【技术实现步骤摘要】
本专利技术的例示性的实施方式涉及氮化硼膜的成膜方法和成膜装置。
技术介绍
1、专利文献1公开了一种具有在基材的表面形成的氮化硼（bn）的覆盖层的复合材料。该复合材料中的bn覆盖层，具有b/n（原子比）为1.5～9的非晶bn层作为与基材表面接触的基底层，并且在最外层具有立方晶bn。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特公平6-2938号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术问题
2、本专利技术提供一种能够改善六方晶氮化硼膜与基片的基底区域的密合性的成膜技术。
3、用于解决技术问题的手段
4、在一个例示性的实施方式中，提供一种氮化硼膜的成膜方法。成膜方法包括工序（a），在基片的基底区域上形成非晶氮化硼的第一膜。工序（a）包括工序（a1），向基片供给含有环硼氮烷化合物的第一处理气体和第一等离子体化学种。成膜方法包括工序（b），在第一膜上形成六方晶氮化硼的第二膜。工序（b）包括工序（b1），向基片供给含...
【技术保护点】
1.一种氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于：
3.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于：
4.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于：
5.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，所述工序（a）还包括：
6.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，所述工序（b）还包括：
7.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，所述工序（a）还包括：
8.根据...
【技术特征摘要】
1.一种氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于：
3.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于：
4.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于：
5.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，所述工序（a）还包括：
6.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，所述工序（b）还包括：
7.根据权利要求1或2所述的氮化硼膜的成膜方法，其特征在于，所述工序（a）还包括：
8.根据权利要求1或2所述的氮化...
【专利技术属性】
技术研发人员：酒井宗一朗，后藤一希，加藤良裕，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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