)与所述排气管(220)之间;
4.根据权利要求3所述的气体质量流量控制器,其特征在于,所述单向阀(500)包括:
5.根据权利要求4所述的气体质量流量控制器,其特征在于,所述排气管(220)与所述副管(200)之间具有一定夹角,所述弹性件(530)一端与所述排气管(220)内壁连接,另一端与所述封堵件(520)连接。
6.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:张琦,赵建蕾,朱思伦,
申请(专利权)人:芯恩青岛集成电路有限公司,
类型:新型
国别省市:
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