【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻胶氟硅引发剂，具体为一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统。
技术介绍
1、光刻胶氟硅引发剂是一种在光刻过程中使用的关键材料，主要用于半导体制造中的细微图形加工。光刻胶氟硅引发剂属于光刻胶的一种，其核心成分包括感光树脂、增感剂和溶剂。在光照下，光引发剂会吸收能量并触发化学反应，导致光刻胶发生交联或断裂等化学变化，从而在半导体材料表面形成所需的图像。
2、光刻胶氟硅引发剂在合成过程中会残留一定的水分和有机溶剂，这些杂质会影响其活性和稳定性，所以需要通过干燥处理，确保光引发剂的质量和活性，但是光刻胶氟硅引发剂在合成后，内部会掺杂一些杂质和不需要的成分，进入干燥机内后进行干燥会影响物料的纯度；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，以解决上述
技术介绍
中提出的光刻胶氟硅引发剂在合成过程中会残留一定的水分和有机溶剂，这些杂质会影响其活性和稳定性，所以需要通过干燥处理，确保光引发剂...
【技术保护点】
1.一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，包括底座(1)、过滤箱(2)和干燥桶(4)，所述过滤箱(2)和干燥桶(4)均固定设于底座(1)的上端，其特征在于：所述过滤箱(2)内部的上下均开设有插槽(201)，上下所述插槽(201)的内部均通过限位装置(9)固定安装有过滤板(7)，所述过滤箱(2)底端的一侧通过料管(5)与干燥桶(4)上端的一侧贯通连接，所述干燥桶(4)的内部通过电机(15)驱动连接有搅拌杆(21)，所述搅拌杆(21)的外表面等距离固定连接有若干个搅拌叶(22)；
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，其特征在于：上下两个所述插槽(20...
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，包括底座(1)、过滤箱(2)和干燥桶(4)，所述过滤箱(2)和干燥桶(4)均固定设于底座(1)的上端，其特征在于：所述过滤箱(2)内部的上下均开设有插槽(201)，上下所述插槽(201)的内部均通过限位装置(9)固定安装有过滤板(7)，所述过滤箱(2)底端的一侧通过料管(5)与干燥桶(4)上端的一侧贯通连接，所述干燥桶(4)的内部通过电机(15)驱动连接有搅拌杆(21)，所述搅拌杆(21)的外表面等距离固定连接有若干个搅拌叶(22)；
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，其特征在于：上下两个所述插槽(201)相互靠近的一侧，且位于过滤箱(2)的内部均开设有对称的活动腔(203)，两个所述活动腔(203)相互靠近的一侧之间，且位于过滤箱(2)的外表面开设有凹槽(202)，所述限位装置(9)设于活动腔(203)的内部，所述限位装置(9)包括活动杆(901)、限位板(902)和限位块(904)。
3.根据权利要求2所述的一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，其特征在于：上下两个所述活动腔(203)的内部均活动设有活动杆(901)，且活动杆(901)的一端活动贯穿活动腔(203)，并延伸至凹槽(202)的内部，所述限位板(902)固定连接于活动杆(901)位于活动腔(203)内部一端的。
4.根据权利要求3所述的一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，其特征在于：所述限位板(902)的一侧与活动腔(203)内壁的一侧之间固定连接有弹簧(903)，且弹簧(903)缠绕于活动杆(901)的外表面，所述限位块(904)固定连接于限位板(902)远离活动杆(901)的一侧。
5.根据权利要求4所述的一种光刻胶氟硅引发剂干燥系统，其特征在于：...
【专利技术属性】
技术研发人员：谭常乐，李宁，张晓雨，沙翔，张昊，
申请(专利权)人：江苏紫感材新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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