一种日盲紫外滤光片结构及其制备方法技术

本发明专利技术属于光学薄膜制造技术领域，具体公开一种日盲紫外滤光片结构及其制备方法。本发明专利技术中内增透匹配层中交替的HfO2层和SiO2层提高了200nm～300nm波段的透过率；金属诱导层中的第一Al层和第二Al层有效反射300nm以上波段的光，降低其透过率；外增透匹配层通过多层SiO2和HfO2的设计，进一步优化200nm～300nm波段的透过，并抑制300nm～900nm波段的光通过，确保高光谱稳定性。本发明专利技术提供的日盲紫外滤光片结构不仅能提高光谱的稳定性，还能确保200nm～300nm波段的高透过率，减少在300nm～900nm波段的光透过，满足日盲紫外滤光片对光谱的精确控制需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学薄膜制造，特别涉及一种日盲紫外滤光片结构及其制备方法。

技术介绍

1、由于臭氧等气体成分的强吸收和散射作用，太阳光中200nm～280nm紫外波段区间(也称“日盲”紫外波段)几乎无法到达地球表面，因此，在该波段进行成像探测时，相对于其他成像探测技术，紫外成像探测技术具有背景噪声小、虚警率低、隐蔽性强、结构简单和用途广泛等优点，其在导弹预警、制导、紫外通讯、生化分析、生物医药分析、公安侦察等诸多领域具有极大的商业和军事应用价值。为了有效屏蔽探测器对“日盲”紫外波段以外其它波段光的响应，紫外带通滤光片作为紫外探测与成像系统的核心元器件，直接影响到探测成像系统性能的优劣。

2、目前，高性能日盲紫外滤光片技术实现途径主要有两种：干涉法和吸收法。其中基于干涉原理的干涉型滤光片(由高、低折射率介质膜或金属膜与介质膜交替镀制)具有环境适应性强、调控手段灵活的特点，得到国内研究机构的广泛研究。例如已有研究人员公开了一种由三片基片组成的全介质日盲紫外滤光片，不需要一片或多片聚合物材料；添加反射抑制层，有效降低了诱导结构滤光片在可见光区的反射率；本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种日盲紫外滤光片结构，其特征在于，依次包括基底、内增透匹配层、金属诱导层和外增透匹配层；

2.如权利要求1所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述基底为ZWB3基底。

3.如权利要求1所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述交替沉积的SiO2层和HfO2层包括四层SiO2层和三层HfO2层。

4.如权利要求3所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述交替沉积的SiO2层和HfO2层包括如下排列结构：第三SiO2层、第二HfO2层、第四SiO2层、第三HfO2层、第五SiO2层、第四HfO2层和第六SiO2层。

5.如权利要求1或2...

【技术特征摘要】

1.一种日盲紫外滤光片结构，其特征在于，依次包括基底、内增透匹配层、金属诱导层和外增透匹配层；

2.如权利要求1所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述基底为zwb3基底。

3.如权利要求1所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述交替沉积的sio2层和hfo2层包括四层sio2层和三层hfo2层。

4.如权利要求3所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述交替沉积的sio2层和hfo2层包括如下排列结构：第三sio2层、第二hfo2层、第四sio2层、第三hfo2层、第五sio2层、第四hfo2层和第六sio2层。

5.如权利要求1或2所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述zwb基底的厚度为1nm～10nm；和/或

6.如权利要求1所述的日盲紫外滤光片结构，其特征在于，所述第三sio2层的厚度为81.98nm～85.98nm；和/或

7.一种权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛丽青，尚鹏，张宏玲，麻皓月，张振雲，杨海，曹波，马远飞，刘晓华，
申请(专利权)人：有研国晶辉新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：