一种反射式微焦点X射线管及成像系统技术方案

技术编号:46054028 阅读:6 留言:0更新日期:2025-08-11 15:41
本技术提供一种反射式微焦点X射线管及成像系统,该X射线管的出射口设有两层出射窗,第一出射窗盖设有过滤片,沿电子束的运动方向,过滤片的厚度先逐渐增加后逐渐减小,此处采用非对称、非均匀厚度的楔块型结构替代传统的均匀厚度的平板型结构,对于光强较强和光强较弱的位置,分别利用过滤片较厚和的较薄的区域进行过滤,这样可以使得X射线管出射的X射线的光强分布更加匀整,提高光强均匀性。第二出射窗开设于金属罩的端部,金属罩安装于阳极靶材附近,用于捕获靶材散射的电子,减少杂散射线的产生,提高X射线束的质量;第二出射窗用于减小金属罩对出射X射线的衰减,同时安装的透射片能够起到改善阳极场强分布和过滤低能X射线的作用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及x射线管,特别涉及一种反射式微焦点x射线管及成像系统。


技术介绍

1、x射线管根据阳极结构的不同,可分为反射式和透射式x射线管。反射式x射线管的阳极靶面是与入射电子束成一定倾斜角度的,这样可以增加散热面积,并且通常基底采用导热系数较高的无氧铜材料,使得整个管芯的散热效率得到进一步提升,但缺点是存在足跟效应(heel effect),使得x射线管辐射范围内的光强分布不均匀,靠近阳极靶一端的x射线强度要明显低于靠近阴极一端的x射线强度。

2、现有的技术为了改善足跟效应的影响,通常采用增大焦物距(focus-to-object)、阳极靶的靶角和外置平板型过滤片的方法。然而,对于一些分辨率要求较高且系统体积有严格要求的成像系统而言,焦物距需要保持在较小的范围内,因此不适用。增大靶角虽然可以有效改善足跟效应,但是对焦点尺寸影响较大,对于分辨率要求较高的x射线管而言,靶角需要保持在较小范围内,因此也不适用。相较于前两种方法,外置平板型过滤片的方法具有不改变原有成像系统几何布置和x射线管配置的优点。目前该方法多是用户自行添加外置的平板型过滤片,然而本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种反射式微焦点X射线管,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的反射式微焦点X射线管,其特征在于:还包括玻壳,所述玻壳同轴连接于所述导电壳体与第一端面相对的第二端面,所述玻壳的轴线处设有阳极杆,所述阳极杆延伸至导电壳体的第一端部为朝向阴极的斜面,所述靶材位于斜面上。

3.根据权利要求2所述的反射式微焦点X射线管,其特征在于:还包括套设于所述阳极杆第一端部的阳极罩,所述阳极罩靠近第一出射窗且垂直于轴线的端面为第二出射窗,第二出射窗盖设有透射片,所述阳极罩靠近阴极的侧壁区域设有开口,以供电子束穿过。

4.根据权利要求3所述的反射式微焦点X射线管,...

【技术特征摘要】

1.一种反射式微焦点x射线管,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的反射式微焦点x射线管,其特征在于:还包括玻壳,所述玻壳同轴连接于所述导电壳体与第一端面相对的第二端面,所述玻壳的轴线处设有阳极杆,所述阳极杆延伸至导电壳体的第一端部为朝向阴极的斜面,所述靶材位于斜面上。

3.根据权利要求2所述的反射式微焦点x射线管,其特征在于:还包括套设于所述阳极杆第一端部的阳极罩,所述阳极罩靠近第一出射窗且垂直于轴线的端面为第二出射窗,第二出射窗盖设有透射片,所述阳极罩靠近阴极的侧壁区域设有开口,以供电子束穿过。

4.根据权利要求3所述的反射式微焦点x射线管,其特征在于:所述透射片为铍片。

5.根据权利要求1所述的反射式微...

【专利技术属性】
技术研发人员:董笑瑜李伟伟倪盈盛胡文景
申请(专利权)人:奕瑞电真空技术南京有限公司
类型:新型
国别省市:

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